本发明专利技术涉及单晶硅清洗脱水技术领域，具体的说是一种单晶硅清洗自动化脱水装置及其使用方法，包括清洗池，所述清洗池上安装有提升机构，所述提升机构上设有对需要清洗的单晶硅片进行装纳的过滤机构，所述过滤机构的内部设有多个对单晶硅片进行固定的固定机构，所述清洗池的侧面安装有驱动机构，所述清洗池的顶部边沿处相对转动连接有两组脱水机构，两个所述脱水机构与驱动机构之间连接；清洗池上相对转动连接有两个脱水机构，当单晶硅清洗完成后，通过驱动机构带动两个脱水机构相对转动，此时，脱水机构被立起，通过提升机构将单晶硅提升后将脱水机构启动，实现了对单晶硅的脱水，且可以避免吹散的水掉落到地面造成污染。且可以避免吹散的水掉落到地面造成污染。且可以避免吹散的水掉落到地面造成污染。
【技术实现步骤摘要】
一种单晶硅清洗自动化脱水装置及其使用方法
[0001]本专利技术涉及单晶硅清洗脱水
，具体的说是一种单晶硅清洗自动化脱水装置及其使用方法。
技术介绍
[0002]硅是最常见应用最广的半导体材料，当熔融的单质硅凝固时，硅原子以金刚石晶格排列成晶核，其晶核长成晶面取向相同的晶粒，形成单晶硅，单晶硅片用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成，在生产单晶硅时需要对其进行清洗、沥干等工序。
[0003]然而，目前的单晶硅片清洗装置在对单晶硅片清洗后通常是通过风机对单晶硅进行脱水，单晶硅片被提升装置从清洗池的内部提升后风机在单晶硅的两侧吹风，清洗池上未设置防护机构，风机在向单晶硅片上吹风时，位于单晶硅片上的清洗液容易向清洗池的外侧飞溅，污染工作台及地面，腐蚀其他物品及地面打滑；单晶硅片清洗时直接放置到清洗篮的内部，未对单晶硅片进行固定，清洗时清洗篮会被提升机构晃动，单晶硅片会在清洗篮的内部抖动，容易造成单晶硅片的破碎，不利于碎屑的清理。
技术实现思路
[0004]针对现有技术中的问题，本专利技术提供了一种单晶硅清洗自动化脱水装置及其使用方法。
[0005]本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种单晶硅清洗自动化脱水装置，包括清洗池，所述清洗池上安装有提升机构，所述提升机构上设有对需要清洗的单晶硅片进行装纳的过滤机构，所述过滤机构的内部设有多个对单晶硅片进行固定的固定机构，所述清洗池的侧面安装有驱动机构，所述清洗池的顶部边沿处相对转动连接有两组脱水机构，两个所述脱水机构与驱动机构之间连接，两个所述脱水机构上均安装有调节机构；
[0006]所述驱动机构包括防护壳，所述清洗池的侧壁固定连接有防护壳，所述防护壳上转动连接有两个转轴，两个所述转轴上均固定连接有蜗轮，所述防护壳上转动连接有驱动轴，所述驱动轴上安装有两个蜗杆，两个所述蜗杆分别与两个蜗轮啮合，两个所述蜗杆的螺纹方向相反，所述防护壳上安装有电机，所述电机与驱动轴之间通过联轴器连接，所述脱水机构包括两个转动槽，所述清洗池上相对开设有两个转动槽，两个所述转动槽上均设有两个与两个转轴之间固定连接的挡板，两个所述挡板上均滑动连接有外壳，两个所述外壳上均等距安装有风机。
[0007]具体的，两个所述转动槽的截面呈“凵”字形结构，且两个所述转动槽上的挡板呈倒“L”形结构。
[0008]具体的，所述脱水机构还包括导流板，两个所述挡板上均倾斜固定连接有导流板。
[0009]具体的，所述挡板的厚度小于转动槽的深度，且所述转轴位于转动槽深度的二分之一处。
[0010]具体的，所述风机倾斜设置，且所述风机与导流板之间平行设置。
[0011]具体的，所述调节机构包括两个内槽，两个所述挡板的表面边沿处均开设有内槽，两个所述内槽上均滑动连接有与外壳之间固定的滑块，所述外壳的底部固定连接有顶杆，所述挡板的内部固定连接有与顶杆之间螺纹连接的底杆。
