成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供提高基板的吸附度的测定精度的成膜装置。成膜装置具备：腔室，将内部保持为真空；吸附板，设置在腔室的内部，用于吸附基板；检测部件，在铅垂方向上配置在吸附板的下方，检测基板向吸附板的吸附的程度；以及移动部件，使检测部件在沿着基板的被成膜面的第一方向上移动。方向上移动。方向上移动。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置


[0001]本专利技术涉及成膜装置。

技术介绍

[0002]在有机EL显示器等的制造中，使用掩模在基板上成膜蒸镀物质。作为成膜的前处理，进行掩模与基板的对准，使两者重合。在专利文献1中公开了在使基板吸附在静电卡盘等吸附板上的状态下，使基板和掩模接近而进行对准的技术。另外，公开了用于检测基板的吸附状态的检测部件。
[0003]在先技术文件
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2019
‑
117926号公报
[0006]在现有技术中，检测部件的配置场所是固定的。因此，有可能限制测定基板的吸附状态的场所。其结果，有可能降低基板的吸附度的测定精度。

技术实现思路

[0007]本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于提高基板的吸附度的测定精度。
[0008]用于解决课题的方案
[0009]本专利技术采用以下的结构。即，
[0010]一种成膜装置，其特征在于，
[0011]该成膜装置具备：
[0012]腔室，将内部保持为真空；
[0013]吸附板，设置在所述腔室的内部，用于吸附基板；
[0014]检测部件，在铅垂方向上配置在所述吸附板的下方，检测所述基板向所述吸附板的吸附的程度；以及
[0015]移动部件，使所述检测部件在沿着所述基板的被成膜面的第一方向上移动。
[0016]此外，本专利技术采用以下的结构。即，
[0017]一种成膜装置，其特征在于，r/>[0018]该成膜装置具备：
[0019]腔室，将内部保持为真空；
[0020]吸附板，设置在所述腔室的内部，用于吸附基板；
[0021]掩模支承部件，设置在所述腔室的内部，支承掩模；
[0022]对准部件，进行吸附在所述吸附板上的所述基板与所述掩模的对准；
[0023]检测部件，配置在所述吸附板的铅垂方向的下侧，检测所述掩模向所述基板的贴紧的程度；以及
[0024]移动部件，使所述检测部件在沿着所述基板的被成膜面的方向上移动。
[0025]专利技术的效果
[0026]根据本专利技术，能够提高基板的吸附度的测定精度。
附图说明
[0027]图1是电子器件的生产线的一部分的示意图。
[0028]图2是一实施方式的成膜装置的概略图。
[0029]图3是基板支承单元及吸附板的说明图。
[0030]图4是吸附板的电气配线的说明图。
[0031]图5是测量单元的说明图。
[0032]图6是调整单元的说明图。
[0033]图7是使用了吸附板的基板与掩模的重合的工艺的说明图。
[0034]图8是表示检测部件的结构的概略图。
[0035]图9是表示基于检测部件的检测的情形的概略图。
[0036]图10是表示基于检测部件的检测的另一例的概略图。
[0037]图11是表示检测部件的扫描的另一例的俯视图。
[0038]图12是表示电子器件的生产线的另一例的示意图。
[0039]图13是表示传感器单元的结构的概略图。
[0040]图14是用于说明电子器件的制造方法的图。
[0041]附图标记的说明
[0042]2：对准装置、3：真空腔室、14：控制装置、15：吸附板、100：基板、101：掩模、204：移动机构、236：距离传感器。
具体实施方式
[0043]以下，参照附图详细说明实施方式。另外，以下的实施方式并不限定权利要求书所涉及的专利技术。虽然在实施方式中记载了多个特征，但这些多个特征并不全部限定于专利技术所必需的特征，另外，也可以任意地组合多个特征。并且，在附图中，对相同或同样的结构标注相同的附图标记，省略重复的说明。
