一种瓷砖及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种瓷砖及其制备方法，属于瓷砖技术领域。所述瓷砖包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层、面釉层，所述瓷砖还包括设置于所述图案层和面釉层之间的纹理层，所述纹理层覆盖部分图案层；所述纹理层由高光泽陶瓷墨水与干粒釉相互作用所得；所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅、氧化锌、氧化钙、三氧化二硼和三氧化二铋；所述干粒釉为所述面釉层的制备原料。通过干粒釉与高光泽墨水共同作用，可在纹理层对应位置形成高亮光纹理，使纹理层凸显于面釉层上，形成立体效果，相较于现有通过凹凸不平的结构获得立体效果的瓷砖，具有更好耐污性。具有更好耐污性。具有更好耐污性。

【技术实现步骤摘要】
一种瓷砖及其制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷
，特别涉及一种瓷砖及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着生活水平的提高，人们对室内装饰效果的品位也越高，其中，对瓷砖的要求也越来越高。目前，建陶行业瓷砖品类繁多：有抛光砖、仿古砖、全抛釉瓷砖、干粒釉瓷砖、微晶石等等，上述类别的瓷砖各有各的特色，在一定程度上满足了消费者的不同需求。其中，具有立体效果的瓷砖因其特殊的视觉效果备受欢迎，现有具有立体效果的瓷砖一般通过物理雕刻在砖面形成凹凸不平的结构，实现立体效果，或者是通过精雕墨水中的有机溶剂对水性面釉层浆料的排斥作用，在砖面形成凹凸不平的结构，达到立体效果。但是这种凹凸不平的结构虽然能产生立体效果，但是也因为其表面的不平整，容易藏污纳垢，不但难以打理，时间久了，容易影响装饰效果。
[0003]可见，现有技术还有待改进和提高。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足之处，本专利技术的目的在于提供一种瓷砖及其制备方法，旨在解决现有具有立体效果的瓷砖，依赖凹凸结构形成，存在制备方法复杂，砖面耐污性差的缺陷。
[0005]为了达到上述目的，本专利技术采取了以下技术方案：一种瓷砖，所述瓷砖包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层、面釉层，其中，所述瓷砖还包括设置于所述图案层和面釉层之间的纹理层，所述纹理层覆盖部分图案层；所述纹理层由高光泽陶瓷墨水与干粒釉相互作用所得；所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅、氧化锌、氧化钙、三氧化二硼和三氧化二铋；所述干粒釉为所述面釉层的制备原料。
[0006]所述瓷砖中，以重量份数计，所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅20～50份、氧化铝5～15份、氧化锌3～10份、氧化钙5～15份、三氧化二硼10～30份、三氧化二铋5～15份、分散剂5～20份、醇醚类溶剂30～80份。
[0007]所述瓷砖中，所述干粒釉按重量份数计包括：干粒悬浮剂100～300份、细干粒20～80份和低温釉浆10～30份。
[0008]所述瓷砖中，所述干粒悬浮剂按重量份数计包括：甲基乙二醇10～30份、羧甲基纤维素钠10～30份、偏磷酸钠1～3份、水10～50份。
[0009]所述瓷砖中，所述细干粒的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅49～60%、三氧化二铝16～19%、氧化钙3～5%、氧化镁0.01～0.05%、氧化钠2～3%、氧化钾3～4%、氧化锶3.5～4.52%、氧化钡9～12%、氧化锌3～4%、其他为微量杂质及灼减≤0.64%。
[0010]所述瓷砖中，所述细干粒的粒径为250～300目。
[0011]所述瓷砖中，所述低温釉浆的化学组成按质量百分数计包括：二氧化硅45～55%、
三氧化二铝17～21%、氧化钾 0.7～1.0%、氧化钠2～3%、氧化钙11.5～14.0%、氧化镁 2～2.5%、氧化锌4～5.5%、氧化钡4～5%、灼减≤4%。
[0012]所述瓷砖中，所述底釉层的原料包括高温哑光釉料，所述高温哑光釉料的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅56～63%、氧化铝25～29%、氧化镁0.4～0.8%、氧化钙0.1～0.5%、氧化钠3.5～4.0%、氧化钾0.9～1.3%、氧化锌0.1～0.3%、氧化钡0.1～0.5%、二氧化铪0.1～0.3%、二氧化锆5.0～6.0%、灼减≤2.0%。
[0013]一种瓷砖的制备方法，所述瓷砖为如上所述的瓷砖，其中，所述制备方法包括以下步骤：在坯体层表面形成底釉层；在所述底釉层表面形成图案层；在所述图案层部分表面形成纹理层；在所述图案层的纹理层未覆盖表面和所述纹理层表面形成面釉层，得到砖坯；将所述砖坯依次进行烧制和抛光，得到瓷砖。
[0014]所述瓷砖的制备方法中，所述烧制的条件包括：于1190～1220℃烧制50～70min。
