本实用新型专利技术提供了一种镀膜机放气装置，包括分流器，放气开关及放气阀，放气开关一侧设置有分流器，另一侧设置放气阀，分流器的进气口与镀膜机相接；放气阀包括壳体，壳体内设置有过滤结构，过滤结构的开口与放气开关相连通；壳体底端设置有一进气孔；与进气孔相邻的两侧壳体分别向下延伸，两个延伸壳体之间设置有一隔板，隔板与接近进气孔的延伸壳体之间形成杂质通道，隔板与远离进气孔的延伸壳体形成进气通道。在此装置中壳体底端对空气进行一次过滤后，气体进入过滤结构进行二次过滤，经过放气开关及分流器进入镀膜机内。通过对镀膜机的放气装置的改造后，放气速度得到了提升而且放气后镀膜机内的洁净度，生产效率以及镀膜的良品率均得到提高。良品率均得到提高。良品率均得到提高。
【技术实现步骤摘要】
一种镀膜机放气装置
[0001]本技术涉及镀膜领域，具体涉及一种镀膜机。
技术介绍
[0002]由于真空镀膜制备的过程是一个原子堆积的过程，因此对于镀膜机的炉体内环境要求非常高，炉体内的洁净度直接关系到镀膜产品质量的好坏。真空薄膜制备完成后，需要将空气导入到炉膛内部直到压力平衡才可以打开炉体将镀了膜的产品取出。由于目前的设备没有过滤装置，因此在放气的过程中空气中很多的灰尘会随着放气阀进入到炉体中去，在后续镀膜时，炉内滞留的粉尘会直接影响到产品的质量，而且由于气体采用直接进入的方式，放气速度过快会引起设备内部的气流扰动，使得在镀膜过程中的挥发挥发物二次影响到产品的洁净度和镀膜机中的洁净度。
技术实现思路
[0003]针对现有技术存在的问题，本技术的目的在于提供一种镀膜机放气装置，包括分流器，放气开关及放气阀，所述放气开关一侧设置有所述分流器，另一侧设置所述放气阀，所述分流器的进气口与镀膜机相接；所述放气阀包括壳体，所述壳体内设置有过滤结构，所述过滤结构的开口与所述放气开关相连通；所述壳体底端设置有一进气孔；与所述进气孔相邻的两侧所述壳体分别向下延伸，两个所述延伸壳体中间设置有一隔板，所述隔板与接近所述进气孔的所述延伸壳体之间形成杂质通道，所述隔板与远离所述进气孔的所述延伸壳体形成进气通道。
[0004]进一步地，所述过滤结构包括最外侧设置一层过滤网，所述滤网里侧设置一层过滤棉，所述过滤棉里侧设置一层纸质过滤器。
[0005]进一步地，分流器靠近所述镀膜机的一侧分两路进气管路进入所述镀膜机。<br/>[0006]进一步地，所述分流器的所述两路进气管路的长度不同。
[0007]进一步地，所述分流器的两路进气管路末端的进气口相对。
[0008]进一步地，所述壳体材质为不锈钢。
[0009]进一步地，接近所述进气孔的所述延伸壳体朝内一次设置有抛光的石墨挡板。
[0010]进一步地，所述过滤结构设置在所述壳体内与所述放气开关相接的一侧。
[0011]进一步地，所述石墨挡板与所述隔板间形成漏斗形杂质通道。
[0012]进一步地，所述漏斗形杂质通道下端设置一开关用于清空积攒的杂质。
[0013]采用本技术中的镀膜机放气装置有如下技术效果：
[0014]一、空气从进气通道进入后，与壳体底端产生碰撞过滤掉大颗粒杂质，当气体碰到抛光的石墨挡板后，前一次碰撞未清除的大颗粒杂质会顺着石墨挡板及壳体滑落至杂质通道。通过二次碰撞可以将气体中大颗粒杂质基本过滤掉。剩余的小颗粒杂质通过放气阀壳内设置的过滤结构分不同的过滤材料进行过滤使进入镀膜机内的气体纯度提到。
[0015]二、由于镀膜中真空度比较高，当打开放气开关时气体的流动速度比较快，过快的
气体会使在镀膜过程中的挥发出来的杂质到处飞溅，从而弄脏产品的表面。本装置采用分流器将气体分成两路对着进入镀膜机，这样两路进入的气体相互降低了彼此的速度，同时由于两根管路放气，进入镀膜机内部的气体速度也会增加。不但提高了放气的速度也避免由于气流的快速冲击造成镀膜机二次污染。不但提高了生产效率也提高了镀膜的良品率。
附图说明
[0016]图1为现有技术放气阀结构示意图；
[0017]图2为现有技术放气阀在镀膜机上安装结构示意图；
[0018]图3为本技术实施例放气阀装置示意图；
[0019]图4为本技术空气流动示意图；
[0020]1、过滤网；2、过滤棉；3、纸质过滤器；4、壳体底端；5、壳体；6、石墨挡板；7、分流器；8、镀膜机；9、杂质通道；10、隔板；11、放气开关；12、进气通道；13、进气孔。
具体实施方式
[0021]为清楚地说明本技术的设计思想，下面结合示例对本技术进行说明。
