一种硅片步进控制系统技术方案

一种硅片步进控制系统，包括置于清洗槽内部并用于夹持硅片传输的夹持组件以及用于控制所述夹持组件的传动组件；所述传动组件横跨所述夹持组件的宽度并被配置于所述清洗槽的外侧面；所述传动组件连接于同一个驱动源；所述驱动源驱动所述传动组件带动所述夹持组件同步传动以使硅片朝靠近分片滚轮一端步进移动。本实用新型专利技术一种硅片步进控制系统，不仅可提高硅片两侧皮带及底部皮带传输的同步性，以保证硅片步进同频移动，提高硅片分片的合格率；而且所有传动组件均设置在皮带的外侧面，可降低整体结构的高度，提高皮带传输的稳定性，还可以留出更多的空间设置其它结构，空间利用率高且传输稳定。利用率高且传输稳定。利用率高且传输稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片步进控制系统


[0001]本技术属于硅片清洗设备
，尤其是涉及一种硅片步进控制系统。

技术介绍

[0002]硅片脱胶后放置在清洗槽中，需要采用皮带夹持着硅片前行移动，现有控制皮带的传输结构都是设置在靠近分片滚轮一侧且竖直立设在清洗槽上方，且两侧的皮带和底部的皮带分别由三个电机驱动，同步性差，这样不仅导致双侧的皮带和底部皮带传输不同步，容易出现异步传输，致使硅片步进的频率不一致，容易产生废片。而且置于皮带上方的电机驱动容易导致整个硅片分片系统高度拔高，致使清洗系统中尤其是靠近分片一端的分片机构的安装空间受限，使得清洗设备结构布局不合理。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种硅片步进控制系统，解决了现有技术中异步电机控制的皮带传输结构同步性差导致硅片步进前移时容易产生废片的技术问题。
[0004]为解决至少一个上述技术问题，本技术采用的技术方案是：
[0005]一种硅片步进控制系统，包括置于清洗槽内部并用于夹持硅片传输的夹持组件以及用于控制所述夹持组件的传动组件；
[0006]所述传动组件横跨所述夹持组件的宽度并被配置于所述清洗槽的外侧面；
[0007]所述传动组件连接于同一个驱动源；
[0008]所述驱动源驱动所述传动组件带动所述夹持组件同步传动以使硅片朝靠近分片滚轮一端步进移动。
[0009]本实施例中的一个实施例，所述传动组件和所述驱动源均被置于所述夹持组件远离分片滚轮一侧的端部，并所述驱动源被置于所述传动组件其中一侧的下方。
[0010]本实施例中的一个实施例，所述夹持组件包括用于夹持硅片两侧边的侧皮带和用于支撑硅片底边的下皮带，所述侧皮带和所述下皮带均沿硅片传输方向设置；
[0011]相对设置的所述侧皮带和所述下皮带围成一个用于放置硅片的片仓，所述侧皮带和所述下皮带共同带动硅片朝靠近分片滚轮一端步进。
[0012]本实施例中的一个实施例，所述下皮带通过三组滚轮形成三角式的驱动带动，包括一对同高设置的从滚轮和位于其中一个所述从滚轮下方的主滚轮，所述主滚轮靠近所述驱动源一侧设置。
[0013]本实施例中的一个实施例，所有所述侧皮带和所述下皮带均独立设置，并所述下皮带至少为一组。
[0014]本实施例中的一个实施例，所述传动组件包括：
[0015]辅皮带，分别用于带动所述侧皮带传动且与所述侧皮带异向设置；
[0016]传动轴一，分别用于带动所述辅皮带传动且与所述辅皮带异向设置；
[0017]传动轴二，用于带动所述下皮带传动，两端分别与相对设置的所述传动轴一连接。
[0018]本实施例中的一个实施例，所述辅皮带与所述侧皮带之间还设有传动轴三，所述传动轴三竖直设置并分别与所述辅皮带的一端和所述侧皮带的一端连接。
[0019]本实施例中的一个实施例，其中一个所述传动轴一直接与所述驱动源连接；另一个所述传动轴一通过所述传动轴二和与所述驱动源连接的所述传动轴一连接。
[0020]本实施例中的一个实施例，所述传动轴二与两个所述传动轴一之间均为齿轮连接。
[0021]本实施例中的一个实施例，所述传动轴二与两个所述传动轴一之间的齿轮连接为斜齿圆锥齿轮传动。
[0022]采用本技术设计的一种硅片步进控制系统，通过同一个电机控制相对设置的传动组件，不仅可提高硅片两侧皮带及底部皮带传输的同步性，进而保证硅片步进同频移动，降低硅片质量风险，提高硅片分片的合格率；而且所有传动组件均设置在皮带的外侧面，可降低整体结构的高度，提高皮带传输的稳定性，还可以留出更多的空间设置其它结构，空间利用率高且传输稳定。
附图说明
[0023]图1是本技术一实施例的一种硅片步进控制系统的立体图。
[0024]图中：
[0025]10、夹持组件
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11、侧皮带一
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12、侧皮带二
[0026]13、下皮带
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14、主滚轮
