本发明专利技术涉及一种光学监控机构及镀膜设备，所述光学监控机构包括：监控板与转轴，所述监控板开设有第一监控孔及第二监控孔，所述第一监控孔与所述第二监控孔在所述监控板上间隔设置，且所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离与所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离不相等，所述第一监控孔与所述第二监控孔用于供光线穿过；所述转轴与所述监控板的圆心连接，所述转轴用于驱使所述监控板转动。通过两路光线能够检测镀膜基板不同半径位置的光强变化，以此得到两个位置的膜厚度变化，从而实现双路监控，并通过设置多个监控孔，能够实现多光路对镀膜的监控，监控板与镀膜基板同轴旋转，可保证光控采样信号的稳定与重复性，从而提高镀膜品质。提高镀膜品质。提高镀膜品质。
【技术实现步骤摘要】
光学监控机构及镀膜装置
[0001]本专利技术涉及光学镀膜设备
，特别是涉及一种光学监控机构及镀膜装置。
技术介绍
[0002]光学薄膜在近代光学发展中有着极为重要的作用。现有镀膜设备，包含电子枪蒸发镀膜设备，离子溅射镀膜设备以及磁控溅射镀膜设备在镀膜过程中，膜厚实时监控方式主要包涵时间控制，晶控以及光学监控。而对于光通信、生物医疗等一些对监控精度要求较高的产品，光学监控是膜厚监控系统中必备的要求。
[0003]传统技术中，光学监控方式多为单光路监控，只能实时读取一个位置的光控信号变化，也就只能反映出监控位置同等半径下的膜厚变化，就会导致整个镀膜过程无法了解其他未知的膜厚变化。对于一些镀制膜层多，总厚度较厚的产品，由于单炉镀膜时间太长，在整个镀膜过程中，无论是蒸发设备还是溅射设备，都无法完全保证整个过程中镀膜区域内的膜厚均匀性保持不变，尤其是离子溅射镀膜设备，随着镀膜时间的增长，栅网上会有较厚的膜层沉积，导致栅网变形，因此会导致产品的合格区域不受控，进而导致镀膜产能不受控。
技术实现思路
[0004]基于此，有必要提供一种光学监控机构及镀膜设备，能够有效实现多光路监控，提升镀膜品质。
[0005]其技术方案如下：一种光学监控机构，所述光学监控机构包括：监控板，所述监控板开设有第一监控孔及第二监控孔，所述第一监控孔与所述第二监控孔在所述监控板上间隔设置，且所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1与所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2不相等，所述第一监控孔与所述第二监控孔用于供光线穿过；转轴，所述转轴与所述监控板的圆心连接，所述转轴用于驱使所述监控板转动。
[0006]在其中一个实施例中，所述监控板还开设有第三监控孔，所述第三监控孔与所述第一监控孔、所述第二监控孔均间隔设置，且所述第三监控孔到所述监控板圆心的距离R3与所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1及所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2均不相等，所述第三监控孔用于供光线穿过。
[0007]在其中一个实施例中，沿所述第一监控孔的轴向对所述第一监控孔做截面获取第一截面，所述第一截面轮廓为矩形，且所述第一监控孔分别与监控板的高度方向的相对两侧面垂直设置。
[0008]在其中一个实施例中，沿所述监控板的径向对所述第一监控孔及所述第三监控孔做截面分别获取第二截面及第三截面，所述第一截面与所述第三截面均为矩形，且所述第二截面的面积大于所述第三截面的面积。
[0009]在其中一个实施例中，所述第二监控孔的孔壁设有第一反射面与第二反射面，所述第一反射面与所述监控板呈夹角α1设置，所述第二反射面与所述监控板呈夹角α2设置，所
述第一反射面与所述第二反射面均用于反射光线。
[0010]在其中一个实施例中，所述第一反射面与所述第二反射面平行，沿所述监控板的高度方向对所述第二监控孔做截面获取第四截面，所述第四截面的轮廓为平行四边形，α1＝α2或α1+α2＝180
°
。
[0011]在其中一个实施例中，所述第三监控孔的孔壁设有第三反射面与第四反射面，所述第三反射面与所述第四反射面平行且与所述监控板呈夹角设置，沿所述监控板的径向，所述第一反射面与所述第二反射面之间的距离D1大于所述第三反射面与所述第四反射面的距离D2。
[0012]在其中一个实施例中，所述光学监控机构还包括配合件，所述配合件穿设于所述第二监控孔中并与所述第二监控孔的内壁抵触配合，且所述配合件中设有配合孔，所述配合孔用于供光线穿过。
[0013]在其中一个实施例中，所述监控板设有安装孔，所述安装孔设置于所述监控板的圆心，所述旋转轴通过所述安装孔与所述监控板可拆卸连接。
