薄膜图案形成法、器件及其制法、液晶显示装置及其制法制造方法及图纸

一种薄膜图案形成方法，是在基板上涂布功能液形成薄膜图案的方法，其特征在于其中具有：在所述基板上形成与所述薄膜图案相应凹部的工序，和在所述凹部涂布所述功能液的工序。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜图案的形成方法、器件及其制造方法、液晶显示装置的制造方法、液晶显示装置、有源矩阵基板的制造方法、电光学装置及电子仪器。
技术介绍
具有电子电路和集成电路等使用的配线的器件的制造，例如可以采用光刻法(照相平板印刷法photolithography)。这种光刻法是预先在涂布了导电膜的基板上涂布被称为抗蚀剂的感光材料，对电路图案进行照射显影，根据抗蚀剂图案蚀刻导电膜，形成薄膜配线图案的。这种光刻法需要真空装置等大型设备和复杂工序，而且材料的使用效率也仅有百分之几的程度，几乎不得不全部废弃，制造成本高。针对这一点，有人提出采用从液体喷头以液滴状喷出液体材料的液滴喷出法，即所谓喷墨法在基板上形成配线图案的方法(例如参见专利文献1)。此方法直接在基板上根据图案涂布将金属粒子等导电性微粒分散后的作为功能液的配线图案用油墨，然后进行热处理或激光照射，将其转变成薄膜导电膜。采用这种方法的优点是无需光刻法，工艺得到大幅度简化，同时原材料的使用量也减少。另一方面，随着移动电话机等便携式仪器的普及，广泛采用薄型重量轻的液晶显示装置。这种液晶显示装置，是将液晶层夹在上基板与下基板之间的装置而成的。图48示出上述下基板的一个实例。如图48所示，下基板1构成为备有玻璃基板2、被配置在此玻璃基板2上互相交叉的栅极扫描电极3和源电极4、在同一玻璃基板2上被配置的漏电极5、与此漏电极5连接的像素电极(ITO)6、为栅极扫描电极3及源电极4之间的绝缘层7、和由薄膜半导体组成的TFT(薄膜晶体管)8。在上述下基板1上各金属配线的形成中，以往一直采用例如将干法与光刻法组合的方法，但是干法的缺点是制造成本上较高，而且随着制造基板尺寸的大型化而出现尺寸波动。因此，仍然继续采用喷墨法在玻璃基板上描绘金属配线的方法。专利文献1美国专利5132248号说明书专利文献2特开2002-164635号公报然而，对于上述的那些已有技术而言存在以下问题。由于配线图案是由在基板一个表面上涂布的导电性微粒形成的，所以由导电性微粒构成的薄膜就为从基板表面向外突出的状态，因而成为阻碍器件薄型化的一个原因。而且对于在基板上以连续多层形成配线图案的器件来说，还有成为阻碍高集成化起因之一的问题。此外无论上述哪种方法，作为制成的制品都会在表面上残留下如图48所示的许多凹凸形状。这种凹凸形状一旦比较显著，就会出现在液晶显示装置组装时产生显示不均的问题。也就是说，这种下基板1在其上面形成取向膜后虽然可以实施摩擦处理，但是在凹部分和凸部分之间进行摩擦处理的具体情况就会产生偏差。这种摩擦处理一旦出现不均，就会在液晶取向的约束力上产生差别，结果引起显示不均。
技术实现思路
本专利技术正是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能够实现薄层化的薄膜图案形成方法、器件及其制造方法、电光学装置和电子仪器。本专利技术的另一目的在于提供一种通过提高约束力能够防止显示不均的机构。为了达成本专利技术目的，本专利技术采用以下构成。本专利技术的薄膜图案形成方法，是在基板上涂布功能液形成薄膜图案的方法，其特征在于，其中具有在所述基板上形成与所述薄膜图案相应的凹部的工序，在所述凹部涂布所述功能液的工序。这种情况下可以包括在所述基板上根据所述薄膜图案突出设置贮存格的工序，在所述贮存格间的所述基板上形成所述凹部的工序，和涂布所述功能液后除去所述贮存格的工序。因此本专利技术中，由于能够在基板的凹部内形成薄膜图案，所以有可能不从表面突出的情况下配线，能够使采用这种基板的器件薄型化，同时还能在层叠配线图案(薄膜图案)时实现高集成化。而且突出设置贮存格后，在向贮存格间的基板上喷出(涂布)功能液的情况下，使功能液的液滴不会向周围飞散，能够以所定形状进行图案化。