一种基于规则的版图修正方法技术

本发明专利技术涉及版图修正技术领域，具体涉及一种基于规则的版图修正方法，包括基于修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形，将最终修正后的图形写入版图完成版图修正，用户设置版图输入输出文件、层信息、修正规则、是否执行等信息，校验用户定义的修正规则是否符合约束，同时根据规则也会把约束做适当的校正，根据用户设置的修正规则，自动执行对应的函数，收集修正后的边、图形，并将结果写入到版图文件，从而解决设计图形因为线宽小于曝光波长产生光学影像退化现象，导致光刻图案相对于掩模版上的图案发生严重畸变的问题，同时解决现有基于设计规则进行版图修正方法的易用性问题。正方法的易用性问题。正方法的易用性问题。

【技术实现步骤摘要】
一种基于规则的版图修正方法


[0001]本专利技术涉及版图修正
，尤其涉及一种基于规则的版图修正方法。

技术介绍

[0002]随着工艺的不断进步，设计尺寸不断缩小，器件中最小线宽开始小于曝光波长，越来越逼近光刻投影系统的极限，光的衍射效应变得越来越明显，导致最终对设计图形产生光学影像退化，实际形成的光刻图案相对于掩模版上的图案发生严重畸变，比如晶圆表面成像相对于原始版图会出现拐角处圆化、线端缩短、线条宽度变窄等严重的不一致，最终在硅片上经过光刻形成的实际图形和设计图形不同，这种现象称为光学邻近效应。OPC软件的作用就是用来对OPE做矫正。
[0003]在光刻过程中会产生光学邻近效应，为了修正光学邻近效应，便产生了光学邻近效应修正技术(OPC)。随着工艺的进一步发展，光学临近效应修正已经成为光刻图形处理的关键步骤，变得必不可少。
[0004]光学邻近效应校正是最早的计算光刻技术。当晶圆上的线宽小于曝光波长时，必须对掩模上的图形做光学邻近效应修正。光学邻近效应修正中应用了一种被称为图像分割(Fracturing)的技术，将需要成像的图形划分成许多小块，并且利用衍射光束之间的相互干涉效应，在掩模板上将需要成像的图形的形状进行一些改变，并在转角等处添加或减少一些小块图形，这样就可以利用衍射效应来消除最终在晶圆上成型的图像转角等边缘处可能出现的图像边缘缺陷。B
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OPC首先于0.25μm技术节点被引入光刻工艺中，由于其简单和计算快速的特点被广泛使用。然而这种方法需要人为制定OPC规则，OPC软件根据事先确定的规则对设计图形做光学邻近效应修正。这种方法的关键是修正规则，它规定了如何对各种曝光图形进行修正。其形式与内容会极大的影响OPC数据处理的效率和修正的精度。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种基于规则的版图修正方法，旨在解决现有的设计图形因为线宽小于曝光波长产生光学影像退化现象，导致光刻图案相对于掩模版上的图案发生严重畸变的问题，同时解决现有基于设计规则进行版图修正方法的易用性问题。
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供了一种基于规则的版图修正方法，包括以下步骤：
[0008]编写版图的修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则；
[0009]基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形；
[0010]将所述最终修正后的图形写入所述版图完成版图修正。
[0011]其中，所述使用python语法编写版图修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则，包括：
[0012]使用python语法编写版图修正脚本中图形的自身和环境参数；
[0013]基于所述脚本和环境参数在规则表中查找图形所属类别；
[0014]根据所述所属类别对修正方法进行修正，得到修正规则。
[0015]其中，所述基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形，包括：
[0016]基于所述修正规则对图形的边进行修正，第一修正图；
[0017]基于所述修正规则对所述第一修正图的角进行修正，第二修正图；
[0018]基于所述修正规则对所述第二图形的线端进行修正，得到最终修正后的图形。
[0019]其中，所述基于所述修正规则对所述第一修正图的角进行修正，第二修正图，包括：
[0020]基于所述修正规则找出所述第一修正图内部符合约束条件的边；
[0021]对所述符合约束条件的边进行过滤，得到符合邻接约束条件的边；
[0022]将所述符合邻接约束条件的边按外部方向和指定大小展开为矩形；
[0023]对所述矩形进行填充后与所述图形合并，得到第二修正图。
[0024]其中，所述基于所述修正规则对所述第二图的线端进行修正，得到最终修正后的图形，包括：
[0026]基于所述修正规则找出所述第二修正图凸角端点数目为2的边；
[0027]对所述凸角端点数目为2的边进行过滤，得到符合长度约束条件的边；
[0028]对所述符合长度约束条件的边进行扩展，得到扩展后的边；
[0029]对所述扩展后的边分别向内和向外扩展为多边形；
[0030]将所述多边形与所述第二修正图合并，得到最终修正图。
[0031]本专利技术的一种基于规则的版图修正方法，使用python语法编写版图修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则，基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形，将所述最终修正后的图形写入所述版图完成版图修正，用户设置版图输入输出文件、层信息、修正规则、是否执行等信息，校验用户定义的修正规则是否符合约束，同时根据规则也会把约束做适当的校正，根据用户设置的修正规则，自动执行对应的函数，收集修正后的边、图形，并将结果写入到版图文件，从而解决现有的设计图形因为线宽小于曝光波长产生光学影像退化现象，导致光刻图案相对于掩模版上的图案发生严重畸变的问题，同时解决现有基于设计规则进行版图修正方法的易用性问题。
附图说明
[0032]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0033]图1是本专利技术提供的一种基于规则的版图修正方法的流程图。
[0034]图2是使用python语法编写版图修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则的流程图。
[0035]图3是基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形的流程图。
[0036]图4是基于所述修正规则对所述第一修正图的角进行修正，第二修正图的流程图。
[0037]图5是基于所述修正规则对所述第二图的线端进行修正，得到最终修正后的图形的流程图。
具体实施方式
[0039]下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。
[0040]请参阅图1至图5，本专利技术提供一种基于规则的版图修正方法，包括以下步骤：
[0041]S1编写版图的修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则；
[0042]S11使用python语法编写版图修正脚本中图形的自身和环境参数；
[0043]具体的，使用python语法编写版图修正脚本，脚本中指定图形的自身和环境参数，如线宽、间距等。
[0044]S12基于所述脚本和环境参数在规则表中查找图形所属类别；
[0045]具体的，预先建立图形修正的规则化表格，然后通过查表得到修正后的掩模图形，在规则表中查找图形所属的类别，修正规本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于规则的版图修正方法，其特征在于，包括以下步骤：编写版图的修正脚本对修正方法进行修正，得到修正规则；基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形；将所述最终修正后的图形写入所述版图完成版图修正。2.如权利要求1所述的一种基于规则的版图修正方法，其特征在于，所述使用python语法编写版图修正脚本，对修正方法进行修正，得到修正规则，包括：使用python语法编写版图的修正脚本中图形的自身和环境参数；基于所述脚本和环境参数在规则表中查找图形所属类别；根据所述所属类别对修正方法进行修正，得到修正规则。3.如权利要求2所述的一种基于规则的版图修正方法，其特征在于，所述基于所述修正规则对图形边、图形角和图形线端进行修正，得到最终修正后的图形，包括：基于所述修正规则对图形的边进行修正，第一修正图；基于所述修正规则对所述第一修正图的角进行修正，第二修正图；基于所述修正规则对所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘畅，董立松，马乐，
申请(专利权)人：南京诚芯集成电路技术研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：