碳化硅晶体清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种碳化硅晶体清洗装置，包括置料箱、清洗组件和限位组件，置料箱下部开设有排液口，排液口通过排液管路与废水池相连，排液管路上连接有出液阀；清洗组件连接于置料箱上；清洗组件包括一组导向件、过滤件和升降调节件，其中，导向件分别对称设置在置料箱两侧，过滤件连接在导向件内侧上部，升降调节件连接在导向件外侧上部，导向件能够在升降调节件的作用下沿置料箱内壁上下移动；限位组件安装在导向件上，用于限制碳化硅晶体上下移动。本实用新型专利技术能够彻底对碳化硅晶体表面进行清洗，去除碳化硅晶体表面的杂质，提高碳化硅晶体的洁净度，且清洗效率高。且清洗效率高。且清洗效率高。

【技术实现步骤摘要】
碳化硅晶体清洗装置


[0001]本技术涉及半导体
，尤其是涉及一种碳化硅晶体清洗装置。

技术介绍

[0002]相关技术中指出，碳化硅晶体：作为C和Si稳定的化合物，其晶格结构由致密排列的两个亚晶格组成，每个Si(或C)原子与周边包围的C(Si)原子通过定向的强四面体sp3键结合，而在碳化硅晶体加工完成后，需对其进行清洗装置。现有的碳化硅晶体清洗装置一般采用超声波清洗，但超波清洗采用微振动的形式对晶体进行清洗，液体流动缓慢，对碳化硅晶体冲刷力度较为温和，不能够彻底的清洗掉碳化硅晶体上的杂质，且需要人工多次更换清洗液才能完成对碳化硅晶体的清洗，费时费力，不利于工作效率的提高。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种碳化硅晶体清洗装置，能够彻底对碳化硅晶体表面进行清洗，去除碳化硅晶体表面的杂质，提高碳化硅晶体的洁净度，且清洗效率高。
[0004]根据本技术的碳化硅晶体清洗装置，包括置料箱、清洗组件和限位组件，所述置料箱下部开设有排液口，所述排液口通过排液管路与废水池相连，所述排液管路上连接有出液阀；所述清洗组件连接于置料箱上；所述清洗组件包括一组导向件、过滤件和升降调节件，其中，所述导向件分别对称设置在所述置料箱两侧，所述过滤件连接在所述导向件内侧上部，所述升降调节件连接在所述导向件外侧上部，所述导向件能够在所述升降调节件的作用下沿所述置料箱内壁上下移动；所述限位组件安装在所述导向件上，用于限制碳化硅晶体上下移动。
[0005]本实施例将装有碳化硅晶体的片盒放到过滤件上，将清洗液倒入置料箱内，然后通过升降调节件控制导向件上下移动，再通过导向件带动过滤件上的碳化硅晶体在置料箱内上下移动，碳化硅晶体在清洗液中上下移动，使得清洗液可以冲洗到碳化硅晶体表面的每一处，从而对碳化硅晶体清洗的更加彻底，提高了碳化硅晶体的洁净度，进而提高了碳化硅晶体的质量。
[0006]在一些实施例中， 本技术还可以包括清洗液组件、化学浓度检测计、液位计和控制器，所述清洗液组件为一组，对称连接在所述置料箱侧壁上，所述清洗组件通过输送管路与所述置料箱相连，所述输送管路上连接有进液阀；所述化学浓度检测计和液位计安装在所述置料箱内；所述控制器分别与所述出液阀、进液阀、化学浓度检测计和液位计电连接。本实施例化学浓度检测计用于检测置料箱内液体的化学浓度，液位计用于检测置料箱内液体的高度，控制器用于接收化学浓度检测计和液位计传送的电信号，并根据该电信号控制进液阀和出液阀的打开和关闭，提高了本技术的自动化。
[0007]在一些实施例中，本技术导向件包括导向块和支块，所述导向块置于所述置料箱内的两侧侧壁上，所述导向块为矩形状，并滑动连接于开设在所述置料箱内两侧侧壁
上的矩形槽内，所述过滤件连接在导向块内侧上部；所述支块连接在所述导向块外侧上部，所述升降调节件连接在所述支块上。本实施例升降调节件带动支块上下移动，支块带动导向块沿置料箱侧壁上下滑动，从而带动过滤件上下移动。
[0008]在一些实施例中，本技术过滤件包括框架和过滤网，所述框架两侧分别连接在两个所述导向块上，所述框架宽度与片盒宽度相适应；所述过滤网连接在所述框架内侧。本实施例过滤网用于盛放装有碳化硅晶体的片盒，而框架用于限制片盒左右移动，避免了片盒在清洗过程中晃动，有利于更好地对碳化硅晶体进行清洗。
[0009]在一些实施例中，本技术升降调节件把偶哦支架和电动推杆二，所述支架连接在所述置料箱两侧下部；所述电动推杆二安装在所述支架上端中部，所述电动推杆二输出端连接在所述支块上。本实施例电动推杆二伸出或缩回带动支块上下移动。
