一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法技术

本发明专利技术涉及建筑陶瓷技术领域，具体涉及一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法。所述亚光釉料，以重量份计，包括如下原料组分：釉料基料57份~89份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份；其中，所述氧化铝为纳米氧化铝，所述二氧化硅为纳米二氧化硅，所述晶核形成剂为氧化锌和/或二氧化钛。该亚光釉料形成的釉面亚光效果好，且光泽均匀。且光泽均匀。且光泽均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及建筑陶瓷
，特别是涉及一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]亚光陶瓷砖的光泽度一般按行业标准为8~15度之间，亚光釉面陶瓷砖以其对光照的漫反射而产生的柔和光泽，亚光釉面陶瓷砖搭配各种素材所制得的亚光类产品，具有高档的装饰效果，近几年来深受消费者的喜爱。随着岩板大板类产品的盛行，亚光釉面陶瓷砖也会用作橱柜台面、餐桌、茶几、洗手台等区域，同时随着应用场景的变化，对于亚光釉面陶瓷砖的釉面细腻度及平整度有着越来越高的要求。
[0003]目前亚光釉面类产品主要采用以下方式得以实现：1、采用喷面釉打印图案，喷亚光保护釉，通过调高亚光保护釉的釉料配方，使釉料产生较大的气孔率以及较少的玻璃相从而得到亚光釉面；2、采用亚光干粒釉，淋于产品表面得到亚光光泽的釉面效果砖；3、将亚光保护釉制成喷墨机可打印的墨水，通过把亚光保护釉用喷墨机打印的方式布施于产品表面，经过烧成后得到亚光陶瓷砖。
[0004]但是，上述亚光釉面类产品的制备方法均存在着一定的不足：方法1通常的亚光机理方式为调小硅铝比，通过加大Al2O3的含量从而降低光泽度，釉面中玻璃相和细小晶相形成不足，釉层有较多的生烧成份和气孔率，导致釉面手感粗糙、容易藏污和不耐磨等问题；方法2把釉料制成亚光干粒的形式，虽然釉面的防污性能、耐磨性能大大提升，但釉面的手感往往比较偏粗糙；方法3采用数码喷釉的方式，将亚光釉制成数码墨水的形式，经过喷墨机打印至产品表面，此种亚光釉面比较平整细腻，且釉面分布均匀，但数码喷釉往往釉料墨水中固含量偏少，在烧成后，釉面较薄，釉面耐磨度偏低，容易造成使用过程中露底的现象。
[0005]同时，随着陶瓷生产成本的不断提升，不得不通过提升产品产量，拉快窑炉速度，减少烧成时间来降低生产成本。在提升产量后，目前亚光釉面陶瓷砖的釉面质感相对较差，主要表现在以下几点问题：1、釉面形成晶相不足，由于烧成时间短，釉料之间的反应不够充分，釉料中晶相主要莫来石、玻璃相，氧化物没有充分的同游离态石英结合，进而导致亚光效果不明显；2、具有较大气孔率，釉面手感不够细腻；3、亚光釉面具有一定的析晶，但晶体过大，且分布不够均匀，从而形成的光感不连续，晶体较大的地方和玻璃相相间分布，具有玻璃相的地方具有亮点和晶体的亚光形成光感不连续现象，造成釉面档次较低；4、亚光釉面不平整。

