本发明专利技术公开了一种金刚石气相沉积装置，包括炉体以及转动设置于炉体顶部的导流筒，所述炉体内腔中固定连接有底板，且底板与炉体顶壁之间滑动设置有隔板，导流筒穿过隔板并与隔板螺纹连接；所述底板上开设有贯穿的第一排气孔以及第二排气孔，所述隔板与导流筒之间设置有导流组件，且底板底端设置有与导流组件相配合的密封组件，所述密封组件能够交替对第一排气孔以及第二排气孔进行密封，使得通过导流组件的气体从底板处交替导出；此装置通过设置的导流组件与密封组件相配合，使得混合气体能够持续地被输送至炉体内部，并且利用隔板，使得气体在向下导出之前能够混合均匀，从而提高后期沉积的均匀性，并且气体在向下导出的过程中连续性好。续性好。续性好。
【技术实现步骤摘要】
一种金刚石气相沉积装置
[0001]本专利技术涉及气象沉积
，特别涉及一种金刚石气相沉积装置。
技术介绍
[0002]化学气相沉积是一种化工技术，广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，这些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物等，它们的物理功能可以通过气相掺杂的淀积过程精确控制。
[0003]中国专利CN208617977U公开了一种化学气相沉积装置，属于纳米材料制造领域，一种化学气相沉积装置，包括反应箱，反应箱下端固定连接有底座板，反应箱左右两侧分别设有微波发射器和真空泵，微波发射器与底座板上端之间固定连接有支撑柱，微波反射器和反应箱左端之间固定连接有波导管，且波导管与反应箱左端相连通，真空泵与反应箱之间固定连接有连通管，且真空泵与底座板上端固定连接，连通管与反应箱和真空泵均相连通，反应箱内底端固定连接有反应台，反应台上端固定连接有基片台加热器，基片台加热器上端固定连接有基片，对通向基片的反应气体进行预先布气，反应气体可以扩散均匀后在基片上反应，有效提高基片表面沉积的薄膜均匀性。
[0004]上述装置通过气体挡板与布气板之间的配合来对气体进行混合，使用过程中需要不断地拉动气体挡板来隔绝气体的输送，一方面操作较为繁琐，另一方面也会导致气体输送存在不连续的问题，因此，上述装置在实际应用时存在一定的局限性。
[0005]因此，有必要提供一种金刚石气相沉积装置解决上述技术问题。
技术实现思路
[0006]本专利技术的目的在于提供一种金刚石气相沉积装置，以解决上述
技术介绍
中提出的现有装置通过气体挡板与布气板之间的配合来对气体进行混合，使用过程中需要不断地拉动气体挡板来隔绝气体的输送，一方面操作较为繁琐，另一方面也会导致气体输送存在不连续的问题。
[0007]基于上述思路，本专利技术提供如下技术方案：包括炉体以及转动设置于炉体顶部的导流筒，所述炉体内腔中固定连接有底板，且底板与炉体顶壁之间滑动设置有隔板，导流筒穿过隔板并与隔板螺纹连接；所述底板上开设有贯穿的第一排气孔以及第二排气孔，所述隔板与导流筒之间设置有导流组件，且底板底端设置有与导流组件相配合的密封组件，所述密封组件能够交替对第一排气孔以及第二排气孔进行密封，使得通过导流组件的气体从底板处交替导出。
[0008]作为本专利技术进一步的方案：所述导流组件包括滑动设置于导流筒内部的密封环以及密封筒，所述导流筒筒壁位于密封环处开设有第一通孔，导流筒筒壁位于密封筒处开设有第二通孔，所述隔板与底板之间设置有伸缩套管，所述伸缩套管的底端与第二排气孔相连通，且伸缩套管的顶端穿过隔板并与隔板固定连接，所述密封筒的底面上固定设置有连接板，连接板穿过底板并与底板滑动连接，且在连接板的两侧面上均固定连接有斜块。
[0009]作为本专利技术进一步的方案：所述密封组件包括滑动设置于底板底部的密封块，密封块的顶部向上凸出形成密封台，所述密封台与底板相接触，底板的底面上固定连接有多个竖板，相邻两竖板之间固定连接有导向杆，所述导向杆贯穿密封台并与其滑动配合，且密封台与竖板之间连接有第一弹簧，所述密封块的下方设置有传动杆，所述传动杆外侧螺纹啮合有滑套，密封块底面上开设有条形槽，所述滑套的外侧面上向外凸出形成与条形槽滑动配合的凸起，所述滑套上位于凸起处滑动设置有限位块，条形槽顶壁上开设有与限位块相配合的限位槽。
[0010]作为本专利技术进一步的方案：所述传动杆的两端均套设有轴套，所述轴套与炉体固定连接，且传动杆的外侧套设有卷簧，所述卷簧的两个自由端分别与传动杆外侧壁以及轴套的内侧壁固定连接，所述传动杆外侧固定套设有绕线轮，所述隔板的底面固定连接有拉绳，所述拉绳的底端向下穿过底板并与绕线轮固定连接，所述拉绳缠绕于绕线轮外侧。
[0011]作为本专利技术进一步的方案：所述密封台顶面上开设有盲孔，所述限位块滑动设置于此盲孔内部，所述盲孔内部位于限位块的底端滑动配合有顶块，所述顶块和限位块之间固定连接有第二弹簧，所述盲孔的内壁处开设有滑槽，所述顶块的外侧面上固定连接有铁块，所述铁块滑动设置于滑槽内部，所述滑槽内部顶端设置有电磁铁。