[0022]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的方案，下面结合本技术示例中的附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的示例仅仅是本技术的一部分示例，而不是全部的示例。基于本技术的示例，本领域的普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下，所获得的所有其他实施方式都应当属于本技术保护的范围。
[0023]在本实施方式的描述中，术语指示的方位或位置关系均为基于附图所示的方位或位置关系，仅仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0024]如图1和图2所示为现有技术的放气阀及其安装结构示意图。该放气阀装置中没有设置过滤装置，因此进入的空气中含有粉尘和其它杂质会直接影响到真空镀膜机8内部洁净度，从而影响到产品的质量。由于空气是直接进入镀膜机8内部没有任何缓冲，放气速度过快会引起镀膜机8内部气流扰动，导致镀膜过程中产生的挥发物影响到产品的洁净度以及镀膜机8中的洁净度。
[0025]如图3所示，本技术提供一种镀膜机8放气装置，包括分流器7，放气开关11及放气阀，放气开关11一侧设置有分流器7，另一侧设置放气阀，分流器7的进气口与镀膜机8相接；放气阀包括壳体5，壳体5内设置有过滤结构，过滤结构的开口与放气开关11相连通；放气阀内设置的过滤结构包括最内侧设置一层过滤网1，过滤网1里侧设置一层过滤棉2，过滤棉2里侧设置一层纸质过滤器3。可以将过滤结构设置在壳体5内与放气开关11相接的一侧。壳体底端4设置有一进气孔13，与进气孔13相邻的两侧壳体5分别向下延伸，两个延伸壳体5之间设置有一隔板10，隔板10与接近进气孔13的延伸壳体5上之间形成杂质通道9，隔板10与远离进气孔13的延伸壳体5形成进气通道。接近进气孔13的延伸壳体5朝内一侧设置有抛光的石墨挡板6。通过本装置气体在壳体底端4进行一次过滤后进入壳体5内的过滤结构二次过滤然后经过分流器7进入镀膜机8内。
[0026]在放气开始时，由于镀膜机8为真空状态，打开放气开关11后外面的空气迅速进入镀膜机8内，空气先碰到不锈钢壳体底端4，空气中存在的大颗粒杂质（如小沙粒，尘土等）撞击到壳体底端4进行反弹，杂质由于重力作用从进气通道掉落从而一定程度上对空气进行过滤，经过滤的气体继续流动碰到抛光的石墨挡板6后，气体中的颗粒与石墨挡板6发生碰撞使其落到漏斗形的杂质通道9处，杂质通道9处设置一开关，将积攒的杂质清除。为了更好地反弹效果壳体5为不锈钢材质。经过初步过滤气体中大颗粒杂质基本已经消除剩下一些微小杂质，通过放气阀壳体5内部设置的过滤结构二次过滤即可。
[0027]由于真空镀膜中的真空状态，气体进入的流动速度比较快，使得镀膜过程中产生的杂质到处飞溅，从而弄脏产品的表面。为了解决此问题，在进入镀膜机8的进气通道设置一个分流器7，分流器7靠近镀膜机的一侧分两路进气管路进入镀膜机8内。两路进气管路的长度不同导致长度较长一侧的气体进入镀膜机8内较慢。分流器7的两路进气管路末端的进气口呈相对。将放气开关打开后，气体流动方向如图4所示。通过本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种镀膜机放气装置，其特征在于，包括分流器，放气开关及放气阀，所述放气开关一侧设置有所述分流器，另一侧设置所述放气阀，所述分流器的进气口与镀膜机相接；所述放气阀包括壳体，所述壳体内设置有过滤结构，所述过滤结构的开口与所述放气开关相连通；所述壳体底端设置有一进气孔；与所述进气孔相邻的两侧所述壳体分别向下延伸，两个所述延伸壳体中间设置有一隔板，所述隔板与接近所述进气孔的所述延伸壳体之间形成杂质通道，所述隔板与远离所述进气孔的所述延伸壳体形成进气通道。2.根据权利要求1所述的镀膜机放气装置，其特征在于，所述过滤结构包括最外侧设置一层过滤网，所述滤网里侧设置一层过滤棉，所述过滤棉里侧设置一层纸质过滤器。3.根据权利要求2所述的镀膜机放气装置，其特征在于，所述分流器靠近所述镀膜机的一侧分两路进气管路进...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘景峰，
申请(专利权)人：四川奇峰景行光学科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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