【技术实现步骤摘要】
一种半导体碱蚀刻的转动装置
[0001]
：
[0002]本技术涉及一种半导体的蚀刻
，尤其是一种半导体碱蚀刻的转动装置。
[0003]
技术介绍
：
[0004]半导体制程制作出的晶片可广泛地利用于各种应用领域中，晶片的良品率可以直接决定终端产品的质量，因此在晶片的材料以及制作方式上各界均投入大量研究以确保其质量，不论其为何种应用领域的晶片，均须经过多道加工制程后，才能获得实际应用的电子组件或光电组件，晶片加工制程之一就是蚀刻去除晶片表面的氧化膜，随着晶片加工难度及加工要求的提升及晶片的需求提升，出现了一种全自动蚀刻设备，以提升晶片蚀刻的效率及良率，这种蚀刻设备需要采用升降气缸将半导体自动伸入蚀刻液的内部，以达到半导体的自动蚀刻，然而目前蚀刻设备大多只能将半导体静置在蚀刻液中，很难达到对半导体的充分蚀刻。
[0005]
技术实现思路
：
[0006]本技术的目的提供一种半导体碱蚀刻的转动装置，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
[0007]为解决上述技术问题，本技术提供一种半导体碱蚀刻的转动装置，其结构包...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体碱蚀刻的转动装置，其结构包括基座（1），其特征在于：其结构还包括升降气缸（2）和旋转电机（3），所述基座（1）的顶部设有平行于水平面的固定板（11），所述固定板（11）的下方设有可上下活动的固定块（12），所述升降气缸（2）固定在所述固定板（11）上且输出端和所述固定块（12）固定连接，所述固定块（12）的内部设有镂空槽（121），所述镂空槽（121）的底部设有转轴（122），所述旋转电机（3）固定在所述镂空槽（121）的内部，所述旋转电机（3）的输出端和所述转轴（122）的顶部固定连接，所述转轴（122）的底部设有半导体的固定槽（123）。2.根据权利要求1所述的一种半导体碱蚀刻的转动装置，其特征在于：所述固定板（11）上开设有四个导向孔（4），所述固定块（12）底部的两端设有对称的底板（41），所述底板（41）上分别设有两个垂直向上导向杆（42），所述导向杆（42）一一贯穿所述导向孔（4）。3.根据权利要求1所述的一种半导体碱蚀刻的转动装置，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱恺华，王百强，赵正东，
申请(专利权)人：南通伟腾半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。