湿法制程基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种湿法制程基板处理装置，包括：承载机台，承载机台用于运输显示基板；液气刀组件，设置在承载机台上方，用于驱除或隔离附着于显示基板上的两种不同介质；液气刀组件包括双刀口液气刀，双刀口液气刀包括第一液气刀口和第二液气刀口；第一液气刀口的出气方向与显示基板的传输方向反向相交，第二液气刀口的出气方向与显示基板的传输方向正向相交；采用双刀口液气刀组件能够在精简湿法制程基板处理装置的长度和结构基础上，实现良好的药液和水洗液的隔绝，实现药液的回收利用，降低成本同时提升产品良率。降低成本同时提升产品良率。降低成本同时提升产品良率。

【技术实现步骤摘要】
湿法制程基板处理装置


[0001]本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种湿法制程基板处理装置。

技术介绍

[0002]在液晶显示、有机发光显示、Mini/Micro LED等相关显示设备的制作工艺中均包括湿法制程工段；例如在LCD的蚀刻制程中又分为湿法蚀刻(WET etching)和干法蚀刻(DRY etching)。蚀刻室(Final Etcher Chamber)内完成刻蚀工艺后，通常需要对药液处理后的各类显示基板进行清洁，隔绝药液与水洗液，之后再进行纯水清洗方式去除显示表面的化学试剂；因为药液与水接触容易导致药液与水相互污染，一方面因水洗清洁不彻底影响后续产品性能或制程，另一方污染严重时致使药液失效；因此现有技术中采用单气刀方式进行赶液，利用风刀提供的压缩干燥空气(CDA，compressed dry air)进行隔绝的目的。
[0003]如图1所示，图1为现有技术中的一种湿法制程处理装置，在显示基板09
’
的传输方向上，为实现良好的药液和水区域的隔离目的，湿法制程处理装置需要至少三把气刀01
’
/02
’
/03
’
，三把气刀01
’
/02
’
/03
’
分别设置于药液单元30
’
出口、气液混合单元20
’
内、水洗单元10
’
入口处，药液单元30
’
内设置药液喷淋装置04
’
,水洗单元30
’
内设置水洗喷淋装置05
’
；当蚀刻完成后，利用第一把气刀01
’
隔断药液和药、水混合物，第二把气刀02
’
驱赶药、水混合物，第三把气刀03
’
来隔断药、水混合物与水洗液；如此通过三个气刀的隔绝清洁过程实现对显示基板09
’
表面药液、水的置换，并完成药液单元、和水洗单元分离目的；但采用该方式会在气液混合单元的水洗液中混入大量的药液成分，成为废水，无法回收再利用，直接排放至废液回收管路，造成浪费。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种湿法制程基板处理装置，包括：
[0005]承载机台，承载机台用于运输显示基板；
[0006]液气刀组件，设置在承载机台上方，用于驱除或隔离附着于显示基板上的两种不同介质；
[0007]液气刀组件包括双刀口液气刀，双刀口液气刀包括第一液气刀口和第二液气刀口；第一液气刀口的出气方向与显示基板的传输方向反向相交，第二液气刀口的出气方向与显示基板的传输方向正向相交。
[0008]进一步可选地，沿显示基板传输方向上设置的药液单元和水洗单元，液气刀组件设置在药液单元和水洗单元的临界区域；
[0009]液气刀组件包括一体连接的第一液气刀子部和第二液气刀子部，第一液气刀子部包括第一液气刀口，第二液气刀子部包括第二液气刀口；
[0010]第一液气刀口的出气方向倾斜朝向药液单元一侧，第二液气刀口的出气方向倾斜朝向水洗单元的一侧。
[0011]进一步可选地，第一液气刀子部和第二液气刀子部之间气体流通通道；气体流通
通道包括排气缓冲腔，排气缓冲腔用于排出双刀口液气刀与显示基板之间产生的逆向气流。
[0012]进一步可选地，第一液气刀子部包括第一液气刀框和由第一液气刀框围成的第一液气刀腔，第一液气刀腔靠近承载机台的底端包括第一液气刀口；第二液气刀子部包括第二液气刀框和由第二液气刀框围成的第二液气刀腔，第二液气刀腔靠近承载机台的底端包括第二液气刀口；
[0013]第一液气刀腔和第二液气刀腔的顶端分别与进气管连通，第一液气刀腔和第二液气刀腔用于限定内部气体的气流形态。
[0014]进一步可选地，液气刀组件包括支撑杆，支撑杆与双刀口液气刀活动连接，支撑杆用于固定双刀口液气刀与承载机台的相对位置。
[0015]进一步可选地，承载机台包括由多个滚轮组成的第一滚轮组，第一滚轮组形成承载显示基板的平台。
