本实用新型专利技术属于镀膜设备技术领域，公开了一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备。其包括阴极法兰、阴极头和靶管，阴极法兰开设有容置腔，容置腔的顶部和后端均为朝向真空腔体中心的开放式结构，阴极法兰能够与真空腔体密封连接；阴极头设置于阴极法兰前端，且至少部分阴极头设置于容置腔外；靶管设置于容置腔内。本实用新型专利技术的水平式阴极单元，阴极头设置于容置腔外，减少了占用容置腔的内部空间，能够提高有效镀膜区域长度；阴极法兰的后端呈开放式结构，可以使靶管的维护变得更加容易，不用给靶管流出维护空间，加长了阴极单元内的有效成膜区间。阴极法兰呈楔形结构，能够使阴极法兰和真空腔体配合时结构更加紧凑，优化了水平式镀膜设备的布局。膜设备的布局。膜设备的布局。
【技术实现步骤摘要】
一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备
[0001]本技术涉及镀膜设备
，尤其涉及一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备。
技术介绍
[0002]随着真空镀膜设备行业的发展，镀膜设备除了满足成膜工艺的需求之外，对空间占用，场地摆放也提出了更加苛刻的要求。对于上下双面镀膜或者单面向上、向下的一体式水平连续镀膜机，除了要求在紧凑的空间内尽可能多的布置阴极单元，还要求在限定的阴极单元内提高有效镀膜区域长度，优化设备及组件的空间布局变的越来越重要。
[0003]对于传统的一体式水平连续镀膜机的阴极单元，目前多采用长方体结构的单元布局，阴极法兰通常为长方体结构，由不锈钢钢板焊接成型或者铝材精密加工制作，阴极靶管和阴极头均布置在阴极法兰内；然而，一方面，阴极单元内需要预留足够的空间用于后续需要维护靶管，其预留空间导致有效镀膜区域缩短，降低了有效镀膜区域长度；另一方面，阴极头会占用阴极法兰的内部空间，导致浪费了大量的有效镀膜区域长度。
[0004]因此，亟需一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备，以解决上述问题。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备，增加有效镀膜区域长度。
[0006]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0007]一方面，提供一种水平式阴极单元，包括：
[0008]阴极法兰，所述阴极法兰开设有容置腔，所述容置腔的顶部和后端均为朝向真空腔体中心的开放式结构，所述阴极法兰能够与所述真空腔体密封连接；
[0009]阴极头，所述阴极头设置于所述阴极法兰前端，且至少部分所述阴极头设置于所述容置腔外；
[0010]靶管，所述靶管设置于所述容置腔内。
[0011]可选地，还包括升降机构，所述升降机构连接于所述阴极法兰的底部。
[0012]可选地，还包括架体和设置于所述架体上的水平导向机构，所述升降机构能够沿所述水平导向机构移动。
[0013]可选地，所述水平导向机构包括导轨和与所述导轨滑动配合的滑块，所述导轨连接于所述架体，所述升降机构连接于所述滑块。
[0014]可选地，所述阴极法兰的后端的横截面积小于前端的横截面积，所述阴极法兰的顶部沿从前端向后端的方向具有向下倾斜趋势。
[0015]可选地，所述阴极法兰呈楔形。
[0016]可选地，还包括设置于所述容置腔内的支撑机构，所述靶管固定于所述支撑机构。
[0017]可选地，部分所述阴极头伸入所述容置腔内，所述靶管与所述阴极头伸入所述容
置腔内的伸入端通过卡箍连接。
[0018]可选地，还包括连接于所述阴极法兰的外侧的安全护罩，所述安全护罩罩设于所述阴极头。
[0019]可选地，所述容置腔的侧壁上设有防污板。
[0020]另一方面，提供一种水平式镀膜设备，包括真空腔体和上述的水平式阴极单元，所真空腔体和阴极法兰密封连接。
[0021]本技术的有益效果：
[0022]本技术提供的一种水平式阴极单元及水平式镀膜设备，至少部分阴极头设置于容置腔外，减少了占用容置腔的内部空间，能够提高有效镀膜区域长度；阴极法兰的后端呈开放式结构，可以使靶管的维护变得更加容易，不用给靶管的维护拆卸预留专用的维护空间，加长了阴极单元内的有效成膜区间。另外，阴极法兰呈楔形结构，能够使阴极法兰和真空腔体配合时结构更加紧凑，优化了水平式镀膜设备的布局。
