真空镀膜腔和真空镀膜设备制造技术

本发明专利技术涉及一种真空镀膜腔和真空镀膜设备。该真空镀膜腔包括真空腔体和冷却腔体，冷却腔体环绕真空腔体的周侧设置，且冷却腔体与真空腔体互不连通，真空腔体包括多个分隔件，多个分隔件间隔设置于冷却腔体内，并将冷却腔体分隔成多个流道，多个流道依次连通以形成冷却通道，冷却腔体设置有进液口和出液口，冷却通道的一端与进液口连通，冷却通道的另一端与出液口连通。冷却介质可以沿冷却流道分布在冷却腔体真空镀膜腔内，减少冷却介质分布不均匀而导致真空镀膜腔表面温度差异性较大的问题，从而提高真空镀膜的质量。从而提高真空镀膜的质量。从而提高真空镀膜的质量。

【技术实现步骤摘要】
真空镀膜腔和真空镀膜设备


[0001]本专利技术涉及真空镀膜设备的
，特别是涉及真空镀膜腔和真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在表面反应合成涂层或纳米材料的方法。在进行化学气相沉积时，可根据实际需求对工件表面进行镀附相应材质的膜层(或涂层)。比如，在一些应用情况下，可将金刚石涂层镀附于工件表面。
[0003]目前在对工件的表面进行镀膜时，通常采用真空镀膜装置进行镀膜。真空镀膜装置包括真空镀膜腔，真空镀膜腔内具有真空腔体。在使用真空镀膜装置时，将工件置于真空腔体内以进行镀膜。
[0004]然而，目前的真空镀膜装置在对工件进行镀膜时，由于真空腔体内的温度不均匀，影响镀膜质量。

