一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法技术

技术编号:37083185 阅读:22 留言:0更新日期:2023-03-29 19:58
本申请涉及一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法,其中卷对卷镀膜设备包括多个主辊和多个靶材,其中多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面,多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。相比于现有的卷对卷镀膜设备,本发明专利技术相当于将圆形腔室拉长,不仅极大提高了设备的兼容性,还因为将单主辊结构的集中拉力形式分解为多个小的拉力,大大降低了对基材的局部拉力,避免了超薄基材的形变;此外,由于靶材和主辊的交替设置,实现直接在同一个腔室中对基材的正反面同时镀膜,同时将单主辊的连续镀膜变成多主辊和多靶材的间隔镀膜,避免了镀膜时基材的温度积累,实现了低/常温镀膜。低/常温镀膜。低/常温镀膜。

【技术实现步骤摘要】
一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法


[0001]本申请涉及基材镀膜
,特别是涉及一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法。

技术介绍

[0002]现有的卷对卷镀膜采用单主辊轮承载柔性基材,通过主辊对基材提供支撑、控温及纠偏等功能。单主辊镀膜存在以下问题:
[0003]1)单一主辊结构对膜层的拉力承载有较高的要求,一般适用于20um以上的柔性基材镀膜。但是对于超薄基材(一般厚度<10um),单一主辊结构下极易产生基材拉升而造成膜层龟裂及脱落。
[0004]2)单一主辊结构采用连续溅射的方式,一个主棍对应基材的一个镀膜面。且连续沉积会造成一定的温度积累。而对于基材双面镀膜及对温度要求较低的镀膜,很难使用单一的主辊结构设备进行对应。

技术实现思路

[0005]基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种卷对卷镀膜设备和镀膜方法,以便解决现有设备对基材的较大拉伸力造成基材变形的问题、设备溅射过程中基材的温度积累的问题。
[0006]一种卷对卷镀膜设备,包括:
[0007]多个主辊和多个靶材;
[0008]多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面;
[0009]多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。
[0010]进一步的,各个主辊内部包含预设温度的液体,各个主辊内部的液体的预设温度不尽相同。
[0011]进一步的,各个主辊通过对应的步进电机进行转速控制。
[0012]进一步的,设备还包括放卷辊和收卷辊,多个主辊和多个靶材设置在放卷辊和收卷辊之间。
[0013]进一步的,放卷辊和收卷辊之间还包括放卷导向轮和收卷导向轮,多个主辊和多个靶材设置在放卷导向轮和收卷导向轮之间。
[0014]一种采用所述卷对卷镀膜设备进行镀膜的方法。
[0015]上述一种卷对卷镀膜设备,包括多个主辊和多个靶材,其中多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面,多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。相比于现有的卷对卷镀膜设备,本专利技术相当于将圆形腔室拉长,不仅极大提高了设备的兼容性,还因为将单主辊结构的集中拉力形式分解为多个小的拉力,大大降低了对基材的局部拉力,避免了超薄基材的形变;此外,由于靶材和主辊的交替设置,实现直接在同一个腔室中对基材的正反面同时镀膜,同时将单主辊的连续镀膜变成多主辊和多靶材的间隔镀膜,避免了镀膜时基材的温度积累,实现了低/常温镀膜。
[0016]综上,本设备能够解决现有设备对基材的较大拉伸力造成基材变形的问题、设备溅射过程中基材的温度积累的问题,以及实现单腔室对基材的双面镀膜。
附图说明
[0017]图1为传统卷对卷设备的结构示意图;
[0018]图2为本专利技术的卷对卷镀膜设备的结构示意图。
具体实施方式
[0019]为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本申请进行进一步详细说明。应当理解,此处描述的具体实施例仅仅用以解释本申请,并不用于限定本申请。
[0020]在一个实施例中,提供了一种卷对卷镀膜设备,包括多个主辊和多个靶材。
[0021]其中,多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面,多个靶材以与多个主辊相反的方式交替设置在待镀膜基材的正反两面。
[0022]可以理解,若各个主辊的设置遵循“正—反”(较待镀膜基材而言)循环的原则,那么各个靶材的设置即遵循“反—正”(较待镀膜基材而言)循环的原则,每个主辊的对向位置安装对应的靶材。也就是说,无论基材的正/反面,均为主辊

靶材交替设置,且基材某一位置的正/反面为主辊或者靶材。
[0023]相比于现有的卷对卷镀膜设备,本专利技术相当于将圆形腔室拉长,不仅极大提高了设备的兼容性,还因为将单主辊结构的集中拉力形式分解为多个小的拉力,大大降低了对基材的局部拉力,避免了超薄基材的形变。此外,由于靶材和主辊的交替设置,实现直接在同一个腔室中对基材的正反面同时镀膜,同时将单主辊的连续镀膜变成多主辊和多靶材的间隔镀膜,避免了镀膜时基材的温度积累,实现了低/常温镀膜。
[0024]综上,本设备能够解决现有设备对基材的较大拉伸力造成基材变形的问题、设备溅射过程中基材的温度积累的问题,以及实现单腔室对基材的双面镀膜。
[0025]进一步的,各个主辊内部包含预设温度的液体,各个主辊内部的液体的预设温度不尽相同。
[0026]由于主辊能够通过薄壁的热传导实现对基材上镀制的膜层的温度控制,向各个主辊内部通入不尽相同温度的液体,能够实现对各个主辊的温度进行单独控制,以实现局部基材的区别温度设置。
[0027]进一步的,各个主辊通过对应的步进电机进行转速控制。每个小主辊均有步进电机进行转速控制,小主辊旋转时能够为基材的传输提供一定的动力。
[0028]可以理解,柔性基材与主辊之间存在一定程度的贴合,贴合程度可通过步进电机控制转速来调整,通过控制贴合程度可以实现基材局部位置的张力调节。
[0029]进一步的,设备还包括放卷辊和收卷辊,多个主辊和多个靶材设置在放卷辊和收卷辊之间。
[0030]放卷辊和收卷辊之间还包括放卷导向轮和收卷导向轮,多个主辊和多个靶材设置在放卷导向轮和收卷导向轮之间。
[0031]为进一步体现本设备与现有设备的差异,如图1所示,提供传统卷对卷设备的结
构,如图2所示,提供本专利技术的卷对卷镀膜设备的结构。
[0032]在一个实施例中,提供一种采用上述实施例中所述设备进行镀膜的方法。
[0033]以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
[0034]以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对专利技术专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本申请的保护范围。因此,本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种卷对卷镀膜设备,其特征在于,所述设备包括:多个主辊和多个靶材;所述多个主辊交替设置在待镀膜基材的正反两面;所述多个靶材以与所述多个主辊相反的方式交替设置在所述待镀膜基材的正反两面。2.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,各个所述主辊内部包含预设温度的液体;各个所述主辊内部的液体的预设温度不尽相同。3.根据权利要求1所述的设备,其特征在于,各个所述主辊通过对应的步进电机进行转速控制。4.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:王正安来华杭谢斌斌朱冰冰顾子莺李建镇
申请(专利权)人:杭纳半导体装备杭州有限公司
类型:发明
国别省市:

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