本实用新型专利技术公开一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置，包括壳体、下电极组件和第一密封件，壳体的底部具有凸起部，凸起部邻近于壳体的外侧壁，下电极组件与壳体连接围成真空腔，下电极组件与壳体的底部之间留有间隙，间隙位于凸起部背离壳体的外侧壁的一侧，第一密封件夹设于凸起部与下电极组件之间。在外界气压的作用下，壳体向真空腔侧倾斜时，通过在下电极组件和壳体底部之间设置的间隙，为壳体提供了倾倒空间，避免了壳体直接挤压到下电极组件，对下电极组件造成破坏。同时多个第一密封件，防止在高温作用下，单个第一密封件失效后，外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔，多个第一密封件的设置，提高了密封性。高了密封性。高了密封性。
【技术实现步骤摘要】
化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置
[0001]本技术涉及显示面板
，尤其涉及一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置。
技术介绍
[0002]在显示装置领域，镀膜工艺是一种利用化学反应方式，将反应物生成固态产物，并沉积在基片表面的技术。而镀膜工艺需要利用化学气相沉积装置完成，为保证化学气相沉积装置壳体内的腔室是真空状态，需要对电极和壳体之间进行密封，现有的化学气相沉积装置的密封结构如图1所示，其中壳体1
′
和下电极组件3
′
之间通过第一密封件4
′
密封，壳体1
′
与上电极2
′
之间通过第二密封件5
′
密封。现有技术存在以下缺陷：由于壳体1
′
内的腔室处于真空状态，在外界气压的作用下，壳体1
′
容易向真空腔侧倾斜，从而使壳体1
′
挤压破坏下电极组件3
′
，同时壳体1
′
内的腔室还处于高温状态，第一密封件4
′
在高温下容易失效，单个第一密封件4
′
的设置，使得第一密封件4
′
一旦失效，会导致外界空气进入腔室。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于：提供一种化学气相沉积装置的密封结构及化学气相沉积装置，保证电极与壳体之间的密封性，且避免壳体倾斜破坏电极。
[0004]为达上述目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]第一方面，提供一种化学气相沉积装置的密封结构，包括：
[0006]壳体，所述壳体的底部具有凸起部，所述凸起部邻近于所述壳体的外侧壁；
[0007]下电极组件，所述下电极组件与所述壳体连接围成真空腔，所述下电极组件与所述壳体的底部之间留有间隙，所述间隙位于所述凸起部背离所述壳体的外侧壁的一侧；
[0008]多个第一密封件，所述第一密封件夹设于所述凸起部与下电极组件之间。
[0009]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，相邻两个第一密封件之间设置有连接板，所述连接板具有波纹部。
[0010]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，还包括上电极，所述上电极连接于所述壳体，所述上电极与所述壳体之间设置有第二密封件。
[0011]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述壳体的内侧壁凸出形成有台阶，所述第二密封件设置在所述台阶上。
[0012]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，还包括：
[0013]扩散器，所述扩散器设置于所述真空腔内，且可拆卸连接于所述上电极。
[0014]填充块，所述填充块设置于所述扩散器、所述壳体和所述上电极围成的空间内，所述填充块能够保证真空腔内的密封性。
[0015]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述壳体上设置有支撑板，所述支撑板能够支撑所述填充块。
[0016]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述支撑板的一端与所述壳
体的底部之间通过螺栓连接，所述支撑板的另一端朝向所述真空腔的中心延伸，所述填充块的下端与所述支撑板的上表面抵接。
[0017]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述支撑板设置有多块，每块都能转动至间隙内，便于所述填充块的取出。