[0012]具体的，所述提升机构包括气缸，所述清洗池上滑动连接有气缸，所述气缸上安装有两个连接杆，两个所述连接杆上均固定连接有固定架，两个所述固定架上均固定连接有位于清洗池上的滑板，两个所述滑板之间相对滑动连接有两个呈“L”形结构的挂板，其中一个所述滑板上相对滑动连接有两个电动推杆，两个所述电动推杆的相对端分别与两个挂板固定连接，所述挡板的宽度小于两个挂板之间的距离。
[0013]具体的，所述过滤机构包括放置槽，两个所述挂板的底部相对开设有四个放置槽，四个所述放置槽上通过固定柱悬挂有过滤箱。
[0014]具体的，所述固定机构包括下固定板，所述过滤箱的内底部等距固定连接有多个呈倒“八”字形结构的下固定板，所述过滤箱的内壁等距开设有与下固定板对应的滑槽，多个所述滑槽的内部均滑动连接有截面呈“八”字形结构的上固定板，所述上固定板上固定连接有与过滤箱之间滑动连接的限位柱，所述过滤箱与上固定板之间夹持有弹簧。
[0015]一种单晶硅清洗自动化脱水装置及其使用方法，包括以下步骤：
[0016]S1：首先将所述过滤机构从提升机构上取下，清理所述过滤机构内部的过滤物品，向所述清洗池的内部加入清洗液；
[0017]S2：然后将需要清洗的单晶硅片通过所述过滤机构内部的固定机构进行固定，再将所述过滤机构放置到提升机构上，通过所述提升机构控制过滤机构下降浸入到清洗池的内部清洗；
[0018]S3：清洗时可以上升下降所述提升机构实现单晶硅片晃动，将所述提升机构与过滤机构分离，实现长时间的清洗；
[0019]S4：清洗结束后通过所述提升机构将过滤机构拉出清洗池，通过所述驱动机构将脱水机构启动，实现所述过滤机构上的对单晶硅片进行风干。。
[0020]本专利技术的有益效果是：
[0021](1)本专利技术所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，清洗池上相对转动连接有两个脱水机构，当单晶硅清洗完成后，通过驱动机构带动两个脱水机构相对转动，此时，脱水机构被立起，通过提升机构将单晶硅提升后将脱水机构启动，实现了对单晶硅的脱水，且可以避免吹散的水掉落到地面造成污染；即：当过滤箱内部的单晶硅片清洗完成后，通过气缸控制滑板背离清洗池的方向移动，进而实现了挂板对过滤箱的打捞，将过滤箱悬挂，那么过滤箱上的清洗液滴落到清洗池的内部，进一步的将电机启动，此时电机带动驱动轴转动，那么实现了两个蜗杆同时转动，由于两个蜗杆的螺纹方向相反，在两个蜗杆转动时，带动两个转轴上的蜗轮相对转动，蜗轮转动后，实现了两个挡板竖立在清洗池的顶部，将风机启动，实现了风机将单晶硅片上的清洗液吹干，那么挡板可以避免被吹的清洗液飞溅到工作台上或者地面造成其他物品腐蚀或者地面污染，导流板可以将飞溅的清洗液进行导流，利于掉落到清洗池的内部，脱水完成后进电机反转，实现了挡板复位与清洗池的侧面贴合。
[0022](2)本专利技术所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，两个脱水机构上设有调节机构，当提升机构定位后，可以通过调节机构调节脱水机构在单晶硅片两侧的位置，实现精
准、全面出风，利于单晶硅片的快速风干；即：在风机对单晶硅片进行脱水的时候，可以调节风机的高度使风机与过滤箱内部的单晶硅片对应，在调节的时候，转动内槽处的顶杆，实现顶杆在底杆上上升、下降，进而使风机的外壳在内槽上下降或者上升，使风机的出风方向与单晶硅片对应，利于脱水。