[0016]进一步可选地，包括残液分流装置，残液分流装置位于第一滚轮组的下方、并对应液气刀组件设置；残液分流装置包括相交的第一导流面和第二导流面，第一导流面倾斜向下朝向药液单元一侧，第二导流面倾斜向下朝向水洗单元一侧。
[0017]进一步可选地，包括第一排液管和第二排液管，第一排液管用于排出水洗单元一侧的水洗残液，第二排液管用于排出药液单元一侧的药液残液。
[0018]进一步可选地，包括风干气刀，沿所显示基板的传输方向上，风干气刀位于水洗单元远离液气刀组件的一侧，风干气刀用于干燥水洗后的显示基板。
[0019]进一步可选地，包括防护气刀，沿所显示基板的传输方向上，防护气刀位于药液单元远离液气刀组件的一侧，防护气刀用于隔绝外部水汽进入药液单元。
[0020]进一步可选地，包括药液供槽、水洗液供槽和气体储槽，药液供槽与药液单元连通，水洗供槽与水洗单元连通，气体储槽与液气刀组件的进气口连通。
[0021]本专利技术实施例通过在湿法制程基板处理装置中设置双刀口液气刀组件，在显示基板的传输方向上，在利用双刀口液气刀中的第一液气刀口和第二液气刀口的出气方向分别倾斜向下朝向双刀口液气组件的相对两侧，能够实现对经过双刀口液气刀下方的显示基板上该位置两侧的两种不同表面附着介质进行隔离，有效达到两种介质(例如药液和水洗液)分离目的，避免两种不同的介质之间因为隔离效果不好造成互相污染、以及无法回收利用增加成本或造成污水处理难度。此外，采用本专利技术实施例提供的双刀口液气刀组件，能够减少或取消现有技术中需要设置的水液置换单元，降低整个湿法制程基板处理装置的长度，降低成本和提升产品良率。
【附图说明】
[0022]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0023]图1为现有技术中一种湿法制程基板处理系统的立体结构示意图；
[0024]图2为本专利技术实施例提供一种湿法制程基板处理装置的结构示意图；
[0025]图3是图2所示的双刀口液气刀组件的一种侧视剖视示意图；
[0026]图4是图2所示的双刀口液气刀组件的一种正视剖视示意图；
[0027]图5为本专利技术实施例提供又一种湿法制程基板处理装置的结构示意图；
[0028]图6为本专利技术实施例提供又一种湿法制程基板处理装置的结构示意图；
[0029]图7为本专利技术实施例提供又一种湿法制程基板处理装置的结构示意图。
【具体实施方式】
[0030]为了更好的理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术实施例进行详细描述。
[0031]应当明确，所描述的实施例仅是本专利技术一部分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种湿法制程基板处理装置，其特征在于，包括：承载机台，所述承载机台用于运输显示基板；液气刀组件，设置在所述承载机台上方，用于驱除或隔离附着于所述显示基板上的两种不同介质；所述液气刀组件包括双刀口液气刀，所述双刀口液气刀包括第一液气刀口和第二液气刀口；所述第一液气刀口的出气方向与所述显示基板的传输方向反向相交，所述第二液气刀口的出气方向与所述显示基板的传输方向正向相交。2.根据权利要求1所述的湿法制程基板处理装置，其特征在于，包括：沿所述显示基板传输方向上设置的药液单元和水洗单元，所述液气刀组件设置在所述药液单元和所述水洗单元的临界区域；所述液气刀组件包括一体连接的第一液气刀子部和第二液气刀子部，所述第一液气刀子部包括所述第一液气刀口，所述第二液气刀子部包括所述第二液气刀口；所述第一液气刀口的出气方向倾斜朝向所述药液单元一侧，所述第二液气刀口的出气方向倾斜朝向所述水洗单元的一侧。3.根据权利要求2所述的湿法制程基板处理装置，其特征在于，所述第一液气刀子部和所述第二液气刀子部之间气体流通通道；所述气体流通通道包括排气缓冲腔，所述排气缓冲腔用于排出所述双刀口液气刀与所述显示基板之间产生的逆向气流。4.根据权利要求3所述的湿法制程基板处理装置，其特征在于，所述第一液气刀子部包括第一液气刀框和由所述第一液气刀框围成的第一液气刀腔，所述第一液气刀腔靠近所述承载机台的底端包括所述第一液气刀口；所述第二液气刀子部包括第二液气刀框和由所述第二液气刀框围成的第二液气刀腔，所述第二液气刀腔靠近所述承载机台的底端包括所述第二液气刀口；所述第一液气刀腔和所述第二液气刀腔的顶端分别与进气管连通，所述第一液气刀腔和所述第二液气刀腔用于限定内部气...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴昭宽，苏士豪，
申请(专利权)人：赫曼半导体技术深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：