防止抛光液飞溅的抛光设备制造技术

本实用新型专利技术公开了防止抛光液飞溅的抛光设备，包括设备主机箱，设备主机箱的顶面活动连接有抛光盘，抛光盘内部固定连接有立柱，立柱外表面活动套接有齿环，抛光盘内壁与齿环的外表面均开设有齿槽，抛光盘内部放置有多个抛光架，多个抛光架外表面均固定连接有齿块，抛光架外表面的齿块与抛光盘和齿环开设的齿槽相啮合，设备主机箱顶面固定连接有支撑架，支撑架顶面固定连接有气缸，气缸输出轴固定连接有电机，电机输出轴固定连接有连接盘，连接盘下方设置有转盘，转盘内部开设有空腔，空腔内部活动卡接有抛光头，空腔内部设置有辅助压合组件，设备主机箱的顶面设置有防喷溅组件。本实用新型专利技术能够有效地防止抛光盘上的抛光液飞溅到抛光设备外部。溅到抛光设备外部。溅到抛光设备外部。

【技术实现步骤摘要】
防止抛光液飞溅的抛光设备


[0001]本技术涉及硅片抛光领域，尤其是涉及一种防止抛光液飞溅的抛光设备。

技术介绍

[0002]相关技术中指出，硅片主要用于半导体、光伏两大领域,硅片是半导体产业链的起点，是产业的最上游，贯穿整个芯片的制造的前道和后道工艺，硅片的产量和质量制约着整个半导体产业及更下游的通信、汽车、计算机等众多行业的发展，是制造芯片的关键材料，在硅片的生产过程中，需要对硅片进行镜面抛光处理，主要使用到硅片抛光设备，但是现有的硅片抛光设备在进行使用时，还是存在着一些问题。
[0003]如，现有的硅片抛光设备在进行使用时，一般都是将硅片放置到抛光架中，通过抛光盘的转动带动抛光架在抛光盘的内部转动，再由上方压合的抛光头进行对硅片的抛光处理，在硅片抛光前，需要加入适量的抛光液，在促进对硅片的镜面抛光效果，但是在抛光过程中，若抛光盘上的抛光液过多，在抛光盘与抛光头的转动下，很容易出现抛光液外溅的问题，对工作环境和抛光设备造成污染。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种防止抛光液飞溅的抛光设备，能够有效地防止抛光盘上的抛光液飞溅到抛光设备外部。
[0005]为实现上述目的，根据本技术的防止抛光液飞溅的抛光设备，包括设备主机箱，所述设备主机箱的顶面活动连接有抛光盘，所述抛光盘的内部固定连接有立柱，所述立柱的外表面活动套接有齿环，所述抛光盘的内壁与齿环的外表面均开设有齿槽，所述抛光盘的内部放置有多个抛光架，多个所述抛光架的外表面均固定连接有齿块，所述抛光架外表面的齿块与抛光盘和齿环开设的齿槽相啮合，所述设备主机箱的顶面固定连接有支撑架，所述支撑架的顶面固定连接有气缸，所述气缸的输出轴固定连接有电机，所述电机的输出轴固定连接有连接盘，所述连接盘的下方设置有转盘，所述转盘的内部开设有空腔，所述空腔的内部活动卡接有抛光头，所述空腔的内部设置有辅助压合组件，所述设备主机箱的顶面设置有防喷溅组件。所述转盘与所述抛光头上开设有与所述立柱相配合的第一通孔，使得所述立柱能够在所述第一通孔内部上下移动。本实施例中，防喷溅组件有效地防止了抛光盘上的抛光液飞溅到抛光设备外部，保证了工作环境和抛光设备的清洁。
[0006]作为本技术一种优选的方案，所述防喷溅组件包括收集槽，所述收集槽开设在设备主机箱的顶面，所述收集槽开设的位置位于抛光盘的外侧，所述设备主机箱的顶面固定连接有围板，所述围板位于收集槽的上方，所述围板的内壁开设有多个导流槽，多个所述导流槽均为等距开设，所述抛光盘的齿槽内部均贯穿开设有漏孔，所述漏孔的开设高度位于抛光盘高度的一半。
[0007]作为本技术一种优选的方案，所述围板的外表面贯穿开设有通孔，所述通孔
的内部固定连接有吸液管，所述吸液管的一端延伸至收集槽的内部，所述吸液管的另一端延伸至围板的外侧，所述设备主机箱的顶面固定连接有吸料泵，所述吸料泵的吸料口与吸液管延伸至围板外侧的一端固定连接，所述吸料泵出料口通过出料管连接至废液池。
[0008]作为本技术一种优选的方案，所述辅助压合组件包括固定安装柱，所述固定安装柱的数量为多个，多个所述固定安装柱周向均布在所述空腔的底面，并与所述空腔底面固定连接，所述固定安装柱的内部均活动套接有活动套接柱，所述活动套接柱的一端与所述抛光头的顶面固定连接，另一端位于所述固定安装柱内部，所述固定安装柱与所述活动套接柱的外表面设置有弹簧，所述弹簧的一端与所述空腔的顶面固定连接，所述弹簧的另一端与所述抛光头的顶面固定连接。
[0009]作为本技术一种优选的方案，所述连接盘与转盘之间设置有多个连接柱，多个所述连接柱均等距分布在连接盘与转盘之间，所述连接柱的一端与连接盘的底面固定连接，所述连接柱的另一端与转盘的顶面固定连接。
