一种光学材料检测仪器制造技术

技术编号:37117530 阅读:8 留言:0更新日期:2023-04-01 05:12
本发明专利技术提供一种光学材料检测仪器,包括:底座、样品台、光源模块、光学探测器、三维移动装置与三维坐标装置;样品台与底座固定连接,样品台用于放置光学材料样品;光源模块与光学探测器都通过三维移动装置与底座连接,光源模块用于将光线照射在光学材料样品,光学探测器用于检测光学材料样品在被光线照射后产生的光学信号;三维坐标装置与三维移动装置连接,用于获取光源模块与光学探测器的检测位置坐标。本发明专利技术的优点在于:通过光源模块与光学探测器的配合检测光学材料内部的品质,得出光学材料样品内部的检测单元块位置,在此检测单元块发出的光学信号为异常光学信号时,判断为此检测单元块存在品质缺陷,从而精确地定位光学材料的品质缺陷。材料的品质缺陷。材料的品质缺陷。

【技术实现步骤摘要】
一种光学材料检测仪器


[0001]本专利技术涉及光学检测
,具体地涉及一种光学材料检测仪器。

技术介绍

[0002]光学元器件的制造基础是光学材料,通过光与材料的相互作用实现光的应用,因此,光学元器件的品质依赖于光学材料。在使用光学材料制作高品质光学元器件时,需要将光学材料中的不利因素(缺陷)尽量排除,为了达到这一目的,在材料研发、合成、表征等方面,技术工作者都投入了大量心血。检测光学材料品质无疑是非常有效的辅助手段之一,形形色色的技术手段都被不断尝试应用于光学材料品质检测中。
[0003]尽管各种的检测技术被应用到光学材料的品质检测中,即使采用光学干涉检测技术,光学材料应用依然面临一个比较尴尬的问题,即光学材料的品质控制往往只能在光学材料被加工到一定阶段之后才能进行比较精准的检测,如果光学材料本身品质存在一定缺陷时,就会浪费之前投入的人工、设备、材料和时间,损失巨大。导致这一现象的根本在于光学材料未经过合适的加工处理时,常规光学检测手段难以对其内部进行细致检测。为了解决这一难题,需要一种光学材料检测仪器,检测光学材料内部的品质。

