一种精密调节气体分布的气管机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种精密调节气体分布的气管机构，包括总气管，所述总气管上开设有多个出气孔，各个所述出气孔等距排列设置在总气管上。本实用新型专利技术的精密调节气体分布的气管机构，对真空镀膜炉的内部进行气体输送的过程中，因各个分气管的一端位于相邻的两个出气孔之间，且各个出气孔等距排列设置在总气管上，总气管内部输送后的工作气体与反应气体可以通过各个出气孔等距排布的进入至真空镀膜炉的内部，使进入真空镀膜炉内部的气体可以更加均匀的进行反应，降低真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在的偏差，进一步的降低产品真空镀膜过程中产生色差的几率，提高了真空镀膜的质量。膜的质量。膜的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种精密调节气体分布的气管机构


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体为一种精密调节气体分布的气管机构。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。
[0003]现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉的内部，造成真空镀膜炉内部不同高度位置的气体浓度存在偏差，使产品镀膜过程中易存在色差，且工作气体与反应气体在输送的过程中难以精准把控输送气体的量，不便于产品的真空镀膜操作。
[0004]因此亟需一种精密调节气体分布的气管机构来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种精密调节气体分布的气管机构，以解决上述
技术介绍
中提出的现有的真空镀膜设备在工作的过程中，难以均匀的将工作气体与反应气体输送至真空镀膜炉内部的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管，所述总气管上开设本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种精密调节气体分布的气管机构，设置于真空镀膜炉内部，包括总气管(1)，其特征在于：所述总气管(1)上开设有多个出气孔(2)，各个所述出气孔(2)等距排列设置在总气管(1)上，各个所述出气孔(2)与真空镀膜炉的内部相通设置，所述总气管(1)上安装有多个用于真空镀膜过程工作气体及反应气体输送的分气管(3)，所述分气管(3)的一端位于相邻的两个出气孔(2)之间，各个所述分气管(3)的另一端通过安装机构连接有输送管(5)。2.根据权利要求1所述的一种精密调节气体分布的气管机构，其特征在于：各个所述分气管(3)上安装有流量控制阀(4)。3.根据权利要求1所述的一种精密调节气体分布的气管机构，其特征在于：所述安装机构包括固定在分气管(3)上的操作管(601)，所述操作管(601)上开设有多个滑动槽(602)，各个所述滑动槽(602)上滑动连接有滑动板(603)，各个所述滑动板(603)位于操作管(601)内部的一端固定有弧形挤压板(604)，所述操作管(601)上设置有用于各个滑动板(603)驱动的驱动机构，所述操作管(601)内部设置有用于分气管(3)与输送管(5)之间气体输送过程密封的密封机构。4.根据权利要求3所述的一种精密调节气体分布的气管机...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢纯玲，冯伟，吴海平，杜晓颖，杜国才，
申请(专利权)人：惠州市常兴荣科技有限公司，
类型：新型
国别省市：