一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，包括侧部设有分别供基片架本体进入和送出的密封输入口和密封输出口的真空回转室、用于对真空回转室进行抽真空的抽气装置以及可转动地设于真空回转室内的回转驱动装置，密封输入口和密封输出口设于真空回转室的同一侧部，回转驱动装置包括回转架、设于回转架侧部且用于驱动基片架本体通过密封输入口送入真空回转室或通过密封输出口送出真空回转室的传送组件以及设于回转架底部且用于驱动回转架转动180

【技术实现步骤摘要】
一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备


[0001]本技术涉及真空镀膜领域，尤其是一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备。

技术介绍

[0002]传统的连续式镀膜生产一般在一条连续式生产线上完成，其往一条直线方向进行流水式加工。当产品需要镀膜的膜层需求越多时，镀膜加工工艺的流程要求也越多，所需要配置的靶位也需要随之增加，从而导致所需要的镀膜真空室的节数(数量)增多，最终导致生产线线体的长度增加，从而需要占用的厂房空间也随之而增加。而一些厂房受长度的限制，无法摆放总长度过长的连续生产线，因此无法制备膜层要求复杂的产品。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供可缩短镀膜生产线整体长度且可提高镀膜生产效率的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备。
[0004]本技术的目的是这样实现的：
[0005]一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，包括侧部设有分别供基片架本体进入和送出的密封输入口和密封输出口的真空回转室、用于对所述真空回转室进行抽真空的抽气装置以及可转动地设于所述真空回转室内的回转驱动装置，所述密封输入口和密封输出口设于所述真空回转室的同一侧部，所述回转驱动装置包括回转架、设于所述回转架侧部且用于驱动基片架本体通过所述密封输入口送入所述真空回转室或通过所述密封输出口送出所述真空回转室的传送组件以及设于所述回转架底部且用于驱动所述回转架转动180
°
的转动驱动件。
[0006]本技术采用上述结构，可将镀膜生产线从中间“翻折”180
°
，从而将镀膜生产线的长度缩短一半，另外还可以使得基片架本体的进料和出料均位于同一工位位置，进而节省了工位，并提高了镀膜生产的效率。
[0007]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述转动驱动件包括固设于所述真空回转室底部的定子和可转动地设于所述定子内的转子，所述定子与所述真空回转室之间设有密封件，所述转子与所述定子之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔，所述回转架的底部设有隔离舱，所述转子设有将其贯穿且与所述隔离舱相连通的转子通道，所述转子与所述隔离舱的底部固定连接且其二者之间也设有密封件，从而使得转动驱动件能在真空回转室外的大气环境中正常运行，另外在填充于磁流体密封腔内的磁流体和密封件的密封作用下可保证真空回转室不会在转动驱动件的位置处发生漏气。
[0008]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述传送组件包括若干传送轮和设于所述隔离舱内且用于驱动所述传送轮转动的磁传动组，所述磁传动组包括分别固设于所述隔离舱的内侧和外侧的内磁座和外磁座，所述内磁座和所述外磁座上分别可转动地设有主动轴和从动轴，所述内磁座和所述外磁座内分别设有可随所述主动轴和所
述从动轴转动的主动磁体和从动磁体。隔离舱通过转子通道与外界大气相通，使得内磁座和主动轴在大气环境中正常运行，主动轴转动即可驱动从动轴和传送轮转动，从而驱动基片架本体通过密封输入口送入真空回转室或通过密封输出口送出真空回转室。
[0009]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述回转架的顶部设有用于对基片架本体进行导向的磁导轨，所述磁导轨的两侧设有磁性相同的磁铁，从而保证基片架本体在送入或送出真空回转室的过程中的传动平稳性和效率。
[0010]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述密封输入口和所述密封输出口倾斜设置，相应的，所述传送组件和所述磁导轨也倾斜设置，从而适配大尺寸产品的大规模生产。
[0011]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述密封输入口和所述密封输出口垂直设置于所述真空回转室的侧部，相应的，所述传送组件和所述磁导轨水平设置，这样的设置方式可使回转设备的整体结构简单、紧凑，适用于小尺寸产品的镀膜生产线。
[0012]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述隔离舱与基片架本体之间限位装置，所述限位装置包括设于所述隔离舱外侧的电磁铁和设于基片架本体上且用于供所述电磁铁吸住的定位片，所述限位装置还包括设于所述传送轮上的限位凹槽和套设于所述限位凹槽内的限位凹圈，从而对基片架本体进行有效的定位，防止基片架本体因倾斜而甩出。
