本实用新型专利技术涉及单晶炉设备技术领域，尤其是一种炉体清扫装置，包括底座，所述底座上设置有升降组件，所述升降组件上连接有清扫组件，所述底座底部连接有移动组件，所述清扫组件包括喷洒件以及清扫件，所述喷洒件设置在清扫件上方且与清扫件连接，所述清扫件与所述升降组件转动连接，所述清扫件内设置有调节组件。通过设置升降组件控制清扫组件上下移动，清扫组件包括喷洒件和清扫件，喷洒件用于将混有清洁剂的水洒到副室的内壁上，清扫件用于挤压摩擦副室内壁上的杂质，并将杂质清走。并将杂质清走。并将杂质清走。
【技术实现步骤摘要】
一种炉体清扫装置
[0001]本技术涉及单晶炉设备
，尤其是一种炉体清扫装置。
技术介绍
[0002]由于单晶体是在持续的高温低压保护气体下生产的，这对单晶炉室内的环境要求严格，因此，当单晶硅棒取出后，需要对单晶炉的炉体内壁上附着的氧化物等进行全面清理，特别是副室。但是，由于副室的结构较为特殊，且副室设置位置较高导致副室的清理大部分为人工清理，如人工手持拖把擦拭副室，擦拭过程中拖把太重，工作强度大且副室上部难以清洁到位，清洁效果不理想。
技术实现思路
[0003]本技术的目的是：提供一种适用不同内径副室，清扫效果好的炉体清扫装置。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案如下：包括底座，所述底座上设置有升降组件，所述升降组件上连接有清扫组件，所述底座底部连接有移动组件，所述清扫组件包括喷洒件以及清扫件，所述喷洒件设置在清扫件上方且与清扫件连接，所述清扫件与所述升降组件转动连接，所述清扫件内设置有调节组件。通过设置升降组件控制清扫组件上下移动，清扫组件包括喷洒件和清扫件，喷洒件用于将混有清洁剂的水洒到副室的内壁上，清扫件用于挤压摩擦副室内壁上的杂质，并将杂质清走。
[0005]进一步，所述升降组件包括液压缸，所述液压缸上端连接有伸缩杆，所述伸缩杆上端连接有升降块，所述液压缸一侧设置有液压泵，所述液压缸通过管道与所述液压泵连接。通过液压缸控制升降块升降进而控制清扫组件上下移动，对副室的整个内侧壁进行清扫，清扫范围广，同时液压缸升降结构稳定安全，运行平稳，有效避免升降台在升降过程中发生偏移，稳定性高。
[0006]较佳的，所述清扫件包括清扫盘，所述清扫盘内设置有滑动凹槽，所述滑动凹槽滑动连接有滑动块，所述滑动块一端铰接有调节组件，所述滑动块另一端连接有清扫块，所述清扫块为弧形，所述清扫块外侧设置有清扫毛刷。通过设置调节组件控制清扫盘的清扫块适应不同大小内径的副室，使得清扫装置适用范围更广，清扫块设置为弧形更方便在内壁清扫，清扫毛刷与清扫块的连接方式为可拆卸连接，当清扫毛刷脏了便于拆卸清洗，重复使用。调节组件用于控制滑动块伸出清扫盘的距离。
[0007]进一步，所述调节组件包括电动推杆，所述电动推杆一端连接所述清扫盘顶部内壁中心处，所述电动推杆另一端连接有下压板，所述下压板中部连接有连接块，所述连接块上连接有连接杆，所述连接杆另一端铰接所述滑动块。启动电动推杆，电动推杆上的活塞杆伸出带动下压板下压进而带动连接块下压，连接块下压带动连接杆下移进而带动滑动块向清扫盘方向滑动伸出，从而扩大了清扫块的清扫面积。
[0008]较佳的，所述喷洒件包括水箱，所述水箱底部连接清扫盘，所述水箱上设置有进水口，所述进水口一侧设置有进清洗剂口，所述水箱内设置有搅拌组件，所述水箱两侧设置有
排水管，所述排水管连接有水泵，所述水泵设置在清扫盘顶部，所述水泵连接有喷雾器。进水口和进清洗剂口用于放入相应的水和清洗剂，搅拌组件用于将水和清洗剂混合在一起，水泵将混有清洗剂的水抽出至喷雾器内，喷雾器将清洗剂的水喷在副室内壁上，喷雾器设置在清扫盘上，在清扫盘转动的时候带动喷雾器一起转动，使喷雾器的喷洒范围更广。
[0009]进一步，所述搅拌组件包括第一电机，所述第一电机设置在所述水箱中心顶部位置，所述第一电机输出轴连接第一转动轴，所述第一转动轴穿过所述水箱并延伸至所述水箱底部内壁，所述转动轴两侧设置有搅拌叶片。第一电机控制第一转轴转动进而控制搅拌叶片在水箱内转动，将水和清洗剂混合在一起。
[0010]较佳的，所述升降块内设置有第二电机，所述第二电机的输出轴连接有第二转动轴，所述第二转动轴与清扫盘连接。启动第二电机，第二电机带动第二转动轴在升降块上转动，进而带动清扫盘转动，从而对副室内壁进行清扫。
[0011]进一步，所述移动组件包括万向轮，所述万向轮与所述底座固定连接，所述万向轮数量为4。通过设置移动组件便于清扫装置移动，所述移动组件为带有制动的万向轮。