[0012]作为本专利技术进一步的方案：所述连接板上开设有槽口，所述传动杆穿过此槽口并与连接板滑动配合。
[0013]作为本专利技术进一步的方案：所述炉体的一侧设置有微波发射器，且微波发射器和炉体之间连接有波导管，所述炉体另一侧设置有真空泵，真空泵和炉体之间通过连接管相导通，所述炉体内设置有沉积台。
[0014]作为本专利技术进一步的方案：所述炉体的内壁上还开设有导向槽，所述隔板的外侧面上固定连接有与导向槽滑动配合的导向块。
[0015]作为本专利技术进一步的方案：所述轴套的外侧固定连接有第一挡块，连接板与第一挡块的内侧面上均固定连接有伸缩杆。
[0016]作为本专利技术进一步的方案：所述密封块上开设有绳槽。
[0017]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：通过底板上开设有贯穿的第一排气孔以及第二排气孔，所述隔板与导流筒之间设置有导流组件，而底板底端设置有与导流组件相配合的密封组件，实际使用时，通过设置的密封组件能够交替对第一排气孔以及第二排气孔进行密封，从而使得通过导流组件的气体从底板处交替导出，从而有利于对气体进行混合，使得各组分混合均匀，提高沉积的效果，此装置通过设置的导流组件与密封组件相配合，使得混合气体能够持续地被输送至炉体内部，并且利用隔板，使得气体在向下导出之前能够混合均匀，从而提高后期沉积的均匀性，并且气体在向下导出的过程中连续性好。
附图说明
[0018]下面结合附图和实施例对本专利技术进一步说明：图1是本专利技术的整体结构示意图；图2是本专利技术图1的A处放大结构示意图；图3是本专利技术图1的B处放大结构示意图；图4是本专利技术的隔板与底板结构示意图；
图5是本专利技术的连接板与斜块结构示意图；图6是本专利技术的密封环与密封筒结构示意图；图7是本专利技术图5的C处放大结构示意图；图8是本专利技术的密封块结构示意图；图9是本专利技术的密封台对第一排气孔进行密封的结构示意图；图10是本专利技术的密封台对第二排气孔进行密封的结构示意图；图11是本专利技术的密封台对第一排气孔以及第二排气孔进行密封的结构示意图；图12是本专利技术的滑套结构示意图。
[0019]图中：1、炉体；2、传动杆；3、导向块；4、导流筒；5、密封环；6、隔板；7、伸缩套管；8、拉绳；9、导流板；10、微波发射器；11、沉积台；12、真空泵；13、轴套；14、卷簧；15、伸缩杆；16、底板；17、滑套；18、槽口；19、连接板；20、第一排气孔；21、第二排气孔；22、第一弹簧；23、密封块；24、顶块；25、第二弹簧；26、铁块；27、电磁铁；28、限位块；29、限位槽；30、导向杆；31、斜块；32、密封筒；33、密封台；34、绳槽；35、条形槽；36、第一通孔；37、第二通孔。
具体实施方式
[0020]如图1所示，一种金刚石气相沉积装置，包括炉体1以及设置于炉体1顶部的导流筒4，所述导流筒4延伸至炉体1内并与炉本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金刚石气相沉积装置，包括炉体以及转动设置于炉体顶部的导流筒，其特征在于：所述炉体内腔中固定连接有底板，且底板与炉体顶壁之间滑动设置有隔板，导流筒穿过隔板并与隔板螺纹连接；所述底板上开设有贯穿的第一排气孔以及第二排气孔，所述隔板与导流筒之间设置有导流组件，且底板底端设置有与导流组件相配合的密封组件，所述密封组件能够交替对第一排气孔以及第二排气孔进行密封，使得通过导流组件的气体从底板处交替导出。2.根据权利要求1所述的一种金刚石气相沉积装置，其特征在于：所述导流组件包括滑动设置于导流筒内部的密封环以及密封筒，所述导流筒筒壁位于密封环处开设有第一通孔，导流筒筒壁位于密封筒处开设有第二通孔，所述隔板与底板之间设置有伸缩套管，所述伸缩套管的底端与第二排气孔相连通，且伸缩套管的顶端穿过隔板并与隔板固定连接，所述密封筒的底面上固定设置有连接板，连接板穿过底板并与底板滑动连接，且在连接板的两侧面上均固定连接有斜块。3.根据权利要求2所述的一种金刚石气相沉积装置，其特征在于：所述密封组件包括滑动设置于底板底部的密封块，密封块的顶部向上凸出形成密封台，所述密封台与底板相接触，底板的底面上固定连接有多个竖板，相邻两竖板之间固定连接有导向杆，所述导向杆贯穿密封台并与其滑动配合，且密封台与竖板之间连接有第一弹簧，所述密封块的下方设置有传动杆，所述传动杆外侧螺纹啮合有滑套，密封块底面上开设有条形槽，所述滑套的外侧面上向外凸出形成与条形槽滑动配合的凸起，所述滑套位于凸起处滑动设置有限位块，条形槽顶壁上开设有与限位块相配合的限位槽。4.根据权利要求3所述的一种金刚...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵俊芳，邱永强，
申请(专利权)人：山西方维晟智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。