一种溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种溅射镀膜装置。其技术方案包括：外壳、连接罩、支撑板和挡板，所述外壳内壁下端两侧均安装有第一电动推杆，所述第一电动推杆上端外壁安装有支撑板，所述外壳内壁一侧插接安装有连接罩，所述连接罩内壁一侧安装有第二电动推杆，所述第二电动推杆一侧外壁安装安装有连接板，所述连接板一侧外壁安装有连接架，所述连接架内部安装有传感器，通过设置连接罩、支撑板和传感器，达到了便于调节料板位置的效果，保证料板与靶材之间的间距符合需要，避免工作人员手动调节料板的放置位置，提高了镀膜的效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射镀膜装置


[0001]本技术涉及镀膜
，具体为一种溅射镀膜装置。

技术介绍

[0002]溅射镀膜技术是用离子轰击靶材表面，把靶材的原子被击出的现象称为溅射。溅射产生的原子沉积在基体表面成膜称为溅射镀膜。通常是利用气体放电产生气体电离，其正离子在电场作用下高速轰击阴极靶体，击出阴极靶体原子或分子，飞向被镀基体表面沉积成薄膜。
[0003]专利公告号为CN210945767U公开了一种磁控溅射镀膜装置，所述磁控溅射镀膜装置包括：工艺腔室、溅射电源、和至少一个阴极机构，所述溅射电源的正极与所述工艺腔室相连接，且所述溅射电源的负极与所述阴极机构相连接，所述阴极机构包括：阴极、靶材和升降单元，所述阴极的一端与所述升降单元相连接，且所述阴极的另一端与靶材相连接，所述靶材设置于所述工艺腔室内，所述升降单元用于带动靶材做靠近或远离待加工基板的运动，以调节靶材与待加工基板之间的距离；本技术通过根据靶材的消耗程度，对升降单元的参数进行调整，从而调节靶材与待加工基板之间的距离，进而保证镀膜的稳定性和均匀性。
[0004]现有技术CN21本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射镀膜装置，包括外壳(1)、连接罩(2)、支撑板(13)和挡板(25)，其特征在于：所述外壳(1)内壁下端两侧均安装有第一电动推杆(12)，所述第一电动推杆(12)上端外壁安装有支撑板(13)，所述外壳(1)内壁一侧插接安装有连接罩(2)，所述连接罩(2)内壁一侧安装有第二电动推杆(21)，所述第二电动推杆(21)一侧外壁安装有连接板(23)，所述连接板(23)一侧外壁安装有连接架(24)，所述连接架(24)内部安装有传感器(26)。2.根据权利要求1所述的一种溅射镀膜装置，其特征在于：所述外壳(1)内壁上端两侧均设置有阴极(11)，所述阴极(11)下端外壁一侧设置有靶材(17)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：缪旭峰，周锋，
申请(专利权)人：兆默真空设备上海有限公司，
类型：新型
国别省市：