技术实现思路

[0004]本专利技术要解决的技术问题,在于提供一种光学材料检测仪器,通过光源模块与光学探测器的配合检测光学材料内部的品质,以及通过三维坐标装置精确地定位光学材料的品质缺陷。
[0005]本专利技术是这样实现的:一种光学材料检测仪器,包括:
[0006]底座、样品台、光源模块、光学探测器、三维移动装置与三维坐标装置;
[0007]所述样品台与所述底座固定连接,所述样品台用于放置光学材料样品;
[0008]所述光源模块与所述光学探测器都通过所述三维移动装置与所述底座连接,所述光源模块用于将光线照射在所述光学材料样品,所述光学探测器用于检测所述光学材料样品在被光线照射后产生的光学信号;
[0009]所述三维坐标装置与所述三维移动装置连接,用于获取所述光源模块与所述光学探测器的检测位置坐标。
[0010]进一步地,还包括信息控制处理系统,所述信息控制处理系统控制着所述光源模块、光学探测器、三维移动装置、三维坐标装置的运行状态,能将所述光学探测器检测的光学信号与标准光学信号进行对比,当分析出所述光学探测器检测的光学信号是异常光学信号时,将所述异常光学信号与对应的所述检测位置坐标进行关联,得到品质缺陷数据,并保存在数据库。
[0011]进一步地,所述信息控制处理系统根据在数据库保存的品质缺陷数据的数量,对所述光学材料样品进行评价,在显示器中显示评价等级。
[0012]进一步地,所述三维移动装置包括光学平台、X轴导轨、X向滑块、Y轴导轨、Y向滑
块、Z轴导轨与Z向滑块;
[0013]所述光学探测器与所述X向滑块固定连接,所述X向滑块与所述X轴导轨滑动连接,所述X轴导轨与所述光学平台固定连接,所述光学平台与底座固定连接,所述光学探测器位于所述样品台的上方;
[0014]所述光源模块与所述Z向滑块固定连接,所述Z向滑块与所述Z轴导轨滑动连接,所述Z轴导轨的底端与所述Y向滑块固定连接,所述Y向滑块与所述Y向导轨滑动连接,所述Y向导轨与所述光学平台固定连接,所述光源模块位于所述样品台的前方。
[0015]进一步地,所述三维坐标装置包括第一光栅尺位移传感器、第二光栅尺位移传感器、第三光栅尺位移传感器,所述第一光栅尺位移传感器安装在所述X轴导轨与所述X向滑块之间,所述第二光栅尺位移传感器安装在所述Y轴导轨与Y向滑块之间,所述第三光栅尺位移传感器安装在所述Z轴导轨与Z向滑块之间,所述第一光栅尺位移传感器、第二光栅尺位移传感器、第三光栅尺位移传感器都与所述信息控制处理系统电连接。
[0016]进一步地,所述光学探测器分成第一光学探测器与第二光学探测器,所述第一光学探测器位于所述样品台的上方,所述第二光学探测器位于所述样品台的后方,所述第二光学探测器与所述光源模块进行相同方向的同步移动。
[0017]进一步地,所述第一光学探测器是光学成像探测器,所述第二光学探测器是光学能量探测器。
[0018]进一步地,还包括容器,所述容器具有光学匹配液,所述容器放置在所述样品台,所述光学材料样品浸没于所述光学匹配液。
[0019]进一步地,还包括光学窗片,所述光学窗片通过光学匹配液粘合在所述光学材料样品的表面。
[0020]进一步地,还包括俯仰调整装置,所述样品台与所述底座之间通过所述俯仰调整装置连接。
[0021]本专利技术的优点在于:
[0022]1、光源模块与光学探测器在三维移动装置的驱动下对光学材料样品进行三维扫描,通过光源模块与光学探测器的配合检测光学材料内部的品质,三维坐标装置根据光源模块与光学探测器当前所处的位置间接得出光学材料样品内部的检测单元块位置,在此检测单元块发出的光学信号为异常光学信号时,判断为此检测单元块存在品质缺陷,从而精确地定位光学材料的品质缺陷。借助本专利技术,能够在光学材料加工早期就对光学材料品质进行综合评价,检测结果对于其应用于光学元器件的制造生产会有极大的帮助,能最大程度降低生产损耗和人工,节约生产周期。
[0023]2、信息控制处理系统将检测到异常光学信号与所述检测位置坐标进行关联,并保存在数据库,有助于对光学材料品质的评价。
[0024]3、光源模块在Y向与Z向逐步移动并发出光线照射在光学材料样品,光学探测器在X向对光学材料样品进行覆盖扫描,检测光学材料样品在被光线照射后产生的光学信号,此三维扫描方式结合三维坐标装置,可以精确定位光学材料样品内部的品质缺陷。
[0025]4、使用合适的光学匹配液直接浸没光学材料样品或以匹配液作为过渡介质粘合光学窗口,采用的匹配液的折射率接近光学材料样品的折射率,这样可以很好地克服光学材料样品表面的粗糙对检测光的影响,使光能够低畸变、低散射、高效通过光学材料样品表
面,进而准确获取光学材料内部的光学信息。
附图说明
[0026]下面参照附图结合实施例对本专利技术作进一步的说明。
[0027]图1是本专利技术的光学材料检测仪器的结构示意图。
[0028]图2是图1的俯视示意图。
[0029]图3是本专利技术中信息控制处理系统的连接示意图。
[0030]图4是本专利技术中检测单元块在光线传播方向分布与光线散射的示意图。
[0031]图中的附图标记所分别指代的技术特征为:
[0032]底座1;样品台2;光源模块3;第一光学探测器4;第二光学探测器5;三维移动装置6;光学平台61;X轴导轨62;X向滑块63;Y轴导轨64;Y向滑块65;Z轴导轨66;Z向滑块67;光学材料样品7;检测单元块71;容器8。
具体实施方式
[0033]本专利技术实施例提供一种光学材料检测仪器,目的是制造出能够对光学材料内部进行三维扫描检测的光学仪器。待检测的光学材料样品可以直接使用该仪器进行光学检测,或仅需经过简单的加工即可进行检测,使用合适的匹配液直接浸没本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学材料检测仪器,其特征在于,包括:底座、样品台、光源模块、光学探测器、三维移动装置与三维坐标装置;所述样品台与所述底座固定连接,所述样品台用于放置光学材料样品;所述光源模块与所述光学探测器都通过所述三维移动装置与所述底座连接,所述光源模块用于将光线照射在所述光学材料样品,所述光学探测器用于检测所述光学材料样品在被光线照射后产生的光学信号;所述三维坐标装置与所述三维移动装置连接,用于获取所述光源模块与所述光学探测器的检测位置坐标。2.根据权利要求1所述的一种光学材料检测仪器,其特征在于,还包括信息控制处理系统,所述信息控制处理系统控制着所述光源模块、光学探测器、三维移动装置、三维坐标装置的运行状态,能将所述光学探测器检测的光学信号与标准光学信号进行对比,当分析出所述光学探测器检测的光学信号是异常光学信号时,将所述异常光学信号与对应的所述检测位置坐标进行关联,得到品质缺陷数据,并保存在数据库。3.根据权利要求2所述的一种光学材料检测仪器,其特征在于,所述信息控制处理系统根据在数据库保存的品质缺陷数据的数量,对所述光学材料样品进行评价,在显示器中显示评价等级。4.根据权利要求2所述的一种光学材料检测仪器,其特征在于,所述三维移动装置包括光学平台、X轴导轨、X向滑块、Y轴导轨、Y向滑块、Z轴导轨与Z向滑块;所述光学探测器与所述X向滑块固定连接,所述X向滑块与所述X轴导轨滑动连接,所述X轴导轨与所述光学平台固定连接,所述光学平台与底座固定连接,所述光学探测器位于所述样品台的上方;所述光源模块与所述Z向滑块固定连接,所述Z向滑块与所述Z轴导轨滑动连接,所述Z轴...

【专利技术属性】
技术研发人员:赖信城黄凌雄杜源李林顾东安
申请(专利权)人:福州闽波光电技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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