附图说明
[0023]图1是本技术的具体实施方式提供的水平式阴极单元的结构示意图；
[0024]图2是本技术的具体实施方式提供的水平式阴极单元的俯视图。
[0025]图中：
[0026]1、阴极法兰；1A、容置腔；2、靶管；3、工艺气体系统；4、升降机构；5、架体；6、导轨；7、支撑机构；8、安全护罩；9、防污板；10、阴极头。
具体实施方式
[0027]为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本技术实施例的技术方案做进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0028]在本技术的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0029]在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
[0030]本实施例提供了一种水平式镀膜设备，包括真空腔体和水平式阴极单元，真空腔体和阴极法兰密封连接，为延长有效镀膜区域，本实施例提供了一种水平式阴极单元。
[0031]具体地，如图1和图2所示，水平式阴极单元包括阴极法兰1、阴极头10和靶管2，其中，阴极法兰1开设有容置腔1A，容置腔1A的顶部和后端均为朝向真空腔体中心的开放式结构，阴极法兰1能够与真空腔体密封连接；阴极头10设置于阴极法兰1前端，且至少部分阴极头10设置于容置腔1A外；靶管2设置于容置腔1A内。至少部分阴极头10设置于容置腔1A外，减少了占用容置腔1A的内部空间，能够提高有效镀膜区域长度；阴极法兰1的后端呈开放式结构，使容置腔1A与外部连通，可以使靶管2的维护变得更加容易，相对于传统阴极法兰结构，其后端封闭，需要在内部预留维护空间，而本方案不用给靶管2的维护拆卸设计专用的维护空间，进一步加长了阴极单元内的有效成膜区间。
[0032]如图1所示，阴极法兰1的前端和后端长度方向设置，即沿X向设置，宽度沿Y向设置，高度沿Z向设置。
[0033]可选地，所述阴极法兰1的后端的横截面积小于前端的横截面积，从图1中的Y向看，所述阴极法兰1的顶部沿从前端向后端的方向具有向下倾斜趋势。能够使阴极法兰1和真空腔体配合时结构更加紧凑，优化了水平式镀膜设备的布局。具体地，阴极法兰1由两个侧板、底板及前端板围成，从Y向看，侧板的顶端可以是弧形、阶梯形或倾斜的直线，本实施例中，侧板的顶端为倾斜的直线，使阴极法兰1呈楔形。其他实施例中，也可以将阴极法兰1设置成长方体结构，长方体结构的顶部为开放式结构，其后端可以是开放式结构，或者其后端也可以本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种水平式阴极单元，其特征在于，包括：阴极法兰(1)，所述阴极法兰(1)开设有容置腔(1A)，所述容置腔(1A)的顶部和后端均为朝向真空腔体中心的开放式结构，所述阴极法兰(1)能够与所述真空腔体密封连接；阴极头(10)，所述阴极头(10)设置于所述阴极法兰(1)前端，且至少部分所述阴极头(10)设置于所述容置腔(1A)外；靶管(2)，所述靶管(2)设置于所述容置腔(1A)内。2.根据权利要求1所述的水平式阴极单元，其特征在于，还包括升降机构(4)，所述升降机构(4)连接于所述阴极法兰(1)的底部。3.根据权利要求2所述的水平式阴极单元，其特征在于，还包括架体(5)和设置于所述架体(5)上的水平导向机构，所述升降机构(4)能够沿所述水平导向机构移动。4.根据权利要求3所述的水平式阴极单元，其特征在于，所述水平导向机构包括导轨(6)和与所述导轨(6)滑动配合的滑块，所述导轨(6)连接于所述架体(5)，所述升降机构(4)连接于所述滑块。5.根据权利要求1
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4任一项所述的水平式阴极单元，其特征在于，所述阴极法兰(1)的后端的横截面积小于前端的横截面积，所述阴极法兰(1)的顶...
【专利技术属性】
技术研发人员：靳伟，余龙，吕启蒙，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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