[0018]作为化学气相沉积装置的密封结构的一种优选方案，所述螺栓的螺杆上套设有弹性件，所述弹性件的一端抵接于所述支撑板的下表面，另一端抵接于所述螺栓的头部。
[0019]第二方面，提供一种化学气相沉积装置，包括如上所述的化学气相沉积装置的密封结构。
[0020]本技术的有益效果为：通过在壳体底部邻近于壳体的外侧壁处设置凸起部，将下电极组件与壳体连接时，下电极组件与凸起部背离壳体的外侧壁的一侧之间留有一定的间隙，在外界气压的作用下，壳体向真空腔侧倾斜时，这一间隙为壳体提供了倾倒空间，避免了壳体直接挤压到下电极组件，对下电极组件造成破坏。同时在下电极组件和凸起部的连接处设置多个第一密封件，防止在高温作用下，单个第一密封件失效后，外界空气能够从壳体和下电极组件之间进入真空腔，多个第一密封件的设置，提高了下电极组件和壳体之间的密封性。
附图说明
[0021]下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0022]图1为现有的化学气相沉积装置的密封结构示意图。
[0023]图2为本技术的化学气相沉积装置的结构示意图。
[0024]图3为本技术的支撑板与壳体的连接结构示意图。
[0025]图1中：
[0026]1′
、壳体；2
′
、上电极；3
′
、下电极、4
′
、第一密封件；5
′
、第二密封件。
[0027]图2
‑
图3中：
[0028]1、壳体；11、真空腔；12、凸起部；13、支撑板；131、弹性件；2、上电极；3、下电极组件；4、第一密封件；5、第二密封件；6、扩散器；7、填充块；8、扩散板。
具体实施方式
[0029]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地了解本技术的范围，并且本技术仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
[0030]以下，参照附图来详细描述本技术。
[0031]如图2所示，本技术实施例所提供的化学气相沉积装置的密封结构，包括壳体1、上电极2和下电极组件3，其中壳体1、上电极2和下电极组件3围成真空腔11，具体地，壳体1的底部具有凸起部12，凸起部12邻近于壳体1的外侧壁，下电极组件3与壳体1的凸起部12连接，以使下电极组件3与壳体1的底部之间留有间隙L1，间隙L1位于凸起部12背离壳体1的外侧壁的一侧，在外界气压的作用下，壳体1向真空腔11侧倾斜时，这一间隙L1为壳体1提供
了倾倒空间，避免了壳体1直接挤压到下电极组件3，对下电极组件3造成破坏。
[0032]为保证真空腔11的密封性，下电极组件3和壳体1的凸起部12之间夹设有多个第一密封件4，防止在高温作用下，单个第一密封件4失效后，外界空气能够从壳体1和下电极组件3之间进入真空腔11，多个第一密封件4的设置，提高了下电极组件3和壳体1之间的密封性。
[0033]具体的，本实施例所提供的第一密封件4为O型密封圈，于其他实施例中也可以为其它结构的密封圈，在此不做过多限制，同时本实施例所提供的第一密封件4为两个，于其他实施例中，第一密封件4的数量可以为更多个，以保证下电极组件3和壳体1之间的密封性。进一步地，相邻两个本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种化学气相沉积装置的密封结构，其特征在于，包括：壳体，所述壳体的底部具有凸起部，所述凸起部邻近于所述壳体的外侧壁；下电极组件，所述下电极组件与所述壳体连接围成真空腔，所述下电极组件与所述壳体的底部之间留有间隙，所述间隙位于所述凸起部背离所述壳体的外侧壁的一侧；多个第一密封件，所述第一密封件夹设于所述凸起部与下电极组件之间。2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置的密封结构，其特征在于，相邻两个第一密封件之间设置有连接板，所述连接板具有波纹部。3.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置的密封结构，其特征在于，还包括上电极，所述上电极连接于所述壳体，所述上电极与所述壳体之间设置有第二密封件。4.根据权利要求3所述的化学气相沉积装置的密封结构，其特征在于，所述壳体的内侧壁凸出形成有台阶，所述第二密封件设置在所述台阶上。5.根据权利要求3所述的化学气相沉积装置的密封结构，其特征在于，还包括：扩散器，所述扩散器设置于所述真空腔内，且可拆卸连接于所述上电极；填充块...
【专利技术属性】
技术研发人员：龙梅丽，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：
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