[0013]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述回转架的前后两侧均设有中空支撑杆，所述中空支撑杆的顶部设有加热密封舱，两所述加热密封舱的外侧均设有所述磁导轨，相应的，所述回转架的前后两侧均设有所述传送组件，所述中空支撑杆的外侧设有用于对承载于基片架本体上的基片进行加热的加热组件，所述加热组件与所述中空支撑杆之间设有隔热板。回转架的前后两侧均设有传送组件、磁导轨、中空支撑杆和加热组件，从而可进一步提高镀膜生产的效率。
[0014]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述隔离舱和所述加热密封舱上均设有冷却水道，所述加热密封舱通过所述中空支撑杆与所述隔离舱相连通，从而方便传送组件和加热组件的电源线路和冷却水道的水管路通过转子通道引出，并有效与真空回转室内的真空环境相隔离。
[0015]如上所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，所述真空回转室的前后两侧均设有门体以增加检修的可操作空间，所述门体上设有抽气泵以进一步提高对真空回转室抽真空的效率，所述真空回转室和所述门体的外侧均设有冷却水管以降低真空回转室对外界温升的影响。
【附图说明】
[0016]下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步详细说明，其中：
[0017]图1为本技术所述密封输入口和所述密封输出口倾斜设置的结构示意图；
[0018]图2为本技术所述密封输入口和所述密封输出口垂直设置的结构示意图；
[0019]图3为本技术所述回转驱动装置的结构示意图之一(所述传送组件和所述磁导轨倾斜设置)；
[0020]图4为本技术所述回转驱动装置的结构示意图之二(所述传送组件和所述磁导轨水平设置)；
[0021]图5为本技术所述转动驱动件的剖视结构示意图；
[0022]图6为本技术所述传送组件(倾斜设置)的结构示意图；
[0023]图7为本技术所述回转架(所述中空支撑杆倾斜设置)的结构示意图；
[0024]图8为本技术所述限位装置的结构示意图；
[0025]图9为本技术所述定位片的结构示意图；
[0026]图10为采用本技术的镀膜生产线的结构示意图；
[0027]图11为传统镀膜生产线的结构示意图。
【具体实施方式】
[0028]一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，包括侧部设有分别供基片架本体10进入和送出的密封输入口11和密封输出口12的真空回转室1、用于对真空回转室1进行抽真空的抽气装置2以及可转动地设于真空回转室1内的回转驱动装置3，密封输入口11和密封输出口12设于真空回转室1的同一侧部，回转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，其特征在于包括侧部设有分别供基片架本体(10)进入和送出的密封输入口(11)和密封输出口(12)的真空回转室(1)、用于对所述真空回转室(1)进行抽真空的抽气装置(2)以及可转动地设于所述真空回转室(1)内的回转驱动装置(3)，所述密封输入口(11)和密封输出口(12)设于所述真空回转室(1)的同一侧部，所述回转驱动装置(3)包括回转架(31)、设于所述回转架(31)侧部且用于驱动基片架本体(10)通过所述密封输入口(11)送入所述真空回转室(1)或通过所述密封输出口(12)送出所述真空回转室(1)的传送组件(4)以及设于所述回转架(31)底部且用于驱动所述回转架(31)转动180
°
的转动驱动件(5)。2.根据权利要求1所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，其特征在于所述转动驱动件(5)包括固设于所述真空回转室(1)底部的定子(51)和可转动地设于所述定子(51)内的转子(52)，所述定子(51)与所述真空回转室(1)之间设有密封件(50)，所述转子(52)与所述定子(51)之间设有用于填充磁流体的磁流体密封腔(53)，所述回转架(31)的底部设有隔离舱(6)，所述转子(52)设有将其贯穿且与所述隔离舱(6)相连通的转子通道(521)，所述转子(52)与所述隔离舱(6)的底部固定连接且其二者之间也设有密封件(50)。3.根据权利要求2所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，其特征在于所述传送组件(4)包括若干传送轮(41)和设于所述隔离舱(6)内且用于驱动所述传送轮(41)转动的磁传动组(42)，所述磁传动组(42)包括分别固设于所述隔离舱(6)的内侧和外侧的内磁座(421)和外磁座(422)，所述内磁座(421)和所述外磁座(422)上分别可转动地设有主动轴(423)和从动轴(424)，所述内磁座(421)和所述外磁座(422)内分别设有可随所述主动轴(423)和所述从动轴(424)转动的主动磁体和从动磁体。4.根据权利要求3所述的一种用于连续镀膜生产线上的基片架回转设备，其特征在于所述回转架(31)的顶部设有用...

【专利技术属性】
技术研发人员：高文波，李小彭，彭友前，姜翠宁，
申请(专利权)人：洛阳生波尔真空装备有限公司，
类型：新型
国别省市：