【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种阻抗匹配技术，尤其涉及一种实现射频阻抗匹配的方法及射频阻抗匹 配系统。
技术介绍
在射频等离子体发生装置中，恒定输出阻抗(通常为50Q )的RF (射频)发生器产生 固定频率(通常为13.56MHz)的RF波，向等离子体腔室提供RF功率，以激发用于工艺的等 离子体。 一般来讲，等离子体腔室的非线性负载阻抗与RF发生器的恒定输出阻抗并不相 等，故在RF发生器和等离子体腔室之间具有严重的阻抗失配，使得传输线上存在较大的反 射功率，RF发生器产生的功率无法全部输送给等离子体腔室。如图1所示，现有技术中将匹配器连接于射频电源与反应室之间，通过调节匹配器中 的可变电抗元件，能够使得从匹配器输入端向输出端看去的阻抗等于射频电源的输出阻 抗，从而使得射频电源的输出功率能够最多地传送到反应室中进行等离子体激发。现有技术中，通过检测传输线上的电压、电流以及电压与电流的相位差等参数，并根 据这些参数可以计算出匹配器的输入阻抗。然后，根据阻抗检测器检测的匹配器输入阻 抗，得出幅度误差和相位误差，利用这两种误差信号来控制调谐元件，通过不断地调整调 谐元件，使误差信号降...
【技术保护点】
一种实现射频阻抗匹配的方法，通过匹配网络实现射频源与负载之间的阻抗匹配控制，其特征在于，将所述匹配网络的输入导纳与所述射频源的输出导纳进行比较，并根据比较的结果对所述匹配网络的输入阻抗进行调整，实现阻抗匹配控制。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王焕钢，徐文立，李辉，王宁，申浩南，武晔，
申请(专利权)人：清华大学，北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
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