技术实现思路

[0006]基于此，本专利技术提供一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法，该亚光釉料形
成的釉面亚光效果好，且光泽均匀。
[0007]本专利技术的第一方面，提供一种亚光釉料，以重量份计，包括如下原料组分：釉料基料57份~89份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份；其中，所述氧化铝为纳米氧化铝，所述二氧化硅为纳米二氧化硅，所述晶核形成剂为氧化锌和/或二氧化钛。
[0008]在其中一个实施例中，所述亚光釉料具有如下所示特征中的一种或多种：（1）所述晶核形成剂为氧化锌；（2）所述纳米氧化铝的粒径为50nm~80nm；（3）所述纳米二氧化硅的粒径为40nm~70nm。
[0009]在其中一个实施例中，所述釉料基料包括高岭土、一价氧化物和二价氧化物；其中，所述一价氧化物包括钾长石、钠长石、碳酸钠和锂辉石中的一种或多种，所述二价氧化物包括硫酸钡、透辉石和白云石中的一种或多种。
[0010]在其中一个实施例中，所述的亚光釉料以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、钾长石12份~18份、钠长石15份~25份、碳酸钠8份~12份、硫酸钡8份~12份、锂辉石8份~10份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份。
[0011]在其中一个实施例中，所述亚光釉料以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝7份~8份、二氧化硅5份~6份、钾长石12份~18份、钠长石15份~25份、碳酸钠8份~12份、硫酸钡8份~12份、锂辉石8份~10份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~9份；或，所述亚光釉料以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、钾长石16份~18份、钠长石23份~25份、碳酸钠11份~12份、硫酸钡8份~12份、锂辉石9份~10份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份。
[0012]本专利技术的第二方面，提供第一方面所述的亚光釉料的制备方法，包括如下步骤：混合所述原料组分，制备混合料；将所述混合料进行第一次烧成和第一次冷却，制备所述亚光釉料。
[0013]在其中一个实施例中，所述制备方法具有如下所示特征中的至少一个：（1）所述第一次烧成的温度为1300℃~1450℃，所述第一次烧成的时间为50min~70min；（2）冷却结束后，还包括加工成粉的步骤，使所述亚光釉料的粒径为50μm~80μm。
[0014]本专利技术的第三方面，提供一种超平细腻釉面砖，包括底坯以及面釉层，所述面釉层通过第一方面所述的亚光釉料制备得到。
[0015]在其中一个实施例中，所述面釉层包含晶粒，所述晶粒的粒径为0.3μm~0.4μm。
[0016]本专利技术的第四方面，提供第三方面所述的超平细腻釉面砖的制备方法，包括如下步骤：将所述亚光釉料分散于悬浮剂中，制备釉浆；将所述釉浆施加至底坯表面，进行第二次烧成和第二次冷却，制备所述超平细腻
釉面砖。
[0017]在其中一个实施例中，所述制备方法具有如下所示特征中的至少一个：（1）所述第二次烧成的温度为1100℃~1250℃，所述第二次烧成的时间为55min~75min；（2）所述第二次冷却的程序包括：第一冷却阶段：在25s~35s时间内使第二次烧成后的砖坯的表面温度冷却至550℃~570℃；第二冷却阶段：停止冷却处理，砖坯的表面温度上升至750℃~850℃；然后先以8℃~12℃/分钟降温3min~7min，再以13℃~17℃/分钟降温3min~7min，再以18℃~22℃/分钟降温3min~7min，再以38℃~42℃/5分钟降温至60℃~80℃；然后继续降温至室温。
[0018]上述亚光釉料通过合理配置各原料组分，特别是将纳米氧化铝、纳米二氧化硅以及磷酸钙以特定的比例加入，并以氧化锌和/或二氧化钛作为晶核形成剂，如此可以充分降低釉料在烧成时的高温粘度，促使釉料基料形成均匀细小的晶粒，晶粒大小控制在0.34μm~0.4μm，均匀分布在釉料玻璃相中，如此获得的亚光釉面亚光效果好，且光泽度均匀。进一步地，还可以达到手感细腻、釉面平整和耐磨性好的优点。
附图说明
[0019]图1为实施例1的SEM电镜图片；图2为实施例7的SEM电镜图片。
具体实施方式
[0020]以下结合具体实施例对本专利技术的一种亚光釉料、超平细腻釉面砖及其制备方法作进一步详细的说明。本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种亚光釉料，其特征在于，以重量份计，包括如下原料组分：釉料基料57份~89份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份；其中，所述氧化铝为纳米氧化铝，所述二氧化硅为纳米二氧化硅，所述晶核形成剂为氧化锌和/或二氧化钛。2.根据权利要求1所述的亚光釉料，其特征在于，所述亚光釉料具有如下所示特征中的一种或多种：（1）所述晶核形成剂为氧化锌；（2）所述纳米氧化铝的粒径为50nm~80nm；（3）所述纳米二氧化硅的粒径为40nm~70nm。3.根据权利要求1或2所述的亚光釉料，其特征在于，所述釉料基料包括高岭土、一价氧化物和二价氧化物；其中，所述一价氧化物包括钾长石、钠长石、碳酸钠和锂辉石中的一种或多种，所述二价氧化物包括硫酸钡、透辉石和白云石中的一种或多种。4.根据权利要求3所述的亚光釉料，其特征在于，以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、钾长石12份~18份、钠长石15份~25份、碳酸钠8份~12份、硫酸钡8份~12份、锂辉石8份~10份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~10份。5.根据权利要求4所述的亚光釉料，其特征在于，所述亚光釉料以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝7份~8份、二氧化硅5份~6份、钾长石12份~18份、钠长石15份~25份、碳酸钠8份~12份、硫酸钡8份~12份、锂辉石8份~10份、晶核形成剂6份~10份以及磷酸钙8份~9份；或，所述亚光釉料以重量份计，包括如下原料组分：水洗高岭土6份~12份、氧化铝4份~8份、二氧化硅3份~6份、钾长石16份~18份、钠长石23份~25份、碳酸钠11份~12份、硫...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，仝松贞，徐雪英，朱光耀，陈育昆，谢怡伟，宁毓胜，傅建涛，袁小娣，戴志梅，简润桐，叶德林，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司广东萨米特陶瓷有限公司江西新明珠建材有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：