其中在突出设置贮存格的情况下，优选以贮存格作掩模，例如采用蚀刻法等形成凹部。这样既不需要另外制作掩模，也不需要在基板上定位放置掩模的操作，能够提高生产率。而且在突出设置贮存格的情况下，优选设置对贮存格赋予比所述凹部更高疏液性的工序。这样一来，即使一部分被喷出的液滴落在贮存格上，由于贮存格表面是疏液性的而从贮存格被排斥，流入贮存格的凹部内。因此被喷出的功能液可以在基板上的凹部扩展，大致均匀地将其掩埋。另外，在功能液中含有导电性微粒的情况下，可以将薄膜图案作为配线图案应用于各种器件之中。而且除导电性微粒以外，使用有机EL等发光元件形成材料和R·G·B等油墨材料的情况下，还可以适用于有机EL装置以及具有彩色滤光片的液晶显示装置等的制造之中。此外作为功能液，还可以选择通过加热等热处理或光照射等光处理能够呈现导电性的材料。另一方面，本专利技术的器件制造方法是在基板上形成薄膜图案而构成的器件制造方法，其特征在于，通过上述的薄膜图案形成方法，在所述基板上形成所述薄膜图案。因此本专利技术可以得到薄型、高集成化成为可能的器件。特别是在所述基板上设置了薄膜图案的TFT(薄膜晶体管)等开关元件中作为部分构成部分的情况下，可以得到高集成化的薄型开关元件。于是本专利技术的电光学装置，其特征在于，其中备有利用上述的器件制造方法制造的器件。而且本专利技术的电子仪器，其特征在于，其中备有上述的电光学装置。因此根据本专利技术能够得到薄型的电光学装置和电子仪器。本专利技术的器件是基板上形成薄膜图案而构成的器件，其特征在于，在所述基板上形成与所述薄膜图案对应的凹部，在所述凹部内设有所述薄膜图案。由此本专利技术中，由于可以在基板的凹部内形成薄膜图案，所以能够在不从基板表面突出的情况下配线，能使使用这种基板的器件等薄型化，同时能使层叠配线图案(薄膜图案)时高度集成化。作为薄膜图案，优选相对于所述基板以非突出状态形成的。这样根据本专利技术，在能进一步薄型化的同时，当薄膜图案的表面与基板表面合为一面的情况下平坦性提高，形成绝缘膜等后续工序变得容易进行。而且作为凹部，优选截面形状形成得朝向底部逐渐扩径的倒锥体状。由此，根据本专利技术在凹部形成的薄膜图案很难与基板剥离，可以防止器件品质的降低。另外，以导线性膜形式形成薄膜图案的情况下，可以将薄膜图案作为配线图案，并可以应用于各种器件之中。本专利技术的液晶显示装置的制造方法，采用具有以下工序为特征的方法即，其特征在于，具有在基板上形成基板沟槽的基板沟槽形成工序；疏液部形成工序，形成以区分所述基板沟槽用疏液部；第一导电性图案形成工序，向所述基板沟槽喷出含有导电性材料的液滴后形成第一导电性图案；第一绝缘层形成工序，其形成第一绝缘层，以使至少将所述的第一导电性图案覆盖；贮存格形成工序，在所述的第一绝缘层上形成具有由薄膜半导体组成的薄膜晶体管和透光性的第一层贮存格；第二导电性图案形成工序，向由所述贮存格区分的描绘区域喷出含有导电性材料的液滴，以形成第二导电性图案；和第二绝缘层形成工序，形成第二绝缘层，以使至少将所述的第一层贮存格和所述的第二导电性图案覆盖。根据这种液晶显示装置的制造方法，第一绝缘层形成工序之前的基板，由于已经变成基板沟槽内被第一导电性图案掩埋的形状，所以变成平坦的表面形状。在这种平坦的表面上形成第一绝缘层的情况下，可以在第一绝缘层形成工序中形成相当平坦的第一绝缘层。此外，在第二导电性图案形成工序中，在这种平坦的第一绝缘层上可以形成第一层贮存格与第二导电性图案形成为一体的一枚的平坦层。在这种平坦层上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜图案形成方法，是在基板上涂布功能液而形成薄膜图案的方法，其特征在于，具有：在所述基板上形成与所述薄膜图案相应凹部的工序；和在所述凹部涂布所述功能液的工序。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：牛山敏宽，平井利充，御子柴俊明，木口浩史，长谷井宏宣，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]