[0014]上述光学监控机构，在安装过程中，将镀膜基板与监控板一同安装再旋转轴上，使得镀膜基板与监控板平行并同轴设置。镀膜时，镀膜基板与监控板同轴旋转，在一周的旋转过程中，光线分别通过第一监控孔与第二监控孔到达镀膜基板，由于第一监控孔与第二监控孔到圆心的距离不同，并且不同的监控孔具有不同的倾斜角度，因此，通过同一束光能够分成多路光线，多路光线能够通过不同的监控孔检测镀膜基板不同半径位置的光强变化，以此得到多个位置的膜厚度变化，实现多光路对镀膜的监控，监控板与镀膜基板同轴旋转，可保证光控采样信号的稳定与重复性，从而提高镀膜品质。而且，不需要多路光源就可以实现多光路监控，只需要同一光源，即可实现多光路监控的效果，因此不局限于光斑特别小的激光光源，对于白光光源同样适用。
[0015]一种镀膜装置，所述镀膜装置包括光源、镀膜基板及上述中任意一项所述的光学监控机构，所述镀膜基板与所述旋转轴连接，且所述镀膜基板与所述监控板同轴设置，所述光源设置于所述监控板背向所述镀膜基板的一侧。
[0016]上述镀膜装置，在安装过程中，将镀膜基板与监控板一同安装再旋转轴上，使得镀膜基板与监控板平行并同轴设置。镀膜时，镀膜基板与监控板同轴旋转，在一周的旋转过程中，光线分别通过第一监控孔与第二监控孔到达镀膜基板，由于第一监控孔与第二监控孔到圆心的距离不同，并且不同的监控孔具有不同的倾斜角度，因此，通过同一束光能够分成多路光线，多路光线能够通过不同的监控孔检测镀膜基板不同半径位置的光强变化，以此得到多个位置的膜厚度变化，实现多光路对镀膜的监控，监控板与镀膜基板同轴旋转，可保证光控采样信号的稳定与重复性，从而提高镀膜品质。而且，不需要多路光源就可以实现多光路监控，只需要同一光源，即可实现多光路监控的效果，因此不局限于光斑特别小的激光光源，对于白光光源同样适用。
附图说明
[0017]构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使
用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为一实施例中所述的光学监控机构的整体结构示意图；
[0020]图2为一实施例中所述的光学监控机构的内部结构示意图一；
[0021]图3为一实施例中所述的光学监控机构的内部结构示意图二；
[0022]图4为一实施例中所述的光学监控机构的安装位置示意图。
[0023]附图标记说明：
[0024]100、光学监控机构；110、监控板；111、第一监控孔；112、第二监控孔；113、第三监控孔；114、安装孔；115、第一反射面；116、第二反射面；120、旋转轴；200、镀膜基板。
具体实施方式
[0025]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学监控机构，其特征在于，所述光学监控机构包括：监控板，所述监控板开设有第一监控孔及第二监控孔，所述第一监控孔与所述第二监控孔在所述监控板上间隔设置，且所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1与所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2不相等，所述第一监控孔与所述第二监控孔用于供光线穿过；转轴，所述转轴与所述监控板的圆心连接，所述转轴用于驱使所述监控板转动。2.根据权利要求1所述的光学监控机构，其特征在于，所述监控板还开设有第三监控孔，所述第三监控孔与所述第一监控孔、所述第二监控孔均间隔设置，且所述第三监控孔到所述监控板圆心的距离R3与所述第一监控孔到所述监控板圆心的距离R1及所述第二监控孔到所述监控板圆心的距离R2均不相等，所述第三监控孔用于供光线穿过。3.根据权利要求1所述的光学监控机构，其特征在于，沿所述第一监控孔的轴向对所述第一监控孔做截面获取第一截面，所述第一截面轮廓为矩形，且所述第一监控孔分别与监控板的高度方向的相对两侧面垂直设置。4.根据权利要求3所述的光学监控机构，其特征在于，沿所述监控板的径向对所述第一监控孔及所述第三监控孔做截面分别获取第二截面及第三截面，所述第一截面与所述第三截面均为矩形，且所述第二截面的面积大于所述第三截面的面积。5.根据权利要求1所述的光学监控机构，其特征在于，所述第二监控孔的孔壁设有第一反射面与第二反射面，所述第一反射面与所述监控板呈夹角α1设置，所述第二反射面与所...
【专利技术属性】
技术研发人员：张殷，孙紫娟，余桂龙，李景会，
申请(专利权)人：苏州岚创科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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