【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及适于抗蚀剂的组合物及适用该组合物的干膜、 固化物以及印刷线路板，其中，该抗蚀剂用于通过激光振荡波长为400 ~ 410nm的激光振荡光源进行直接图案描绘、通过稀碱 性水溶液显影、将所形成的图案光固化和热固化的工序。
技术介绍
近年来，作为省资源或省能量这样的考虑环境的照相平版 印刷法，将激光作为光源的直接描绘方式(激光直接成像)被 实用化。该方法的特长为不必需掩模图案，可缩短制造工序和 大幅降低成本，适于多品种小批量、短交付期。直接描绘装置由于无法将现有的掩模图案曝光这样的曝光 部整面同时曝光，因而为了得到与现有的掩模图案曝光同等的 曝光时间而有必要选择高感光度的抗蚀剂和高功率的光源。进 而，现有的掩模图案曝光所使用的光源为金属离化物灯等波长 宽至300 ~ 500nm的光源，相对于此，直接描绘装置的光源和波 长大多使用气体激光、激光二极管、固体激光等，波长为355nm、 405證、488證。其中，最近，使用激光二极管的405nm的直接描绘装置受 到瞩目，作为该振荡波长的激光振荡光源，众所周知蓝紫激光 二极管。但是，蓝紫激光二极管单独作为用于直接图...
【技术保护点】
一种组合物，其特征在于，其为干燥涂膜形成后被激光曝光的组合物，其中，将波长４００ｎｍ的吸光度设为Ｌ４００、将波长４１０ｎｍ的吸光度设为Ｌ４１０时，曝光前干燥涂膜厚２５μｍ时，吸光度Ｌ４００为０．５－１．２、吸光度Ｌ４１０为０．０１－０．５，并且，吸光度Ｌ４００＞吸光度Ｌ４１０。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎阳子，有马圣夫，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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