技术实现思路

[0005]基于此，有必要针对真空镀膜装置的镀膜质量不佳的问题，提供一种真空镀膜腔和真空镀膜设备。
[0006]一种真空镀膜腔，包括真空腔体和冷却腔体，所述冷却腔体环绕所述真空腔体的周侧设置，且所述冷却腔体与所述真空腔体互不连通，所述真空腔体包括多个分隔件，多个分隔件间隔设置于所述冷却腔体内，并将所述冷却腔体分隔成多个流道，多个所述流道依次连通以形成冷却通道，所述冷却腔体设置有进液口和出液口，所述冷却通道的一端与所述进液口连通，所述冷却通道的另一端与所述出液口连通。
[0007]在其中一个实施例中，所述真空镀膜腔包括顶壁、底壁和内腔壁，所述内腔壁环绕设置于所述顶壁和所述底壁之间，且所述内腔壁与所述顶壁和底壁共同围合形成所述真空腔体；/>[0008]所述真空镀膜腔包括外腔壁，所述外腔壁围设于所述内腔壁的周侧，所述冷却腔体形成于所述外腔壁与所述内腔壁之间。
[0009]在其中一个实施例中，至少部分所述外腔壁围设于所述顶壁的远离所述底壁的一侧，所述至少部分所述外腔壁与所述顶壁之间形成至少部分所述冷却腔体。
[0010]在其中一个实施例中，还包括隔片，所述隔片沿所述顶壁至所述底壁的方向设置，所述隔片位于所述冷却腔体内，所述隔片的一侧与所述外腔壁连接，所述隔片的另一侧与所述内腔壁连接；
[0011]沿所述顶壁至所述底壁的方向上，相邻的所述分隔件中，一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面连接，所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面之间形成空隙，另一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面之间形成空隙，所述分隔件的第二侧与所述隔片的第二表面连接。
[0012]在其中一个实施例中，还包括隔流件，所述隔流件设置于所述冷却腔体内，所述隔
流件的一端与所述外腔壁连接，所述隔流件的另一端与所述内腔壁连接；所述隔流件用于将所述冷却通道分割为至少两个不连通的分区冷却空间；各所述分区冷却空间均设置有进液口与出液口，各所述进液口独立设置，所述出液口至少部分独立设置。
[0013]在其中一个实施例中，所述隔流件沿所述外腔壁的底部至顶部的方向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
[0014]在其中一个实施例中，所述隔流件沿所述外腔壁的周向将所述冷却通道分割为至少两个不连通的所述分区冷却空间。
[0015]在其中一个实施例中，各所述分区冷却空间所对应的所述进液口处设置流量控制装置。
[0016]在其中一个实施例中，所述分隔件设置扰流通孔；
[0017]和/或，所述分隔件设置扰流部。
[0018]一种真空镀膜装置，包括上述的真空镀膜腔。
[0019]采用上述真空镀膜腔进行真空镀膜时，产品置于真空腔体内。由于分隔件间隔设置于冷却腔体内，因此，在对产品进行真空镀膜时，可将冷却介质由进液口输入至冷却腔体内，然后冷却介质依次沿各流道流动至出液口。在上述过程中，冷却介质可以沿冷却流道分布在冷却腔体真空镀膜腔内，减少冷却介质分布不均匀而导致真空镀膜腔表面温度差异性较大的问题。也就是说，若真空镀膜腔未设置分隔件，那么位于进液口至出液口的冷却介质的流动性较好，位于远离进液口至出液口的冷却介质的流动性较差，从而导致不同位置处的真空镀膜腔的温度差异性较大。此外，冷却介质在由一个流道移动至另一流道时，分隔件的设置也可以对冷却介质进行扰流，提高流道内的冷却介质的均匀性，从而减少靠近冷却腔体的冷却介质的温度一直高于靠近流道中部的冷却介质的温度。
附图说明
[0020]图1为本专利技术的一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构示意图。
[0021]图2为图1中略去外腔壁的真空镀膜腔的结构示意图。
[0022]图3为本专利技术的一实施例提供的一种真空镀膜腔的截面示意图。
[0023]图4为本专利技术的一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
[0024]图5为本专利技术的另一实施例提供的一种真空镀膜腔的分隔件的结构示意图。
[0025]图6为本专利技术的另一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
[0026]图7为本专利技术的又一实施例提供的一种真空镀膜腔的结构透视图(外腔壁为虚线显示)。
[0027]001、真空镀膜腔；100、外腔壁；110、进液口；120、出液口；200、内腔壁；210、顶壁；220、底壁；300、分隔件；310、扰流通孔；320、扰流部；400、冷却腔体；410、流道；420、分区冷却空间；430、冷却通道；500、真空腔体；600、隔片；610、第一表面；620、第二表面；700、隔流件。
具体实施方式
[0028]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0029]在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0030]此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
[0031]在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜腔，其特征在于，包括真空腔体和冷却腔体，所述冷却腔体环绕所述真空腔体的周侧设置，且所述冷却腔体与所述真空腔体互不连通，所述真空腔体包括多个分隔件，多个分隔件间隔设置于所述冷却腔体内，并将所述冷却腔体分隔成多个流道，多个所述流道依次连通以形成冷却通道，所述冷却腔体设置有进液口和出液口，所述冷却通道的一端与所述进液口连通，所述冷却通道的另一端与所述出液口连通。2.根据权利要求1所述的真空镀膜腔，其特征在于，所述真空镀膜腔包括顶壁、底壁和内腔壁，所述内腔壁环绕设置于所述顶壁和所述底壁之间，且所述内腔壁与所述顶壁和底壁共同围合形成所述真空腔体；所述真空镀膜腔包括外腔壁，所述外腔壁围设于所述内腔壁的周侧，所述冷却腔体形成于所述外腔壁与所述内腔壁之间。3.根据权利要求2所述的真空镀膜腔，其特征在于，至少部分所述外腔壁围设于所述顶壁的远离所述底壁的一侧，所述至少部分所述外腔壁与所述顶壁之间形成至少部分所述冷却腔体。4.根据权利要求2所述的真空镀膜腔，其特征在于，还包括隔片，所述隔片沿所述顶壁至所述底壁的方向设置，所述隔片位于所述冷却腔体内，所述隔片的一侧与所述外腔壁连接，所述隔片的另一侧与所述内腔壁连接；沿所述顶壁至所述底壁的方向上，相邻的所述分隔件中，一个所述分隔件的第一侧与所述隔片的第一表面连...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨恺，林海天，李立升，刘贵，董得平，
申请(专利权)人：东莞市华升真空镀膜科技有限公司，
类型：发明
国别省市：