[0015]有益效果：本专利技术提供了一种瓷砖及其制备方法，所述瓷砖通过设置纹理层和面釉层，所述纹理层采用包含二氧化硅、氧化锌、氧化钙、三氧化二硼和三氧化二铋的高光泽陶瓷墨水制备得到，所述面釉层由干粒釉制备得到，并且，通过烧制，所述高光泽陶瓷墨水可与干粒釉共同作用，形成玻璃相，进而具有较高光泽度，而所述面釉层未与纹理层反应的部分光泽度较低，从而形成光泽度反差，使高光泽度的纹理层形成凸显于面釉层上的视觉感受，达到在保持砖面平整的前提下，具有立体效果；并且，由于表面平整，因此较现有通过凹陷结果获得立体效果的瓷砖而言，不易藏污纳垢，具有更好的耐污性。所述制备方法，通过高温烧制，使高光泽陶瓷墨水与面釉层反应，得到具有高光泽度反差的纹理层和面釉层，进而使瓷砖具有立体的视觉效果。
附图说明
[0016]图1为本专利技术提供的瓷砖的实物图一。
[0017]图2为本专利技术提供的瓷砖的实物图二。
[0018]图3为对比例1制备得到的瓷砖实物图。
[0019]图4为对比例2制备得到的瓷砖实物图。
[0020]图5为对比例3制备得到的瓷砖实物图。
[0021]图6为对比例4制备得到的瓷砖实物图。
具体实施方式
[0022]本专利技术提供一种瓷砖及其制备方法，为使本专利技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下举实施例对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。
[0023]本专利技术实施例提供一种瓷砖，所述瓷砖包括坯体层、底釉层、图案层、面釉层，还包括设置于所述图案层和面釉层之间的纹理层。其中，所述底釉层由高温哑光釉料制备得到，
可较好的遮挡瓷砖底色，同时由于其熔融温度较高，可避免与纹理层和面釉层熔融为一体，使得图案模糊。所述图案层采用常规的陶瓷颜色墨水，根据预设的图案或色彩，通过喷墨打印机打印于底釉层上，形成瓷砖砖面的主体图案或颜色。所述纹理层由打印于图案层上的高光泽陶瓷墨水与面釉层相互作用得到，所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅、氧化锌、氧化钙、三氧化二硼和三氧化二铋，通过喷墨打印机打印于图案层上，并且仅覆盖于部分图案层上。所述纹理层可以是预设的图案纹理，如为了凸显图案层的图案轮廓而预设的纹理，也可以是规则的纹理，或者是随机打印的纹理。所述面釉层由干粒釉制备得到，并且所述面釉层的干粒釉能与纹理层的高光泽陶瓷墨水共同作用，形成高亮光纹理，而所述高亮光的纹理效果与面釉层未与纹理层反应的部分形成光泽度反差，这种光泽度反差使得砖面在表面平整的情况下，能使面釉层与纹理层形成视觉上的立体效果，具体效果如图1和图2所示。
[0024]上述光泽度反差的瓷砖，通过纹理层与面釉层的光泽度差别，形成立体的视觉效果，其中，所述纹理层与面釉层相互作用后，其光泽度可达到35～60
°
，而面釉层未与纹理层作用的部分，其光泽度为4～13
°
，由于光泽度的差别，可形成立体的视觉效果，这种立体的视觉效果不是依赖于瓷砖表面不平整的凹凸结构所致，能保证砖面平整，相较于现有技术通过在砖面物理雕刻凹凸不平的纹理，或者是通过精雕本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种瓷砖，所述瓷砖包括依次层叠设置的坯体层、底釉层、图案层、面釉层，其特征在于，所述瓷砖还包括设置于所述图案层和面釉层之间的纹理层，所述纹理层覆盖部分图案层；所述纹理层由高光泽陶瓷墨水与干粒釉相互作用所得；所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅、氧化锌、氧化钙、三氧化二硼和三氧化二铋；所述干粒釉为所述面釉层的制备原料。2.根据权利要求1所述的瓷砖，其特征在于，以重量份数计，所述高光泽陶瓷墨水包括如下原料成分：二氧化硅20～50份、氧化铝5～15份、氧化锌3～10份、氧化钙5～15份、三氧化二硼10～30份、三氧化二铋5～15份、分散剂5～20份、醇醚类溶剂30～80份。3.根据权利要求1所述的瓷砖，其特征在于，所述干粒釉按重量份数计包括：干粒悬浮剂100～300份、细干粒20～80份和低温釉浆10～30份。4.根据权利要求3所述的瓷砖，其特征在于，所述干粒悬浮剂按重量份数计包括：甲基乙二醇10～30份、羧甲基纤维素钠10～30份、偏磷酸钠1～3份和水10～50份。5.根据权利要求3所述的瓷砖，其特征在于，所述细干粒的化学组成按质量百分比计包括：二氧化硅49～60%、三氧化二铝16～19%、氧化钙3～5%、氧化镁0.01～0.05%、氧化钠2～3%、氧化钾3～4%、氧化锶3.5～4.52%、氧化钡9～12%、氧化锌3～4%、其他为微量杂质及灼减≤0...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春林，谢怡伟，徐雪英，伍志良，朱光耀，陈育昆，仝松贞，傅建涛，宁毓胜，戴志梅，袁小娣，简润桐，叶德林，
申请(专利权)人：佛山市三水新明珠建陶工业有限公司广东萨米特陶瓷有限公司江西新明珠建材有限公司湖北新明珠绿色建材科技有限公司，
类型：发明
国别省市：