印刷线路板的图形抗蚀法制造技术

一种在印刷线路板上绘制光抗蚀层或绝缘层图案的方法，所利用的两种光敏反应涂层由一光可处理的紫外光敏感层上覆一薄的未曝光未显影的带基银胶片组成。一台最好带八角形孔径的白光Ｘ－Ｙ绘图仪直接由ＣＡＤ系统驱动，使板上的胶片以所需图案曝光而不影响下伏的紫外光敏感层，再将板上的胶片显影，并在紫外光泛光灯曝光板时作为下伏紫外光层在该处的掩模。紫外光曝光后剥去胶片，用常规法处理有选择的聚合层。（*该技术在2007年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本申请涉及格兰蒙特(Grantmont)和莱克(Lake)题为“多层电路板制造法”的共同未决申请，申请号为742，747，申请日为1985年6月10日(与本申请同一天)，该申请已转让给本申请的受让人，并在这里加入参考资料。本专利技术一般涉及电气元件用的印刷线路板的制造，更具体地说，本专利技术涉及印刷线路板用的光学处理技术。过去二十年来，电子电路元件的前进中的集成化和小型化成为对印刷线路板技术极限的日益增长的挑战。印刷电路板或更确切地称为印刷线路板(PWB)在几个方面起着关键的作用。首先，如特殊封装的集成电路、电阻器等等电气元件被装在或载在扁平的坚固卡片状印刷板表面上。故印刷线路板起着支承元件的作用。其次，在印刷板的表面上使用化学刻蚀或涂覆的导体图案，使印刷线路板形成元件间的所需电气互连。此外，印刷线路板还包括起散热作用的金属区域。导体图案一般是采用光刻蚀敷铜箔的环氧树脂纤维玻璃基板形成的。将一层光敏抗蚀层涂敷到铜箔上，并通过一掩模(通常称为“原图”)用紫外(UV)光投射其上曝光以形成图案。曝过光的区域受到聚合作用。未起聚合作用的区域由化学溶液除去，留下铜的区域(即所需导体图案)位于剩余本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在印刷线路板基板上的光可处理层制作图案的方法，其特征包括：准备一块基板，其上层的光可处理材料对投射的第一光谱能量敏感，将一层对投射到基板的第二光谱能量敏感的未曝光、未显影的照相成像胶片涂敷在光可处理层上，用一个自动光绘图仪发 射的一束包括所说第二光谱但基本上排斥所说第一光谱的光束有选择地将基板上的所说胶片曝光，使胶片受到激发而不影响下伏的光可处理材料层，将基板上的胶片显影，通过在所说胶片层显影出的图像作为在该处的掩模，使光可处理层在基板上基本均匀地分布的 所说第一光谱中的能量下曝光，除去所说胶片层，以及处理所说光可处理层，从而可用低能量绘制创造出高分辨率...

【技术特征摘要】
及其等同物加以指出。权利要求1.一种在印刷线路板基板上的光可处理层制作图案的方法，其特征包括准备一块基板，其上层的光可处理材料对投射的第一光谱能量敏感，将一层对投射到基板的第二光谱能量敏感的未曝光、未显影的照相成像胶片涂敷在光可处理层上，用一个自动光绘图仪发射的一束包括所说第二光谱但基本上排斥所说第一光谱的光束有选择地将基板上的所说胶片曝光，使胶片受到激发而不影响下伏的光可处理材料层，将基板上的胶片显影，通过在所说胶片层显影出的图像作为在该处的掩模，使光可处理层在基板上基本均匀地分布的所说第一光谱中的能量下曝光，除去所说胶片层，以及处理所说光可处理层，从而可用低能量绘制创造出高分辨率的可检查在板掩模。2.权利要求1的方法，其特征在于除去所说胶片的所说步骤是通过将所说胶片剥离所说基板来完成的。3.权利要求1的方法，其特征在于曝光后处理所说光可处理层是通过化学方法除去所说光可处理层的已曝光或未曝光的部分来完成的。4.权利要求1的方法，其特征在于所说第一光谱是紫外光，而所说第二光谱是可见光。5.权利要求1的方法，其特征在于用一自动光绘图仪将所说胶片曝光的所说步骤包括备制一个导体图案的数字表示法和用所说数字表示法控制所说光绘图仪的准备步骤。6.权利要求5的方法，其特征在于所说光绘图仪是一个白光X-Y绘图仪。7.权利要求5的方法，其特征在于所说光绘图仪是一个带有可触发白光光源的光栅扫绘图仪。8.权利要求5的方法，其特征在于所说白光光源以八角形形状加到胶片上，扫描间距要使得相邻扫描的八角形的边彼此对准和基本上接触，以便形成的直边线条与扫描方向成0、45或90°的角度。9.权利要求1的方法，其特征在于所说胶片在所说光可处理层相邻处备有乳胶侧面。10.权利要求1的方法，其特征在于所说胶片是干银胶片。11.权利要求1的方法，其特征在于所说胶片是热可显影胶片。12.权利要求1的方法，其特征在于所说胶片在所说光可处理层相邻处备有乳胶侧面的热可显影胶片。13.一种为印刷线路板用的光可处理层的制作图案的方法，其特征包括将一层对投射的第一光谱能量敏感的光可处理层和一层对投射的第二光谱能量敏感的未曝光、未显影的照相成像胶片层层压在一起以形成一个组合层，将其上带有胶片层的所说组合层加到一块基板上，用一个自动光绘图仪发射的一束包括所说第二光谱但基本上排斥所说第一光谱的光束有选择地将所说胶片层曝光，使胶片受到激发而不影响下伏的光可处理材料层，将基板上的胶片显影，通过在所说胶片层中显影出的图像作为在该处的掩模，使光可处理层在基板上基本均匀地分布的所说第一光谱中的能量下曝光，除去所说胶片层，以及处理所说光可处理层，从而可用低能量绘制创造出高分辨率的可检查在板掩模。14.权利要求13中的方法，其特征在于除去所说胶片层的所说步骤是通过将所说胶片剥离所说基板来完成的。15.权利要求13的方法，其特征在于曝光后处理所说光可处理层是通过化学方法除去所说光可处理层的已曝光或未曝光部分。16.权利要求13的...

【专利技术属性】
技术研发人员：哈罗德莱克，保罗E格兰蒙特，
申请(专利权)人：福克斯保罗公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]