湿法制程储液槽和湿法制程装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种湿法制程储液槽和湿法制程装置，包括：液槽体，液槽体包括槽底、槽壁和槽顶，槽底、槽壁和槽顶围裹形成一液槽腔体，液槽腔体用于容置药液；供药管，与槽壁或槽底连通、用于将液槽腔体内的药液导出；回流管，与槽顶连通、用于接收湿法制程后回流的药液；储液槽还包括排气管，用于平衡液槽腔体内的气压；液槽腔体内设置气泡阻隔件，气泡阻隔件设置在供药管和回流管之间、用于阻制气泡由回流管附近传至供药管附近；进而避免气泡随药液进入湿制工作室中附着在显示基板表面、对制程均匀性造成干扰，影响显示基板性能的可信赖性。性。性。

【技术实现步骤摘要】
湿法制程储液槽和湿法制程装置


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种湿法制程储液槽和湿法制程装置。

技术介绍

[0002]随着显示技术的发展，玻璃基板加工工艺(包含但不限于TFT
‑
LCD、Micro LED、Mini LED、LTPS、IGZO等加工工艺)制作过程中，在湿制程加工段中，将反应药液喷涂在玻璃基板表面，使反应药液与玻璃基板膜面充分接触进行湿法制程反应；但，如果玻璃基板与液面间有气泡附著于玻璃基板表面时，被气泡包覆的区域将无法与反应药液充分接触反应，使得被气泡包覆区域与未包覆区域形成制程差异缺陷，该类缺陷包含但不限于膜残、脏污等问题，制程差异缺陷会进一步造成玻璃基板制程失效异常。
[0003]气泡的形成原因，多发生于反应药液在循环管线系统进行回流至储液槽时产生。如图1和图2所示，图1为现有技术中一种储液槽的立体结构示意图；图2为图1所示的储液槽的正视图；回流药液80
’
经回流管20
’
回流至药液容置槽10
’
时，回流药液80
’
因重力流冲击药液容置槽10
’
内的液面生成气泡90
’
,当循环管持续工作时，反应药液80
’
沿着从回流管20
’
至出液管40
’
的方向流动，并带动容置在反应药液80
’
内部的气泡90
’
一起流动，进而将气泡90
’
带入出液管管线中，并进而将该气泡带至玻璃基板表面。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种背光基板、显示模组和显示装置。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供一种湿法制程储液槽，包括：
[0006]液槽体，液槽体包括槽底、槽壁和槽顶，槽底、槽壁和槽顶围裹形成一液槽腔体，液槽腔体用于容置药液；
[0007]供药管，与槽壁或槽底连通、用于将液槽腔体内的药液导出；
[0008]回流管，与槽顶连通、用于接收湿法制程后回流的药液；
[0009]储液槽还包括与液槽体连通的排气管，用于平衡液槽腔体内的气压；
[0010]液槽腔体内设置气泡阻隔件，气泡阻隔件设置在供药管和回流管之间、用于阻制气泡由回流管附近传至供药管附近。
[0011]进一步可选地，气泡阻隔件包括沿第一方向间隔设置的第一挡板和第二挡板，第一挡板位于第二挡板远离回流孔的一侧，第一方向平行于槽底；第一档板的第一顶壁与槽顶贴合，第二挡板的第二底壁与槽底贴合，第一档板的第一侧壁和第二挡板的第二侧壁分别与槽壁贴合；第一挡板的第二底壁与槽底之间存在间隙，第二挡板的第二顶壁与槽顶之间存在间隙。
[0012]进一步可选地，第二挡板的第二顶壁到槽底的高度大于第一挡板的第一底壁到槽底的高度。
[0013]进一步可选地，第二挡板的第二顶壁到槽底的高度大于回流管的底端到槽底的高度、且小于排气管的顶端到槽底的高度。
[0014]进一步可选地，沿第一方向上，第一挡板和第二挡板之间的挡板间隙的横截面积大于回流管的横截面积。
[0015]进一步可选地，单位时间内，第一挡板和第二挡板之间的挡板间隙的药液流通量大于回流管的药液流通量。
[0016]进一步可选地，第一挡板包括多个通气孔，通气孔位于第一顶壁附近。
[0017]进一步可选地，通气孔是由第一顶壁向下凹陷形成的凹槽。
[0018]第二方面，本专利技术实施例提供一种湿法制程装置，包括上述任意一项的储液槽和湿制工作室，储液槽和湿制工作室通过供药系统和自回流系统连通，供药系统包括供液管，自回流系统包括回流管。
[0019]进一步可选地，供药系统包括液泵，液泵与供液管连通、驱动储液槽内的药液经供液管传输至湿制工作室。
[0020]进一步可选地，湿制工作室包括喷淋设备和载物台，载物台用于承载显示基板，喷淋设备用于将经供液管传输的药液喷淋至显示基板上。
