【技术实现步骤摘要】
化学气相沉积炉
[0001]本申请涉及化学气相沉积炉制造
,更具体地说,涉及一种化学气相沉积炉。
技术介绍
[0002]化学气相沉积(CVD)是将含有原材料组分的源气体输入CVD沉积炉,通过扩散和对流等机理沉积在预制件上沉积一层固态薄膜并生成成品的工艺过程。在CVD工艺中,CVD沉积炉结构对沉积效率和沉积品质有很大影响。其中,高熔点物质能够在低温下合成;析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;不仅可以在基片上涂层,而且可以在粉体表面涂层等。特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献。
[0003]随着现代工业的高速发展,各个行业对加热温度和稳定性的要求也越来越高。目前一些结构石墨加热体保温密封性差,炉芯两侧以及底部这几处的热量损失比较大,在正常情况下炉芯两侧以及底部的温度低于中间的温度,如果保温效果不好则炉温差异会更大。
技术实现思路
[0004]为至少在一定程度上克服相关技术中存在的问题,本申请的目的在于提供一种化学气相沉积炉,通过在石墨加热体的四周和下方,设置保温底托 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积炉,其特征在于,包括炉体(1)、位于所述炉体(1)内的石墨加热体(2)、环绕于所述石墨加热体(2)侧部的保温周套(4)和位于所述石墨加热体(2)底部下方的保温底托(3),所述保温周套(4)和所述保温底托(3)均位于所述保温炉体(1)内。2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述保温周套(4)内嵌于所述炉体(1)的侧壁,所述保温底托(3)内嵌于所述炉体(1)的底壁。3.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉,其特征在于,所述炉体(1)包括第一侧壁和位于所述第一侧壁内侧的第二侧壁,所述保温周套(4)内嵌在所述第一侧壁和所述第二侧壁之间。4.根据权利要求3所述的化学气...
【专利技术属性】
技术研发人员:张余,
申请(专利权)人:天津得瑞伯机电设备有限公司,
类型:发明
国别省市:
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