[0010]在一些实施例中，本技术限位组件包括滑槽、滑动块和限位板，所述滑槽竖直开设在所述导向块上；所述滑动块共设有两个，所述滑动块端部滑动安装在所述滑槽内，所述滑槽内表面和所述滑动块的端部外表面为粗糙表面；所述限位板设置于两个所述滑动块之间，且其上表面和下表面分别通过转轴安装在所述滑动块上。本实施例可以调节限位板高度，以适应不同规格的碳化硅晶体，同时限位板能够左右平移，便于取放碳化硅晶体及片盒。
[0011]在一些实施例中，本技术清洗液组件包括安装架和储液箱，所述安装架固定在所述置料箱侧壁上部，所述储液箱安装在所述安装架底部，所述储液箱底部贯穿有螺纹柱。本实施例储液箱内部可装入用于清洗碳化硅晶体的清洗液，螺纹柱旋出储液箱底部，则可排空储液箱内的清洗液，螺纹柱旋进储液箱底部则可对储液箱进行密封。
[0012]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0013]图1是根据本技术一个实施例的整体结构示意图；
[0014]图2是根据本技术一个实施例的清洗液组件结构示意图；
[0015]图3是根据本技术一个实施例的过滤件结构示意图；
[0016]图4是根据本技术一个实施例的升降调节件结构示意图；
[0017]图5是根据本技术一个实施例的限位组件结构示意图。
[0018]附图标记：
[0019]100、置料箱；
[0020]200、清洗组件；210、导向件；211、导向块；212、支块；220、过滤件；221、框架；222、过滤网；230、升降调节件；231、电动推杆一；232、支架；233、电动推杆二；
[0021]300、清洗液组件；310、安装架；311、通孔；320、储液箱；330、螺纹柱；
[0022]400、限位组件；410、滑动块；420、转轴；430、限位板。
具体实施方式
[0023]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参
考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0024]下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本技术。此外，本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用性和/或其他材料的使用。
[0025]下面参照图1至图5描述根据本技术实施例的碳化硅晶体清洗装置，包括置料箱100、清洗组件200和限位组件400；置料箱100置于地面放置，置料箱100下部开设有排液口，排液口通过排液管路与废水池相连，排液管路上连接有出液阀；清洗组件200连接于置料箱100上，清洗组件200包括一组导向件210、过滤件220和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种碳化硅晶体清洗装置，其特征在于，包括置料箱，所述置料箱下部开设有排液口，所述排液口通过排液管路与废水池相连，所述排液管路上连接有出液阀；清洗组件，所述清洗组件连接于置料箱上；所述清洗组件包括一组导向件、过滤件和升降调节件，其中，所述导向件分别对称设置在所述置料箱两侧，所述过滤件连接在所述导向件内侧上部，所述升降调节件连接在所述导向件外侧上部，所述导向件能够在所述升降调节件的作用下沿所述置料箱内壁上下移动；限位组件，所述限位组件安装在所述导向件上，用于限制碳化硅晶体上下移动。2.根据权利要求1所述的碳化硅晶体清洗装置，其特征在于，还包括清洗液组件，所述清洗液组件为一组，对称连接在所述置料箱侧壁上，所述清洗组件通过输送管路与所述置料箱相连，所述输送管路上连接有进液阀；化学浓度检测计和液位计，所述化学浓度检测计和液位计安装在所述置料箱内；控制器，所述控制器分别与所述出液阀、进液阀、化学浓度检测计和液位计电连接。3.根据权利要求1或2所述的碳化硅晶体清洗装置，其特征在于，所述导向件包括导向块，所述导向块置于所述置料箱内的两侧侧壁上，所述导向块为矩形状，并滑动连接于开设在所述置料箱内两侧侧壁上的矩形槽内，所述过滤件连接在导向块内侧上部；支块，所述支块连接在所述导向块外侧上部，所述升降调...

【专利技术属性】
技术研发人员：李卫月，孟洁，李兆颖，关春洋，
申请(专利权)人：江苏集芯半导体硅材料研究院有限公司，
类型：新型
国别省市：