一种自找平工作台及半导体加工设备制造技术

本实用新型专利技术涉及半导体设备技术领域，解决了现有技术下自找平工作台结构设计较为复杂，且缺少良好的自锁性能及承压性能，因而较难满足较为精密工件的加工需求的问题，提供了一种自找平工作台。该自找平工作台包括底板；万向球，其中万向球顶部开设有安装面，安装面上设有载物板；抱紧组件，对万向球进行定位以及固定。本实用新型专利技术自找平工作台及半导体加工设备能够方便高效的完成工件的自找平，结构简单，成本较低，同时又能够有效满足工件定位及压合需求，具有一定的承压效果，且方便实用。且方便实用。且方便实用。

【技术实现步骤摘要】
一种自找平工作台及半导体加工设备


[0001]本技术属于半导体设备
，尤其涉及一种自找平工作台及半导体加工设备。

技术介绍

[0002]在半导体加工设备中，需要对工件进行自调平、定位并压合，现有技术下的自找平工作台大多结构设计较为复杂，成本较高，而且在对工件进行定位压合时，由于缺少良好的自锁性能及承压性能，因而很难满足较为精密工件的加工需求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种方便自锁的自找平工作台，解决现有自找平工作台存在的结构设计较为复杂、成本较高、自锁性能及承压性能较差的技术问题。
[0004]为实现上述目的，本技术采用下述技术方案：一种自找平工作台，其特征在于，包括：底板；万向球，设于所述底板上表面；其中万向球顶部开设有安装面，所述安装面上设有载物板；抱紧组件，所述抱紧组件与所述万向球抵接时，所述万向球处于锁紧状态，当所述抱紧组件与所述万向球分离时，所述万向球处于自由状态。
[0005]优选地，所述底板与所述万向球之间设有支撑块，所述支撑块的表面上设有与所述万向球相配合的第一球面凹坑。
[0006]优选地，所述抱紧组件设为一对且对称地设置于所述万向球的相对两侧，每个所述抱紧组件包括：抱紧块，相对设置于所述万向球的两侧，靠近万向球的一侧设有第二球面凹坑，第二球面凹坑具有与所述万向球的球面相适配的抵接面；若干导轨，设置于所述抱紧块与所述底板之间，并与所述抱紧块滑动连接；气缸，其与所述底板紧固，用于驱动所述抱紧块沿所述导轨长度方向相对于所述抱紧块做往返运动。
[0007]优选地，所述第一球面凹坑与所述万向球的球面之间设置有耐磨件或耐磨层。
[0008]优选地，所述载物板为圆形板，其直径大于万向球直径。
[0009]优选地，相对于所述底板，抱紧块相对于所述底板的高度，低于所述载物板相对于所述底板的高度，且一对抱紧块之间设置有容纳支撑块的空间；所述抱紧块的第二球面凹坑的壁面上涂覆有一层用于增加摩擦力的胶层。
[0010]优选地，所述导轨沿两所述抱紧块的抱紧方向设置。
[0011]优选地，所述气缸包括与抱紧块驱动连接的两个活塞杆。
[0012]优选地，每个所述抱紧块的导轨设为两条，在底板上沿两条所述导轨的延伸方向各设置有一对相对于所述抱紧块往返运动方向对称的减震缓冲器，其中一个缓冲器在所述万向球处于锁紧状态下与所述抱紧块相抵接，另一个缓冲器在所述万向球处于自由状态下与所述抱紧块相抵接。
[0013]本技术还提供一种半导体加工设备，包括以上任一的自找平工作台。
[0014]综上所述，本技术的有益效果在于：通过该自找平工作台满足工件的自找平
及压合需求，通过抱紧组件与万向球的配合，实现自找平的抱紧定位及自锁性能,同时具有一定的承压效果。
附图说明
[0015]图1是本技术实施例一提供的自找平工作台的结构示意图；
[0016]图2是对应图1的A
‑
A的截面图。
[0017]图中标记如下：
[0018]1‑
底板；2
‑
万向球；3
‑
抱紧组件；31
‑
抱紧块；32
‑
导轨；33
‑
气缸；4
‑
支撑块； 5
‑
载物板；6
‑
减震缓冲器。
具体实施方式
[0019]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0020]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0021]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0022]在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
[0023]请参见图1提供了一种自找平工作台，包括：底板1用于承载工作台的各类组件；万向球2，架设于底板1上表面，转动调节角度，实现自找平；其中万向球2顶部开设有安装面，安装面上设置载物板5，载物板5为圆形板，其直径大于万向球2直径，用于承载工件；抱紧组件3，对万向球2进行定位以及固定，抱紧组件3与万向球2抵接时，万向球2处于锁紧状态，当抱紧组件 3与万向球2分离时，万向球2处于自由状态。本技术实施例的自找平工作台采用两组抱紧组件3与万向球2的配合，结构设计与组成较为简单，使自找平工作台制作成本较低，且具有较好的自锁性能及承压性能；同时通过万向球2自由调整角度，满足了基本的自找平功能，从而满足较为精密工件的加工需求。
[0024]更进一步地，所述万向球2在底板1上中间位置；所述抱紧组件3设置在底板1上两侧位置，以万向球2为中心，对称相对设置于万向球2的两侧。抱紧组件能够同步驱动，对万
向球2抱紧，达到更好的锁紧效果。
[0025]结合参考图1和图2，优选地，在底板1的上方与万向球2之间设有支撑块4，作为万向球2的支撑，表面上开设有与万向球2相配合的第一球面凹坑，使得万向球2自找平能够在第一球面凹坑中各个角度转动，同时能够约束万向球2的移动，使其不会偏离所述支撑块4的支撑区域，且球形面的受力较均匀，使支撑块4的承压能力增加。
[0026]优选地，第一球面凹坑与万向球2的球面之间设置有耐磨层，在万向球2 转动时，减少万向球2与第一球面凹坑之间的摩擦力，方便万向球2的转动，降低两者之间的磨损，增加工作台的使用寿命。
[0027]优选地，本技术实施例抱紧组件3为两组，每组抱紧组件3包括：抱紧块31，靠近万向球2的一侧设有第二球面凹坑，与万向球2相适配，贴近万向球2时可限制住万向球2的移动与转动，用于给万向球2抱紧定位，其中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种自找平工作台，其特征在于，包括：底板；万向球，设于所述底板上表面；其中万向球顶部开设有安装面，所述安装面上设有载物板；抱紧组件，所述抱紧组件与所述万向球抵接时，所述万向球处于锁紧状态，当所述抱紧组件与所述万向球分离时，所述万向球处于自由状态。2.根据权利要求1所述的自找平工作台，其特征在于，所述底板与所述万向球之间设有支撑块，所述支撑块的表面上设有与所述万向球相配合的第一球面凹坑。3.根据权利要求2所述的自找平工作台，其特征在于，所述抱紧组件设为一对且对称地设置于所述万向球的相对两侧，每个所述抱紧组件包括：抱紧块，相对设置于所述万向球的两侧，靠近万向球的一侧设有第二球面凹坑，所述第二球面凹坑具有与所述万向球的球面相适配的抵接面；若干导轨，设置于所述抱紧块与所述底板之间，并与所述抱紧块滑动连接；气缸，其与所述底板紧固，用于驱动所述抱紧块沿所述导轨长度方向相对于所述抱紧块做往返运动。4.根据权利要求2所述的自找平工作台，其特征在于，所述第一球面凹坑与所述万向球的球面之间设置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：娄飞，
申请(专利权)人：南方工业技术研究院深圳，
类型：新型
国别省市：