[0023](3)本专利技术所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，放置机构的内部设有固定机构，在放置单晶硅片到过滤机构内部的时候，可以通过固定机构对单晶硅片进行夹持，避免单晶硅片在通过提升机构清洗时晃动造成破碎；即：在对单晶硅片进行清洗的时候，取出一个干净的过滤箱放置到清洗池的内部，将需要清洗的单晶硅片放置到过滤箱的内部，在放置的时候，将上固定板背离下固定板的方向拉动，此时弹簧收缩，限位柱向过滤箱的外部滑动，上固定板与下固定板之间的距离变大，此时将单晶硅片放置到下固定板上，放置完成后，松开上固定板，弹簧复位，那么上固定板对下固定板进行夹持固定，从而实现在清洗的时候过滤箱晃动过本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于，包括清洗池(1)，所述清洗池(1)上安装有提升机构(2)，所述提升机构(2)上设有对需要清洗的单晶硅片进行装纳的过滤机构(3)，所述过滤机构(3)的内部设有多个对单晶硅片进行固定的固定机构(4)，所述清洗池(1)的侧面安装有驱动机构(5)，所述清洗池(1)的顶部边沿处相对转动连接有两组脱水机构(6)，两个所述脱水机构(6)与驱动机构(5)之间连接，两个所述脱水机构(6)上均安装有调节机构(7)；所述驱动机构(5)包括防护壳(502)，所述清洗池(1)的侧壁固定连接有防护壳(502)，所述防护壳(502)上转动连接有两个转轴(501)，两个所述转轴(501)上均固定连接有蜗轮(504)，所述防护壳(502)上转动连接有驱动轴(505)，所述驱动轴(505)上安装有两个蜗杆(506)，两个所述蜗杆(506)分别与两个蜗轮(504)啮合，两个所述蜗杆(506)的螺纹方向相反，所述防护壳(502)上安装有电机(503)，所述电机(503)与驱动轴(505)之间通过联轴器连接，所述脱水机构(6)包括两个转动槽(605)，所述清洗池(1)上相对开设有两个转动槽(605)，两个所述转动槽(605)上均设有两个与两个转轴(501)之间固定连接的挡板(604)，两个所述挡板(604)上均滑动连接有外壳(602)，两个所述外壳(602)上均等距安装有风机(603)。2.根据权利要求1所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于：两个所述转动槽(605)的截面呈“凵”字形结构，且两个所述转动槽(605)上的挡板(604)呈倒“L”形结构。3.根据权利要求1所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于：所述脱水机构(6)还包括导流板(601)，两个所述挡板(604)上均倾斜固定连接有导流板(601)。4.根据权利要求1所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于：所述挡板(604)的厚度小于转动槽(605)的深度，且所述转轴(501)位于转动槽(605)深度的二分之一处。5.根据权利要求3所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于：所述风机(603)倾斜设置，且所述风机(603)与导流板(601)之间平行设置。6.根据权利要求1所述的一种单晶硅清洗自动化脱水装置，其特征在于：所述调节机构(7)包括两个内槽(703)，两个所述挡板(604)的表面边沿处均开设有内槽(703)，两个所述内槽(703)上均滑动连接有与外壳(602)之间固定的滑块(704)，所述外壳(602)的底部固定连接有顶杆(701)，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：夏丽霞，
申请(专利权)人：淮阴师范学院，
类型：发明
国别省市：
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