[0012]采用本技术的技术方案的有益效果是：通过采用机械作业替代人工作业，不仅提高了清扫副室的效率，更为使用这本装置的工人降低了劳动强度，为使用者提供便利。
[0013]通过设置调节组件控制滑动块伸出清扫盘的距离，启动电动推杆，电动推杆上的活塞杆伸出带动下压板下压进而带动连接块下压，连接块下压带动连接杆下移进而带动滑动块向清扫盘方向滑动伸出，从而扩大了清扫块的清扫面积，使得清扫装置适应不同大小内径的副室，适用范围更广。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。其中：
[0015]图1为本技术所述的一种炉体清扫装置的整体结构示意图；
[0016]图2为本技术所述的一种炉体清扫装置的喷洒件结构示意图；
[0017]图3为本技术所述的一种炉体清扫装置的搅拌组件结构图；
[0018]图4为本技术所述的一种炉体清扫装置的清扫盘结构图；
[0019]图5为本技术所述的一种炉体清扫装置的清扫盘内部结构图；
[0020]图6为本技术所述的一种炉体清扫装置的升降块内部结构图。
具体实施方式
[0021]现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。本技术利用结构示意图等进行详细描述，示意图只是实例，其在此不应限制本技术保护的范围。此外，在实际制作中应包含长度、宽度及深度的三维空间。
[0022]参照图1~图6，本技术公开了一种炉体清扫装置，包括底座101，所述底座101上设置有升降组件，所述升降组件上连接有清扫组件，所述底座101底部连接有移动组件，
所述清扫组件包括喷洒件300以及清扫件200，所述喷洒件300设置在清扫件200上方且与清扫件200连接，所述清扫件200与所述升降组件转动连接，所述清扫件200内设置有调节组件。通过设置升降组件控制清扫组件上下移动，清扫组件包括喷洒件300和清扫件200，喷洒件300用于将混有清洁剂的水洒到副室的内壁上，清扫件200用于挤压摩擦副室内壁上的杂质，并将杂质清走。
[0023]较佳的，所述升降组件包括液压缸401，所述液压缸401上端连接有伸缩杆402，所述伸缩杆402上端连接有升降块403，所述液压缸401一侧设置有液压泵404，所述液压缸401通过管道与所述液压泵404连接。通过液压缸401控制升降块403升降进而控制清扫组件上下移动，对副室的整个内侧壁进行清扫，清扫范围广，同时液压缸401升降结构稳定安全，运行平稳，有效避免升降块403在升降过程中发生偏移，稳定性高。
[0024]进一步，所述清扫件200包括本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种炉体清扫装置，其特征在于：包括底座（101），所述底座（101）上设置有升降组件，所述升降组件上连接有清扫组件，所述底座（101）底部连接有移动组件，所述清扫组件包括喷洒件（300）以及清扫件（200），所述喷洒件（300）设置在清扫件（200）上方且与清扫件（200）连接，所述清扫件（200）与所述升降组件转动连接，所述清扫件（200）内设置有调节组件。2.根据权利要求1所述的一种炉体清扫装置，其特征在于：所述升降组件包括液压缸（401），所述液压缸（401）上端连接有伸缩杆（402），所述伸缩杆（402）上端连接有升降块（403），所述液压缸（401）一侧设置有液压泵（404），所述液压缸（401）通过管道与所述液压泵（404）连接。3.根据权利要求1或2所述的一种炉体清扫装置，其特征在于：所述清扫件（200）包括清扫盘（201），所述清扫盘（201）内设置有滑动凹槽，所述滑动凹槽滑动连接有滑动块（202），所述滑动块（202）一端铰接有调节组件，所述滑动块（202）另一端连接有清扫块（203），所述清扫块（203）为弧形，所述清扫块（203）外侧设置有清扫毛刷。4.根据权利要求3所述的一种炉体清扫装置，其特征在于：所述调节组件包括电动推杆（501），所述电动推杆（501）一端连接所述清扫盘（201）顶部内壁中心处，所述电动推杆（501）另一端连接有下压板（502），所述下压板（502）中部连接有连接块（503），所述连接块（50...
【专利技术属性】
技术研发人员：华焱，刘森，李东，
申请(专利权)人：常州四杰机械科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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