[0010]作为本技术一种优选的方案，所述设备主机箱的底面设置有万向轮，所述万向轮的数量为四个，四个所述万向轮分别固定连接在设备主机箱的底面四角处，便于移动抛光设备。
[0011]与现有技术相比，本技术具备以下优点：
[0012]1)本技术通过设置防喷溅组件，当加入到抛光盘内部的抛光液过多时，则会通过抛光盘外表面贯穿开设的漏孔渗漏到收集槽的内部，使得无论向抛光盘的内部加入多少的抛光液，抛光盘内部的抛光液能够始终保持在固定量，大大提高了对硅片的抛光效果，同时，在抛光盘与抛光头转动时，依然会有一些抛光液外溅，而外溅的抛光液会通过围板的阻挡，无法继续向围板的外部溅射，并且喷溅在围板内壁的抛光液会通过吸液管流落到收集槽的内部进行统一收集，从而实现了能够使得抛光盘内部加入的抛光液始终保持定量与防止抛光液向外溅射的目的，避免了现有装置抛光盘上的抛光液过多导致抛光盘上的抛光液向外溅射的问题。
[0013]2)本技术通过设置辅助压合组件，随着气缸的压力不断增加，使得抛光头收缩到转盘的内部，直到转盘的底面与抛光架的顶面接触时，即可停止气缸的下压，此时，弹簧属于收缩状态，可对抛光头产生反作用力，使得抛光头与硅片的接触更加的紧密，同时也防止了气缸压力过大使得硅片损坏，从而实现了使得抛光头与硅片更加紧密贴合的目的。
[0014]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0015]图1是根据本技术一个实施例的防止抛光液飞溅的抛光设备的结构示意图；
[0016]图2是根据本技术一个实施例的防止抛光液飞溅的抛光设备的结构示意图；
[0017]图3是图2中A处的放大结构示意图；
[0018]图4是图2是根据本技术一个实施例的防止抛光液飞溅的抛光设备的结构示意图；
[0019]图5是图4中B处的放大结构示意图。
[0020]附图标记：
[0021]1‑
设备主机箱；2
‑
抛光盘；3
‑
立柱；4
‑
齿环；5
‑
抛光架；6
‑
支撑架；7
‑
气缸；8
‑
电机； 9
‑
连接盘；10
‑
连接柱；11
‑
转盘；12
‑
抛光头；13
‑
收集槽；14
‑
围板；15
‑
导流槽；16
‑
漏孔； 17
‑
吸液管；18
‑
吸料泵；19
‑
空腔；20
‑
固定安装柱；21
‑
活动套接柱；22
‑
弹簧；23
‑
万向轮。
具体实施方式
[0022]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种防止抛光液飞溅的抛光设备，包括设备主机箱(1)，所述设备主机箱(1)的顶面活动连接有可转动的抛光盘(2)，所述抛光盘(2)的内部中心位置固定连接有立柱(3)，所述立柱(3)的外表面活动套接有齿环(4)，所述抛光盘(2)的内壁与齿环(4)的外表面均开设有齿槽，所述抛光盘(2)的内部放置有多个抛光架(5)，多个所述抛光架(5)的外表面均固定连接有齿块，所述抛光架(5)外表面的齿块与抛光盘(2)和齿环(4)开设的齿槽相啮合，其特征在于，所述设备主机箱(1)的顶面固定连接有支撑架(6)，所述支撑架(6)的顶面固定连接有气缸(7)，所述气缸(7)的输出轴固定连接有电机(8)，所述电机(8)输出轴固定连接有连接盘(9)，所述连接盘(9)的下方设置有转盘(11)，所述转盘(11)的内部开设有空腔(19)，所述空腔(19)的内部活动卡接有抛光头(12)，所述空腔(19)的内部设置有辅助压合组件，所述设备主机箱(1)的顶面设置有防喷溅组件；所述转盘(11)与所述抛光头(12)上开设有与所述立柱(3)相配合的第一通孔(31)，使得所述立柱(3)能够在所述第一通孔(31)内部上下移动；所述防喷溅组件包括收集槽(13)，所述收集槽(13)开设在设备主机箱(1)的顶面，所述收集槽(13)开设的位置位于抛光盘(2)的外侧，所述设备主机箱(1)的顶面固定连接有围板(14)，所述围板(14)位于收集槽(13)的上方，所述围板(14)的内壁开设有多个导流槽(15)，所述抛光盘(2)的齿槽内部均贯穿开设有漏孔(16)，所述漏孔(16)的开设高度位于抛光盘(2)高度的一半。2.根据权利要求1所述的防...

【专利技术属性】
技术研发人员：李远田，孟洁，蒋玉娇，
申请(专利权)人：江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：