一种沉积镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术属于气相沉积镀膜技术领域，公开了一种沉积镀膜装置，该沉积镀膜装置包括反应舱、阳极热板、阴极热板及输送机构，反应舱内部设置有镀膜腔，阳极热板和阴极热板相对设置于镀膜腔内，输送机构在镀膜腔内沿第一方向输送用于承载基板的载板，第一方向与阳极热板和阴极热板的排列方向垂直，载板背离其承载面的一面与阳极热板朝向阴极热板的一侧接触，阳极热板产生的热量能够直接传递给载板，载板将热量传递给基板，以对基板进行加热，从而缩短基板加热至适宜温度的时间，进而提高镀膜效率，而且阳极热板能够将热量均匀地传递至载板，且载板能够将热量均匀地传递至基板，从而实现对基板的均匀加热，进而保证基团能够均匀地沉积在基板上。在基板上。在基板上。

【技术实现步骤摘要】
一种沉积镀膜装置


[0001]本技术涉及气相沉积镀膜
，尤其涉及一种沉积镀膜装置。

技术介绍

[0002]在硅薄膜制备工艺中，通常要通过等离子体增强化学气相沉积的方式进行制备。在等离子体增强化学气相沉积工艺中，向反应舱内通入的反应气体在电场的作用下被分解产生等离子体，等离子体中含大量活性基团，这些基团会经过一系列化学和等离子体反应，并沉积在具有适宜温度的基板上，从而在基板表面形成固态薄膜。
[0003]为保证基板的温度适宜，现有技术中通常会在反应舱内布置阳极热板和阴极热板，阳极热板和阴极热板相对设置，载板能够位于阳极热板和阴极热板之间，且载板和阳极热板之间及载板和阴极热板之间均呈间隔设置，阳极热板和阴极热板除能够产生强电场外，还能够对反应舱的内部进行加热，从而对承载于载板上的基板进行加热，即，现有技术中通常采取隔空加热的方式加热基板，但采取隔空加热的加热效率低，基板加热至适宜温度需要经过较长时间，从而影响镀膜效率，而且采取隔空加热不易保证基板能够均匀受热，从而导致基团无法均匀地沉积在基板上。
[0004]因此，上述问题亟待解决。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种沉积镀膜装置，以解决采取隔空加热的加热效率低，基板加热至适宜温度需要经过较长时间，从而影响镀膜效率，而且采取隔空加热不易保证基板能够均匀受热，从而导致基团无法均匀地沉积在基板上的问题。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一种沉积镀膜装置，包括：
[0008]反应舱，内部设置有镀膜腔；
[0009]阳极热板和阴极热板，相对设置于所述镀膜腔内；及
[0010]输送机构，被配置为在所述镀膜腔内沿第一方向输送用于承载待镀膜基板的载板，所述第一方向与所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向垂直，所述载板背离其承载面的一面与所述阳极热板朝向所述阴极热板的一侧接触。
[0011]作为优选，所述沉积镀膜装置还包括移动机构，所述移动机构被配置为驱动所述阳极热板朝向所述阴极热板移动。
[0012]作为优选，所述移动机构包括：
[0013]移动架，设置于所述反应舱的外部；
[0014]推杆，所述推杆的一端固定连接于所述移动架，所述推杆的另一端穿过所述反应舱伸入所述镀膜腔内，并与所述阳极热板固定连接；及
[0015]第一驱动件，被配置为驱动所述移动架沿所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向移动。
[0016]作为优选，所述推杆的外周套设有波纹管，所述波纹管被抵压于所述反应舱和所述推杆之间。
[0017]作为优选，所述输送机构包括一对传动辊轴组，一对所述传动辊轴组沿第二方向间隔设置，所述第二方向垂直于所述阳极热板和所述阴极热板的排列方向及所述第一方向，所述传动辊轴组包括沿所述第一方向间隔设置的多个传动辊轴，所述传动辊轴的一端伸出所述反应舱并与第二驱动件传动连接，所述载板能够承载于一对所述传动辊轴组上。
[0018]作为优选，所述沉积镀膜装置还包括磁流体密封件，所述磁流体密封件套设于所述传动辊轴的外周并被抵压于所述反应舱和所述传动辊轴之间。
[0019]作为优选，所述沉积镀膜装置还包括真空发生器及抽真空管道，所述抽真空管道的两端分别与所述真空发生器和所述镀膜腔连通。
