一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及陶瓷砖的制备技术领域，并公开了一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法，其中，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料为高耐污柔抛釉料，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶、透闪石、三氧化二铋和氧化锌。本发明专利技术通过对高耐污柔抛釉料的配方进行改进，使釉料中的气孔大大减少，从根本上解决釉层吸污问题，从而实现陶瓷砖的高耐污性能。从而实现陶瓷砖的高耐污性能。从而实现陶瓷砖的高耐污性能。

【技术实现步骤摘要】
一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷
，特别涉及一种高耐污柔抛釉料、具有柔光耐污性能的陶瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]目前柔光砖的生产方法主要是对釉面进行抛光处理，使其釉面光泽度在25
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35度之间，其具有柔和的光感，相对于亮光抛釉砖具有不眩晕不刺目的好处，近几年来深受消费者的喜爱。
[0003]目前柔光釉面砖普遍存在着吸污的问题，主要原因是釉面釉层中存在着较多气孔，在抛光后气孔裸露在釉面形成微细针孔，从而造成釉面吸污。柔抛砖相对于亮抛抛釉(95
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100度)，柔光砖无法进行超洁亮处理，超洁亮处理可使釉面细小针孔封闭从而解决吸污问题，但因为超洁亮处理后光泽度会增加，所以在柔光砖上不适合做超洁亮处理。目前还没有在柔光砖产品上可以做到完全不吸污，这大大影响了柔光产品的应用推广。
[0004]因此，现有技术还有待于改进和发展。

技术实现思路

[0005]鉴于上述现有技术的不足，本专利技术的目的在于提供一种高耐污柔抛本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高耐污柔抛釉料，其特征在于，所述高耐污柔抛釉料按重量份计包括：高透熔块70
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80份、高岭土8
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10份、煅烧氧化锌4
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6份以及球粘土10
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14份，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶、透闪石、三氧化二铋和氧化锌。2.根据权利要求1所述的高耐污柔抛釉料，其特征在于，以重量份计，所述高透熔块包括如下制备原料：硫酸锶7
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12份、透闪石12
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16份、三氧化二铋4
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10份和氧化锌5
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8份。3.根据权利要求2所述的高耐污柔抛釉料，其特征在于，以重量份计，所述高透熔块还包括如下制备原料：石英8
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12份、钾长石10
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17份、钠长石22
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26份、煅烧高岭土10
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16份和氧化铝3
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5份。4.一种具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其特征在于，所述陶瓷砖由自下而上依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层以及柔抛釉料层经烧制而成，制备所述柔抛釉料层的材料包括权利要求1
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3任一项所述的高耐污柔抛釉料。5.根据权利要求4所述具有柔光耐污性能的陶瓷砖，其特征在于，所述底釉层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅51.23％
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53.65％、三氧化二铝25.32％
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28.49％、氧化钾2.13％
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3.58％、氧化钠1.85％
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2.65％、氧化钙5.36％
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6.53％、氧化镁1.32％
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2.56％、氧化锌3.21％
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4.56％、氧化钡4.32％
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5.64％，其它为微量杂质及灼减；所述坯体层的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅65.20％
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68.61％、三氧化二铝20.52％

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，仝松贞，徐雪英，朱光耀，陈育昆，谢怡伟，宁毓胜，傅建涛，袁小娣，戴志梅，简润桐，叶德林，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司广东萨米特陶瓷有限公司江西新明珠建材有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：