OPC修正方法技术

本发明专利技术提供了一种OPC修正方法，包括：提供包含被切割层和切割层的版图，被切割层由若干个长线条图形和若干个短线条图形组成；对短线条图形的两端均沿着短线条的径向延伸，使得短线条与延伸部的长度之和与长线条的长度相等或者接近于长线条图形的长度；判断在延伸方向任意相邻的两个延伸部的距离是否小于设定值；如果是，则使用连接线将该相邻的两个延伸部连接，在切割层添加延伸部及连接线的切割图形，对添加后的切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正；如果不是，在切割层添加延伸部的切割图形，对添加后的切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正。从而减少了收集版图图形数据的时间和工作量。量。量。

【技术实现步骤摘要】
OPC修正方法


[0001]本专利技术涉及半导体
，尤其是涉及一种OPC修正方法。

技术介绍

[0002]在光刻工艺中，掩模版即光罩(Mask)上的版图对应的图形结构会通过曝光系统投影到光刻胶中并在光刻胶中形成对应的图形结构，但是由于曝光过程中的光学原因或者光刻胶的化学反应的原因，在光刻胶中形成的图形结构和掩模版上的图形结构存在偏差，这种偏差则需要通过OPC修正预先对掩模版上的图形结构进行修改，采用经过OPC修正的掩模版进行曝光时，在光刻胶中形成的图形结构则会和设计的图形结构相符，并符合工艺生产要求。
[0003]然而，由于版图的复杂性，同一层图形中可能既有长线条图形，也包含短线条图形。为保证长线条图形及短线条图形均有足够的曝光工艺窗口，在对曝光光源的优化过程中会考虑长线条图形及短线条图形的长度不同的问题，建立OPC模型时需要收集大量长线条图形及短线条图形尺寸的数据，最终OPC修正时也要针对不同长度图形进行区分处理，以保证所有种类图形的曝光工艺窗口。这就需要花费更多时间收集图形尺寸的数据，增加了更多的工作量，也面临着更多困难。而且，随着半导体技术的不断发展，关键尺寸不断减小，对OPC模型及修正的要求越来越高，所以收集图形尺寸的数据的时间越来越长，收集数据的工作量越来越大，对图形尺寸的控制要求越来越高。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种OPC修正方法，对版图中切割层图形的短线条图形进行处理，可以降低图形结构复杂度，减少收集版图图形尺寸的数据的时间，同时，还可以减少收集版图图形尺寸的数据的工作量，进一步可以降低OPC模型及OPC程序建立的难度，提高了对图形尺寸控制的准确度。
[0005]为了达到上述目的，本专利技术提供了一种OPC修正方法，包括：
[0006]提供版图，所述版图包含切割层图形和被切割层图形，所述被切割层图形由若干个长线条图形和若干个短线条图形组成；
[0007]对所述短线条图形的两端均沿着所述短线条的径向延伸，使得所述短线条图形的两端均具有延伸部，所述短线条与所述延伸部的长度之和与所述长线条的长度相等或者所述短线条与所述延伸部的长度之和接近于所述长线条图形的长度；
[0008]判断在延伸方向任意相邻的两个所述延伸部的距离是否小于设定值；
[0009]如果是，则使用连接线将该相邻的两个所述延伸部连接，以得到短线条处理后的被切割层图形，在所述切割层添加所述延伸部及连接线的切割图形，对添加后的所述切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正；以及
[0010]如果不是，在所述切割层添加所述延伸部的切割图形，对添加后的所述切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正。
[0011]可选的，在所述的OPC修正方法中，长度大于或等于6倍线宽设计规则的线条为长线条，长度小于6倍设计规则的线条为短线条。
[0012]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述长线条或所述短线条为长条形的形状。
[0013]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述设定值为线端间距设计规则。
[0014]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述延伸部的宽度和所述短线条的宽度相同。
[0015]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述延伸部与所述短线条的端部对齐。
[0016]可选的，在所述的OPC修正方法中，同一所述短线条两端的延伸部的长度相同或不同。
[0017]可选的，在所述的OPC修正方法中，对添加后的切割层图形以及所述被切割层图形均进行OPC修正之后，还包括：在被所述切割层图形中将添加后的切割层所对应的图形进行切割。
[0018]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述延伸部的长度小于所述切割层的设计规则的线宽最大值。
[0019]可选的，在所述的OPC修正方法中，所述连接线和所述延伸部的总长度小于所述切割层的设计规则的线宽最大值。
[0020]在本专利技术提供的OPC修正方法中，对版图被切割层图形的短线条图形进行了延伸，以向长线条图形的长度靠近甚至与长线条图形的长度相同，降低了图形结构复杂度，从而减少了收集版图图形尺寸的数据的时间，同时，减少了收集版图图形尺寸的数据的工作量，降低了OPC模型及OPC程序建立的难度，提高了对图形尺寸控制的准确度。
附图说明