[0044][电子器件的生产线][0045]图1是表示能够应用本专利技术的成膜装置的电子器件的生产线的结构的一部分的示意图。图1的生产线例如用于制造智能手机用的有机EL显示装置的显示面板，将基板100依次搬送到成膜块301，在基板100上进行有机EL的成膜。
[0046]在成膜块301中，在俯视下具有八边形形状的搬送室302的周围配置有对基板100进行成膜处理的多个成膜室303a～303d、和收纳使用前后的掩模的掩模容纳室305。在搬送室302中配置有搬送基板100的搬送机器人302a。搬送机器人302a包括保持基板100的手和使手在水平方向上移动的多关节臂。换言之，成膜块301是以包围搬送机器人302a的周围的方式配置有多个成膜室303a～303d的集群型的成膜单元。此外，在统称成膜室303a～303d的情况下或者在不进行区别的情况下，标记为成膜室303。
[0047]在基板100的搬送方向(箭头方向)上，在成膜块301的上游侧、下游侧分别配置有缓冲室306、回旋室307、交接室308。在制造过程中，各室维持为真空状态。另外，图1中仅图示了一个成膜块301，但本实施方式的生产线具有多个成膜块301，多个成膜块301具有通过
由缓冲室306、回旋室307、交接室308构成的连结装置连结的结构。另外，连结装置的结构不限定于此，例如也可以仅由缓冲室306或交接室308构成。
[0048]搬送机器人302a进行从上游侧的交接室308向搬送室302的基板100的搬入、成膜室303间的基板100的搬送、掩模容纳室305与成膜室303之间的掩模的搬送以及从搬送室302向下游侧的缓冲室306的基板100的搬出。
[0049]缓冲室306是用于根据生产线的工作状况暂时容纳基板100的室。在缓冲室306中设置有也被称为盒体的基板收纳架和升降机构。基板收纳架具有能够在保持基板100的被处理面(被成膜面)朝向重力方向下方的水平状态的状态下收纳多张基板100的多层构造。升降机构为了使搬入或搬出基板100的层与搬送位置一致，使基板收纳架升降。由此，能够在缓冲室306中暂时收容多个基板100并使其滞留。
[0050]回旋室307具备改变基板100的朝向的装置。在本实施方式中，回旋室307通过设置在回旋室307的搬送机器人使基板100的朝向旋转180度。设置在回旋室307的搬送机器人在支承着在缓冲室306接收到的基板100的状态下回旋180度并交接到交接室308，由此在缓冲室306内和交接室308调换基板的前端和后端。因此，在各成膜块301中，将基板100搬入成膜室303时的朝向成为相同的朝向，因此，能够在各成膜块301中使相对于基板S的成膜的扫描方向、掩模的朝向一致。通过采用这样的结构，能够在各成膜块301中使在掩模容纳室305设置掩模的朝向一致，能够使掩模的管理简化，提高可用性。
[0051]生产线的控制系统包括作为主计算机控制整个生产线的上位装置300和控制各结构的控制装置14a～14d、309、310，它们能够经由有线或无线的通信线路300a进行通信。控制装置14a～14d与成膜室303a～303d对应设置，控制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，其特征在于，该成膜装置具备：腔室，将内部保持为真空；吸附板，设置在所述腔室的内部，用于吸附基板；检测部件，在铅垂方向上配置在所述吸附板的下方，检测所述基板向所述吸附板的吸附的程度；以及移动部件，使所述检测部件在沿着所述基板的被成膜面的第一方向上移动。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，该成膜装置还具备：掩模支承部件，设置在所述腔室的内部，支承掩模；以及对准部件，进行吸附在所述吸附板上的所述基板与掩模的对准，所述检测部件检测所述基板及所述掩模向所述吸附板的吸附的程度。3.一种成膜装置，其特征在于，该成膜装置具备：腔室，将内部保持为真空；吸附板，设置在所述腔室的内部，用于吸附基板；掩模支承部件，设置在所述腔室的内部，支承掩模；对准部件，进行吸附在所述吸附板上的所述基板与所述掩模的对准；检测部件，配置在所述吸附板的铅垂方向的下侧，检测所述掩模向所述基板的贴紧的程度；以及...

【专利技术属性】
技术研发人员：河合慈，高桥宣之，富井广树，樱井克荣，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：