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15、从滚轮
[0027]20、传动组件
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21、辅皮带
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22、右传动轴一
[0028]23、左传动轴一
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24、传动轴二
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25、传动轴三
[0029]30、驱动源
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40、分片滚轮
具体实施方式
[0030]下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。
[0031]本实施例提出一种硅片步进控制系统，如图1所示，包括置于清洗槽(附图省略)内部并用于夹持立式硅片传输的夹持组件10以及用于控制夹持组件10传输的传动组件20；其中，传动组件20横跨夹持组件10的宽度并设置在清洗槽的外侧面，并传动组件20连接于同一个驱动源30；驱动源30驱动传动组件20带动夹持组件10同步传动以使硅片朝靠近分片滚轮40的一端步进移动。侧面设置的传动组件20不仅可节约放置空间，而且还可预留出更多空间监控分片机构，同时还可降低清洗脱胶设备的设置高度，还有，侧面设置的传动组件20更易于安装拆卸和维护；所有肚饿传动组件20通过传动连接被同一个驱动源30带动传输，不仅同步性好，而且传输更加稳定，可保证硅片步进同频移动，可防止硅片在步进前移过程中因皮带异步而出现的碎片或叠片，提高硅片分片的合格率。
[0032]本实施例中的一个实施例，优选地，传动组件20和驱动源30均被安置在夹持组件10远离分片滚轮40一侧的端部，并驱动源30被固定在传动组件20其中一侧的下方。这样，所有传动组件20和驱动源30都是在硅片下料的进料口处设置，为分片机构留出更多的操作空间，同时提高传动组件20与驱动源30的可操作性和配合稳定性。在本实施例中，驱动源30为电机，设置在硅片传输方向的右侧，当然其还可以设置在硅片传输方向的左侧，都不影响整
体方案的结构，还有其型号可基于实际工况而定，在此不具体限制。
[0033]本实施例中的一个实施例，夹持组件10包括用于夹持硅片两侧边的侧皮带一11和侧皮带二12，以及用于支撑硅片底边的下皮带13，侧皮带一11、侧皮带二12和下皮带13均沿硅片传输方向设置，且侧皮带一11和侧皮带二12是立放设置的传输面，下皮带13是水平设置的传输面，从而相对设置的侧皮带一11和侧皮带二12与下皮带13共同围成一个用于放置硅片的片仓，侧皮带一11、侧皮带二12和下皮带13共同通过同一个驱动源30驱动传动组件20带动硅片朝靠近分片滚轮40的一端步进前行。
[0034]本实施例中的一个实施例，下皮带13通过三组滚轮形成一个三角式的驱动带动，包括一对同高设置的从滚轮15和位于其中一个从滚轮15下方的主滚轮14，主滚轮14靠近驱动源30的一侧设置。在本实施例中，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片步进控制系统，其特征在于，包括置于清洗槽内部并用于夹持硅片传输的夹持组件以及用于控制所述夹持组件的传动组件；所述传动组件横跨所述夹持组件的宽度并被配置于所述清洗槽的外侧面；所述传动组件连接于同一个驱动源；所述驱动源驱动所述传动组件带动所述夹持组件同步传动以使硅片朝靠近分片滚轮一端步进移动。2.根据权利要求1所述的一种硅片步进控制系统，其特征在于，所述传动组件和所述驱动源均被置于所述夹持组件远离分片滚轮一侧的端部，并所述驱动源被置于所述传动组件其中一侧的下方。3.根据权利要求1或2所述的一种硅片步进控制系统，其特征在于，所述夹持组件包括用于夹持硅片两侧边的侧皮带和用于支撑硅片底边的下皮带，所述侧皮带和所述下皮带均沿硅片传输方向设置；相对设置的所述侧皮带和所述下皮带围成一个用于放置硅片的片仓，所述侧皮带和所述下皮带共同带动硅片朝靠近分片滚轮一端步进。4.根据权利要求3所述的一种硅片步进控制系统，其特征在于，所述下皮带通过三组滚轮形成三角式的驱动带动，包括一对同高设置的从滚轮和位于其中一个所述从滚轮下方的主滚轮，所述主滚轮靠近所述驱动源一侧设置。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳立辉，杨骅，任志高，赵晓光，郭浩东，岑红霞，艾传令，王大伟，武治军，危晨，
申请(专利权)人：天津市环欧新能源技术有限公司，
类型：新型
国别省市：