[0021]图1是本专利技术实施例的OPC修正方法的流程图；
[0022]图2至图4是本专利技术实施例的OPC修正的示意图；
[0023]图中：110
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长线条图形、111
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第一长线条图形、112
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第二长线条图形、120
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短线条图形、121
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第一短线条图形、122
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第二短线条图形、123
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第三短线条图形、124
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第四短线条图形、131
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第一延伸部、132
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第二延伸部、133
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第三延伸部、134
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第四延伸部、135
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第五延伸部、136
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第六延伸部、137
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第七延伸部、138
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第八延伸部、140
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连接线。
具体实施方式
[0024]下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。
[0025]在下文中，术语“第一”“第二”等用于在类似要素之间进行区分，且未必是用于描述特定次序或时间顺序。要理解，在适当情况下，如此使用的这些术语可替换。类似的，如果本文所述的方法包括一系列步骤，且本文所呈现的这些步骤的顺序并非必须是可执行这些步骤的唯一顺序，且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述的其他步骤可被添加到该方法。
[0026]请参照图1，本专利技术提供了一种OPC修正方法，包括：
[0027]S11：提供版图，所述版图包含切割层图形和被切割层图形，所述被切割层图形由
若干个长线条图形和若干个短线条图形组成；
[0028]S12：对所述短线条图形的两端均沿着所述短线条的径向延伸，使得所述短线条图形的两端均具有延伸部，所述短线条与所述延伸部的长度之和与所述长线条的长度相等或者所述短线条与所述延伸部的长度之和接近于所述长线条图形的长度；
[0029]S13：判断在延伸方向任意相邻的两个所述延伸部的距离是否小于设定值；
[0030]S14：如果是，则使用连接线将该相邻的两个所述延伸部连接，以得到短线条处理后的被切割层图形，在所述切割层添加所述延伸部及连接线的切割图形，对添加后的所述切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正；以及
[0031]S15：如果不是，在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括：提供版图，所述版图包含切割层图形和被切割层图形，所述被切割层图形由若干个长线条图形和若干个短线条图形组成；对所述短线条图形的两端均沿着所述短线条的径向延伸，使得所述短线条图形的两端均具有延伸部，所述短线条与所述延伸部的长度之和与所述长线条的长度相等或者所述短线条与所述延伸部的长度之和接近于所述长线条图形的长度；判断在延伸方向任意相邻的两个所述延伸部的距离是否小于设定值；如果是，则使用连接线将该相邻的两个所述延伸部连接，以得到短线条处理后的被切割层图形，在所述切割层添加所述延伸部及连接线的切割图形，对添加后的切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正；以及如果不是，在所述切割层添加所述延伸部的切割图形，对添加后的切割层图形以及短线条处理后的被切割层图形均进行OPC修正。2.如权利要求1所述的OPC修正方法，其特征在于，长度大于或等于6倍线宽设计规则的线条为长线条，长度小于6倍设计规则的线条为短...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪悦，张月雨，于世瑞，
申请(专利权)人：上海华力集成电路制造有限公司，
类型：发明
国别省市：