ALD镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种ALD镀膜设备，包括：外壳体，所述外壳体的周向侧壁开设有开口；内筒体，所述内筒体连接于所述外壳体内部，所述内筒体的周向外壁与所述外壳体的内壁围成工作腔，工作状态下，所述工作腔为真空状态；运输件，所述运输件位于所述工作腔内，且所述运输件能够在所述工作腔内运动，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动；工艺组件，所述工艺组件用于对所述基板完成镀膜。运输件转动方式有利于在工作腔内同时进行不同的ALD工艺阶段，有效缩短ALD工艺过程的时间，提高镀膜效率。内筒体中间区域无需保持真空，为常压状态，有利于大幅降低ALD工艺中前驱体的使用量，降低生产成本，并且有效降低泵体和加热的能耗，提高经济效益。提高经济效益。提高经济效益。

【技术实现步骤摘要】
ALD镀膜设备


[0001]本技术涉及镀膜机
，特别是涉及一种ALD镀膜设备。

技术介绍

[0002]随着自动加工技术的发展，出现了镀膜机技术。现有的镀膜机主要有以下几种类型：PVD(Physical Vapor Deposition，物理气象沉积)设备，主要有磁控溅射镀膜机，离子溅射镀膜机，电子枪蒸发镀膜机。还有传统的CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)镀膜机以及CVD的一类特殊分支—ALD(Atomic Layer Deposition，原子层沉积)镀膜机。
[0003]传统技术中，ALD镀膜设备有着其特殊的优势，可满足复杂形状的镀膜基板的镀膜要求，镀制的膜层质量远高于其他类型的镀膜设备，然而，目前的ALD镀膜设备在工作过程中，镀膜速率较低，远远低于PVD镀膜设备和常规的CVD镀膜机。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要提供一种ALD镀膜设备，能够有效提高镀膜效率。
[0005]其技术方案如下：一种ALD镀膜设备，所述ALD镀膜设备包括：外壳体，所述外壳体的周向侧壁开设有开口；内筒体，所述内筒体连接于所述外壳体内部，所述内筒体的周向外壁与所述外壳体的内壁围成工作腔，工作状态下，所述工作腔为真空状态；运输件，所述运输件位于所述工作腔内，且所述运输件能够在所述工作腔内运动，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动；工艺组件，所述工艺组件设置于所述外壳体上，且所述工艺组件通过所述开口与所述工作腔连通，所述工艺组件用于对所述基板完成镀膜。/>[0006]上述ALD镀膜设备，在工作过程中，将待镀膜的基板放置于工作腔内，运输件带动基板绕工作腔的周向转动，外壳体的外壁上的工艺组件通过开口对工作腔内的基板进行镀膜加工工艺。由于运输件在工作腔内转动，这种方式有利于在工作腔内同时进行不同的ALD工艺阶段，有效缩短ALD工艺过程的时间，提高镀膜效率。另外，由于内筒体的存在，内筒体中间区域无需保持真空，为常压状态，使得工作腔的实际体积缩小，有利于大幅降低ALD工艺中前驱体的使用量，降低生产成本，并且有效降低泵体和加热的能耗，提高经济效益。
[0007]在其中一个实施例中，所述内筒体与所述外壳体的底壁可拆卸连接，所述内筒体拆卸后，所述外壳体的内部为真空状态。
[0008]在其中一个实施例中，所述工艺组件包括第一ALD件和惰性气体清理模块，所述开口包括第一开孔与第二开孔，所述第二开孔与所述第一开孔绕所述外壳体的周向侧壁间隔设置，所述第一ALD件通过所述第一开孔与所述工作腔连通，所述第一ALD件用于前驱体的加工，所述惰性气体清理模块通过所述第二开孔与所述工作腔连通，所述惰性气体清理模块用于基板的清洁处理。
[0009]在其中一个实施例中，所述工艺组件还包括第二ALD件，所述开口包括第三开孔，所述第二ALD件通过所述第三开孔与所述工作腔连通，所述第二ALD件设有阳极层离子源，
所述第二ALD件用于前驱体的加工。
[0010]在其中一个实施例中，所述工艺组件还包括光学监控件，所述开口包括第四开孔，所述光学监控件通过所述第四开孔与所述工作腔连通，所述光学监控件用于监控镀膜厚度。
[0011]在其中一个实施例中，所述ALD镀膜设备还包括抽气管道，所述抽气管道设置于所述内筒体的内腔中，所述内筒体的内腔开设有抽气口，所述抽气管道通过所述抽气口与所述工作腔连通。