[0021]本专利技术实施例通过在储液槽内增设气泡阻隔件，并将该气泡阻隔件设置在供药管和回流管之间；当湿制完成后的药液需经过回流管回流至储液槽时，气泡阻隔件能够减弱或截断回流药液因在自身重力作用下冲击储液槽内液面产生的气泡漂浮至供药管附近，进而避免药液经供药管被抽送循环使用时夹带该气泡，消除或减弱因气泡附着在待进行湿制程的显示基板表面而产生的气泡包覆区域与未包覆区域制程差异缺陷、进而避免该制程差异缺陷造成的显示基板制程失效异常，提升显示基板湿制程工艺的可信赖性。
【附图说明】
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0023]图1为现有技术中一种储液槽的立体结构示意图；
[0024]图2为图1所示的储液槽的正视图；
[0025]图3是本专利技术实施例提供的一种储液槽的立体结构示意图；
[0026]图4为图3所示的储液槽的正视图；
[0027]图5是本专利技术实施例提供的又一种储液槽的立体结构示意图；
[0028]图6为本专利技术实施例提供的再一种储液槽的立体结构示意图；
[0029]图7为图6所示储液槽中的第一挡板的侧视图；
[0030]图8为图6所示储液槽中的第一挡板的正视图；
[0031]图9为本专利技术实施例提供的再一种储液槽的立体结构示意图；
[0032]图10为本专利技术实施例提供的一种湿法制程装置的示意图。
【具体实施方式】
[0033]为了更好的理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术实施例进行详细描述。
[0034]应当明确，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于
本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0035]在本专利技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本专利技术。在本专利技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
[0036]应当理解，本文中使用的术语“和/或”仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，A和/或B，可以表示：单独存在A，同时存在A和B，单独存在B这三种情况。另外，本文中字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
[0037]本说明书的描述中，需要理解的是，本专利技术权利要求及实施例所描述的“基本上”、“近似”、“大约”、“约”、“大致”“大体上”等词语，是指在合理的工艺操作范围内或者公差范围内，可以大体上认同的，而不是一个精确值。
[0038]应当理解，尽管在本专利技术实施例中可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿法制程储液槽，其特征在于，包括：液槽体，所述液槽体包括槽底、槽壁和槽顶，所述槽底、所述槽壁和所述槽顶围裹形成一液槽腔体，所述液槽腔体用于容置药液；供药管，与所述槽壁或所述槽底连通、用于将所述液槽腔体内的所述药液导出；回流管，与所述槽顶连通、用于接收湿法制程后回流的所述药液；所述储液槽还包括与所述液槽体连通的排气管，所述排气管用于平衡所述液槽腔体内的气压；所述液槽腔体内设置气泡阻隔件，所述气泡阻隔件设置在所述供药管和所述回流管之间、用于阻制气泡由所述回流管附近传至所述供药管附近。2.根据权利要求1所述的储液槽，其特征在于，所述气泡阻隔件包括沿第一方向间隔设置的第一挡板和第二挡板，所述第一挡板位于所述第二挡板远离所述回流孔的一侧，所述第一方向平行于所述槽底；所述第一档板的第一顶壁与所述槽顶贴合，所述第二挡板的第二底壁与所述槽底贴合，所述第一档板的第一侧壁和所述第二挡板的第二侧壁分别与所述槽壁贴合；所述第一挡板的所述第一底壁与所述槽底之间存在间隙，所述第二挡板的第二顶壁与所述槽顶之间存在间隙。3.根据权利要求2所述的储液槽，其特征在于，所述第二挡板的所述第二顶壁到所述槽底的高度大于所述第一挡板的所述第一底壁到所述槽底的高度。4.根据权利要求3所述的储液槽，其特征在于，所述第二挡板的所述第二顶壁到所述槽底的高度大于所述回流管的底端到所述槽底的高度、且小于所述排气管的顶端到所述槽底的高度。5.根据权利要求2所述的储液槽，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭裕隆，廖仁瑞，付恒野，
申请(专利权)人：赫曼半导体技术深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：