一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法技术

本发明专利技术涉及一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法，包括馈穿件，馈穿件上设置有转架，转架上设置有若干个基片，转架上的中间位置设置有冷热鼓，若干个基片分布在冷热鼓的外侧位置，冷热鼓的内部设置有液体通道，液体通道包括第一循环管路和第二循环管路。本发明专利技术通过冷热鼓、换热板和制冷机的结构设计，可以将热传导到涂层机外，并实现涂层机热量的循环利用；本发明专利技术通过基片加热步骤主要用于涂层前基片加热脱气；本发明专利技术通过基片冷却步骤将涂层过程中的热量通过热辐射或热传导的形式带到涂层机外，基片能保持在一个工艺设定的温度。对回火温度低的基片和涂层温度低的工艺，是一个合适的导热方法。的导热方法。的导热方法。

【技术实现步骤摘要】
一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法


[0001]本专利技术涉及涂层相关
，尤其涉及一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法。

技术介绍

[0002]涂层机内的热量主要来源于加热器热辐射、等离子体的轰击、炉内衬板、基片、夹具等的热辐射，涂层机中多余的热量需要进行及时的处理，进而通过合理的结构设计将热传导到涂层机外，并实现涂层机热量的循环利用显得尤为重要。
[0003]有鉴于上述的缺陷，本设计人积极加以研究创新，以期创设一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法，使其更具有产业上的利用价值。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本专利技术的目的是提供一种均匀涂覆低温涂层的设备及方法。
[0005]为实现上述目的，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]本专利技术目的之一：
[0007]一种均匀涂覆低温涂层的设备，包括馈穿件，馈穿件上设置有转架，转架上设置有若干个基片，转架上的中间位置设置有冷热鼓，若干个基片分布在冷热鼓的外侧位置，冷热鼓的内部或贴附设置有导热剂通道，导热剂通道包括第一循环管路和第二循环管路，第一循环管路与第一三通阀的第一端相连接，第一三通阀的第二端与加热器相连接，第一三通阀的第三端与换热板相连接，换热板与制冷机相连接，第二循环管路与第二三通阀的第一端相连接，第二三通阀的第二端与第一缓冲罐相连接，第二三通阀的第三端与第二缓冲罐相连接，加热器和第一缓冲罐之间连接设置有第一泵，换热板和第二缓冲罐之间连接设置有第二泵。
[0008]作为本专利技术的进一步改进，转架为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，冷热鼓为圆柱状结构，若干个基片均为圆柱状结构或多边形结构或矩形板状结构，若干个基片沿着圆周方向均匀的设置在转架上，且若干个基片与冷热鼓之间设置有间隙。
[0009]作为本专利技术的进一步改进，转架为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，冷热鼓为圆柱状结构，若干个基片沿着圆周方向均匀的设置在冷热鼓上。
[0010]作为本专利技术的进一步改进，转架为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，冷热鼓为多边形结构，若干个基片沿着冷热鼓的若干个边均匀的设置在冷热鼓上。
[0011]作为本专利技术的进一步改进，转架为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，冷热鼓为开口朝外的多边弧形结构，若干个基片沿着冷热鼓的若干个弧形边均匀的设置在冷热鼓上。
[0012]本专利技术目的之二：
[0013]一种均匀涂覆低温涂层的方法，包括基片加热步骤和基片冷却步骤，基片加热步骤为把冷热鼓的温度调至比基片高的温度，并对基片进行加热；基片冷却步骤为把冷热鼓
温度调到比基片低的温度，并对基片进行冷却。
[0014]作为本专利技术的进一步改进，基片加热步骤依次包括以下步骤：
[0015]1)打开第一三通阀的第二端使得第一循环管路与加热器相连接；
[0016]2)打开第二三通阀的第二端使得第二循环管路与第一缓冲罐相连接；
[0017]3)加热器对导热剂进行加热，导热剂受热后在第一泵的作用下，通过第一循环管路被推送到冷热鼓，并对冷热鼓加热处理，冷热鼓再对基片加热处理，热的导热剂通过第二循环管路回流至第一缓冲罐中。
[0018]作为本专利技术的进一步改进，基片冷却步骤依次包括以下步骤：
[0019]1)打开第一三通阀的第三端使得第一循环管路与换热板相连接；
[0020]2)打开第二三通阀的第三端使得第二循环管路与第二缓冲罐相连接；
[0021]3)通过与换热板相连接的制冷机的制冷作用将热量带走，冷的导热剂在第二泵的作用下，通过第一循环管路被推送到冷热鼓，并对冷热鼓冷却处理，冷热鼓再对基片冷却处理，冷的导热剂通过第二循环管路回流至第二缓冲罐中。
[0022]作为本专利技术的进一步改进，基片加热步骤中把冷热鼓的温度调至在350℃以内，基片冷却步骤中把冷热鼓温度调至在