[0012]在其中一个实施例中，所述ALD镀膜设备还包括机架及供气室，所述供气室设置于所述外壳体与所述机架之间，且所述供气室与所述工作腔连通，所述供气室用于为所述工作腔提供隔离气体和/或工艺气体。
[0013]在其中一个实施例中，所述ALD镀膜设备还包括盖板组件，所述盖板组件与所述机架连接，所述盖板组件转动至第一工作状态时，所述盖板组件盖设于所述外壳体上并与所述工作腔的腔口密封配合；所述盖板组件转动至第二工作状态时，所述盖板组件与所述外壳体脱离密封配合。
[0014]在其中一个实施例中，所述盖板组件包括盖板本体及驱动件，所述驱动件设置于所述机架上并与所述外壳体间隔设置，所述盖板本体连接于所述驱动件的输出端，所述驱动件驱使所述盖板本体在所述第一工作状态及所述第二工作状态之间运动。
[0015]在其中一个实施例中，所述ALD镀膜设备还包括移动轮，所述移动轮为多个，多个移动轮间隔连接于所述机架的底壁上。
[0016]在其中一个实施例中，所述外壳体的外轮廓为圆形，所述内筒体的外轮廓为圆形，所述工作腔为环形，所述运输件用于携带所述基板在环形的所述工作腔内周向运动。
附图说明
[0017]构成本申请的一部分的附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为一实施例中所述的ALD镀膜设备的整体结构示意图；
[0020]图2为图1中所述的ALD镀膜设备的另一视角的结构示意图。
[0021]附图标记说明：
[0022]100、ALD镀膜设备；110、外壳体；111、工作腔；120、内筒体；130、工艺组件；131、第一ALD件；132、惰性气体清理模块；133、第二ALD件；134、光学监控件；140、抽气管道；150、机架；151、移动轮；160、供气室；170、盖板组件；171、盖板本体；172、驱动件。
具体实施方式
[0023]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分
理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进，因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0024]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0025]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种ALD镀膜设备，其特征在于，所述ALD镀膜设备包括：外壳体，所述外壳体的周向侧壁开设有开口；内筒体，所述内筒体连接于所述外壳体内部，所述内筒体的周向外壁与所述外壳体的内壁围成工作腔，工作状态下，所述工作腔为真空状态；运输件，所述运输件位于所述工作腔内，且所述运输件能够在所述工作腔内运动，所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动；工艺组件，所述工艺组件设置于所述外壳体上，且所述工艺组件通过所述开口与所述工作腔连通，所述工艺组件用于对所述基板完成镀膜。2.根据权利要求1所述的ALD镀膜设备，其特征在于，所述内筒体与所述外壳体的底壁可拆卸连接，所述内筒体拆卸后，所述外壳体的内部为真空状态。3.根据权利要求1所述的ALD镀膜设备，其特征在于，所述工艺组件包括第一ALD件和惰性气体清理模块，所述开口包括第一开孔与第二开孔，所述第二开孔与所述第一开孔绕所述外壳体的周向侧壁间隔设置，所述第一ALD件通过所述第一开孔与所述工作腔连通，所述第一ALD件用于前驱体的加工，所述惰性气体清理模块通过所述第二开孔与所述工作腔连通，所述惰性气体清理模块用于基板的清洁处理。4.根据权利要求1所述的ALD镀膜设备，其特征在于，所述工艺组件还包括第二ALD件，所述开口包括第三开孔，所述第二ALD件通过所述第三开孔与所述工作腔连通，所述第二ALD件设有阳极层离子源，所述第二ALD件用于前驱体的加工。5.根据权利要求1所述的ALD镀膜设备，其特征在于，所述工艺组件还包括光学监控件，所述开口包括第四开孔，所述光学监控件通过所述第四开孔与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙紫娟，张殷，余桂龙，张小飞，徐胜，孙伟，
申请(专利权)人：苏州岚创科技有限公司，
类型：新型
国别省市：