一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法技术方案

本发明专利技术提供了一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法。其中，监控系统包括：数据获取模块，包括第一获取模块，用于获取沉积得到的薄膜的消光系数；监控模块，包括第一监控模块，用于判断所述消光系数是否异常，并在所述消光系数出现异常时，检查设备内的气体流量是否异常。在本发明专利技术提供的监控系统及监控方法中，通过实时监控消光系数实现对气体流量的监控，大大提高对设备内的气体流量的监控频率，便于及时发现气体流量的异常，有助于提高产品质量。有助于提高产品质量。有助于提高产品质量。

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法


[0001]本专利技术涉及半导体制造
，特别涉及一种薄膜沉积设备的监控系统及监控方法。

技术介绍

[0002]在薄膜沉积设备中，通过向设备内通入气体，并使气体在等离子体作用下发生化学反应而在晶圆表面形成薄膜。而在薄膜形成的过程中，如果流入设备内的气体流量发生变化，将导致形成的薄膜的膜质(例如薄膜的成分比例等特性)发生变化，从而影响后续工艺。例如，先进图形薄膜(Advanced patterning film，APF)为由乙炔(C2H2)气体在等离子体作用下形成的碳膜，当气体流量变化时，导致APF薄膜的膜质变化，从而导致对APF薄膜的刻蚀选择比发生变化，影响后续刻蚀形成的图形。
[0003]因此，在生产过程中，需准确地控制流入设备内的气体流量，使气体流量持续地稳定在设定范围内，从而确保形成的薄膜的膜质稳定。但是，在设备工作一段时间后，如果出现仪器故障或者外界环境干扰严重等情况，导致气体流量发生变化，将导致形成的薄膜的膜质发生变化。
[0004]故而，在生产过程中，需要定期对设备进行检查维本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉积设备的监控系统，其特征在于，包括：数据获取模块，包括第一获取模块，用于获取沉积得到的薄膜的消光系数；监控模块，包括第一监控模块，用于判断所述消光系数是否异常，并在所述消光系数出现异常时，检查设备内的气体流量是否异常。2.如权利要求1所述的薄膜沉积设备的监控系统，其特征在于，还包括：气体流量控制模块，用于控制流入设备内的气体流量；其中，在所述消光系数出现异常时，检查所述气体流量控制模块是否异常，以判断出所述设备内的气体流量是否异常。3.如权利要求2所述的薄膜沉积设备的监控系统，其特征在于，所述检查所述气体流量控制模块是否异常包括：检查所述气体流量控制模块在当前时刻对气体流量的设定范围是否异常。4.如权利要求1所述的薄膜沉积设备的监控系统，其特征在于，所述薄膜沉积设备用于沉积先进图形薄膜。5.如权利要求4所述的薄膜沉积设备的监控系统...

【专利技术属性】
技术研发人员：高亚峰，王德龙，赵贵峰，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：