[0020]作为优选，所述沉积镀膜装置还包括布气盒，所述布气盒安装于所述反应舱的外部，并被配置为向所述镀膜腔内通入反应气体。
[0021]作为优选，所述阴极热板通过第一加热端子与安装于所述反应舱外部的第一加热源连通，所述第一加热端子与所述反应舱之间呈密封设置。
[0022]作为优选，所述阳极热板通过第二加热端子与安装于所述反应舱外部的第二加热源连通，所述第二加热端子与所述反应舱之间呈密封设置。
[0023]本技术的有益效果：本技术中，由于载板背离其承载面的一面与阳极热板朝向阴极热板的一侧接触，因此阳极热板产生的热量能够直接传递给载板，载板能够将热量传递给基板，以对基板进行加热，从而缩短基板加热至适宜温度所需的时间，进而提高镀膜效率，而且由于载板与阳极热板之间为面接触，且基板与载板之间为面接触，因此阳极热板能够将热量均匀地传递至载板，载板能够将热量均匀地传递至基板，从而实现对基板的均匀加热，进而保证基团能够均匀地沉积在基板上。
附图说明
[0024]图1是本技术实施例中的沉积镀膜装置的结构示意图。
[0025]图中：
[0026]100、载板；
[0027]210、反应舱；211、镀膜腔；220、阴极热板；221、第一加热端子；230、阳极热板；231、第二加热端子；240、输送机构；2411、传动辊轴；250、移动机构；251、移动架；252、推杆；253、第一驱动件；260、抽真空管道；270、布气盒；280、安装架。
具体实施方式
[0028]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0029]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理
解上述术语在本技术中的具体含义。
[0030]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0031]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
[0032]请参阅图1，本实施例提供一种沉积镀膜装置，该沉积镀膜装置包括反应舱210、阳极热板230、阴极热板220及输送机构240，反应舱210内部设置有镀膜腔211，阳极热板230和阴极热板220相对设置于镀膜腔211内，输送机构240被配置为在镀膜腔211内沿第一方向输送用于承载待镀膜基板的载板100，第一方向与阳极热板230和阴本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种沉积镀膜装置，其特征在于，包括：反应舱(210)，内部设置有镀膜腔(211)；阳极热板(230)和阴极热板(220)，相对设置于所述镀膜腔(211)内；及输送机构(240)，被配置为在所述镀膜腔(211)内沿第一方向输送用于承载待镀膜基板的载板(100)，所述第一方向与所述阳极热板(230)和所述阴极热板(220)的排列方向垂直，所述载板(100)背离其承载面的一面与所述阳极热板(230)朝向所述阴极热板(220)的一侧接触。2.根据权利要求1所述的沉积镀膜装置，其特征在于，所述沉积镀膜装置还包括移动机构(250)，所述移动机构(250)被配置为驱动所述阳极热板(230)朝向所述阴极热板(220)移动。3.根据权利要求2所述的沉积镀膜装置，其特征在于，所述移动机构(250)包括：移动架(251)，设置于所述反应舱(210)的外部；推杆(252)，所述推杆(252)的一端固定连接于所述移动架(251)，所述推杆(252)的另一端穿过所述反应舱(210)伸入所述镀膜腔(211)内，并与所述阳极热板(230)固定连接；及第一驱动件(253)，被配置为驱动所述移动架(251)沿所述阳极热板(230)和所述阴极热板(220)的排列方向移动。4.根据权利要求3所述的沉积镀膜装置，其特征在于，所述推杆(252)的外周套设有波纹管，所述波纹管被抵压于所述反应舱(210)和所述推杆(252)之间。5.根据权利要求1所述的沉积镀膜装置，其特征在于，所述输送机构(240)包括一对传动辊轴组，一对所述传动辊轴组沿...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱家畅，王森，郭永强，
申请(专利权)人：嘉兴阿特斯技术研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：