‑
30℃～90℃之间。
[0023]借由上述方案，本专利技术至少具有以下优点：
[0024]1、本专利技术通过冷热鼓、换热板和制冷机的结构设计，可以将热传导到涂层机外，并实现涂层机热量的循环利用；
[0025]2、本专利技术通过基片加热步骤主要用于涂层前基片加热脱气；
[0026]3、本专利技术通过基片冷却步骤将涂层过程中的热量通过热辐射或热传导的形式带到涂层机外，基片能保持在一个工艺设定的温度。对回火温度低的基片和涂层温度低的工艺，是一个合适的导热方法。
[0027]上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0029]图1是本专利技术一种均匀涂覆低温涂层的设备的结构示意图；
[0030]图2是本专利技术第一实施例中馈穿件、冷热鼓和基片的结构示意图；
[0031]图3是本专利技术第一实施例的俯视图；
[0032]图4是本专利技术第二实施例的俯视图；
[0033]图5是本专利技术第三实施例的俯视图；
[0034]图6是本专利技术第四实施例中馈穿件、冷热鼓和基片的结构示意图；
[0035]图7是本专利技术第四实施例的俯视图；
[0036]图8是本专利技术第五实施例的俯视图；
[0037]图9是本专利技术第六实施例的俯视图。
[0038]其中，图中各附图标记的含义如下。
[0039]1 冷热鼓
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2 加热器
[0040]3 第一泵
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4 第一缓冲罐
[0041]5 第一循环管路
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6 第一三通阀
[0042]7 换热板
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8 制冷机
[0043]9 第二泵
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10 第二缓冲罐
[0044]11 第二三通阀
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12 第二循环管路
[0045]13 基片
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14 转架
[0046]15 馈穿件
具体实施方式
[0047]下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。
[0048]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本专利技术实施例的组件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种均匀涂覆低温涂层的设备，包括馈穿件(15)，所述馈穿件(15)上设置有转架(14)，所述转架(14)上设置有若干个基片(13)，其特征在于，所述转架(14)上的中间位置设置有冷热鼓(1)，若干个所述基片(13)分布在冷热鼓(1)的外侧位置，所述冷热鼓(1)的内部或贴附设置有导热剂通道，所述导热剂通道包括第一循环管路(5)和第二循环管路(12)，所述第一循环管路(5)与第一三通阀(6)的第一端相连接，所述第一三通阀(6)的第二端与加热器(2)相连接，所述第一三通阀(6)的第三端与换热板(7)相连接，所述换热板(7)与制冷机(8)相连接，所述第二循环管路(12)与第二三通阀(11)的第一端相连接，所述第二三通阀(11)的第二端与第一缓冲罐(4)相连接，所述第二三通阀(11)的第三端与第二缓冲罐(10)相连接，所述加热器(2)和第一缓冲罐(4)之间连接设置有第一泵(3)，所述换热板(7)和第二缓冲罐(10)之间连接设置有第二泵(9)。2.如权利要求1所述的一种均匀涂覆低温涂层的设备，其特征在于，所述转架(14)为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，所述冷热鼓(1)为圆柱状结构，若干个所述基片(13)均为圆柱状结构或多边形结构或矩形板状结构，若干个所述基片(13)沿着圆周方向均匀的设置在转架(14)上，且若干个所述基片(13)与冷热鼓(1)之间设置有间隙。3.如权利要求1所述的一种均匀涂覆低温涂层的设备，其特征在于，所述转架(14)为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，所述冷热鼓(1)为圆柱状结构，若干个所述基片(13)沿着圆周方向均匀的设置在冷热鼓(1)上。4.如权利要求1所述的一种均匀涂覆低温涂层的设备，其特征在于，所述转架(14)为圆盘状结构或多边形结构或矩形结构，所述冷热鼓(1)为多边形结构，若干个所述基片(13)沿着冷热鼓(1)的若干个边均匀的设置在冷热鼓(1)上。5.如权利要求1所述的一种均匀涂覆低温涂层的设备，其特征在于，所述转架(14)为圆盘状...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈锋光，
申请(专利权)人：新倍司特系统科技苏州有限公司，
类型：发明
国别省市：