一种半导体生产时的气体控制系统技术方案

本实用新型专利技术涉及气体控制设备技术领域，具体涉及一种半导体生产时的气体控制系统；包括底座、支撑柱，支撑板、生产台、密封箱、支撑组件、喷气组件和净化组件，通过生产台对密封箱进行支撑，支撑组件设置于密封箱的内部，喷气组件设置于密封箱的上方，能够对密封箱内部生产的半导体进行喷气，净化组件设置于密封箱的侧边，能够将其排出的毒气进行净化处理，在生产半导体时，需要对其生产的半导体进行喷气时，便将半导体放置在密封箱的内部，随后，便启动喷气组件，支撑组件便将喷气组件进行支撑，从而喷气组件进行准确的将气体喷射在生产半导体上，提高对半导体的生产。提高对半导体的生产。提高对半导体的生产。

A gas control system for semiconductor production

【技术实现步骤摘要】
一种半导体生产时的气体控制系统


[0001]本技术涉及气体控制设备
，尤其涉及一种半导体生产时的气体控制系统。

技术介绍

[0002]在生产半导体时，需要使用到较多的气体对半导体进行生产，然而使用的较多气体中都含有较多毒素，大多会危害人们的身体健康。在生产半导体时，喷出的有气体与半导体进行反应后，将其排出时，易对人们造成身体危害
[0003]目前设置有密封箱和净化组件，净化组件设置于所述密封箱的侧边，能够将其排出的气体进行净化，从而便能够对人们进行保护，提高实用性。
[0004]然而，现有的半导体生产时的气体控制系统需要对气体进行控制，无法将气体进行准确喷射在生产半导体的上方，从而影响半导体的生产质量。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种半导体生产时的气体控制系统，旨在解决现有技术中的的技术问题。
[0006]为实现上述目的，本技术采用的一种半导体生产时的气体控制系统，所述半导体生产时的气体控制系统包括底座、支撑柱，支撑板、生产台、密封箱、支撑组件、喷气组件和净化组件，所述支撑柱与所述底座固定连接，并位于所述底座的上方，所述支撑板与所述支撑柱固定连接，并位于所述支撑柱的上方，所述生产台设置于所述支撑板的上方，所述密封箱设置于所述生产台的上方，所述支撑组件设置于所述密封箱的内部，所述喷气组件设置于所述密封箱的上方，所述净化组件设置于所述密封箱的侧边；
[0007]所述支撑组件包括固定托块、铰接杆和固定套环，所述固定托块与所述密封箱固定连接，并位于所述密封箱的内部，所述铰接杆的一端与所述固定托块铰接连接，所述铰接杆的另一端与所述固定套环铰接连接，所述固定套环与所述喷气组件活动连接，并位于所述喷气组件的侧边。
[0008]其中，所述支撑组件还包括连接带，所述连接带的数量为两根，两根所述连接带分别设置于所述固定套环的侧边。
[0009]其中，所述支撑组件还包括连接套环，所述连接套环与所述连接带固定连接，并位于所述连接带的侧边。
[0010]其中，所述喷气组件包括气罐、泵体、连接管和喷头，所述气罐设置于所述密封箱的上方，所述泵体设置于所述气罐的侧边，所述连接管的一端与所述泵体的输出端固定连接，所述连接管的另一端插入所述密封箱，并与所述喷头连通，所述固定套环和所述连接套环均套设在所述喷头的外部。
[0011]其中，所述喷气组件还包括支撑框，所述支撑框与所述密封箱固定连接，并位于所述密封箱的上方，且所述支撑框套设在所述气罐的外部。
[0012]其中，所述净化组件包括排气管、注入管和水箱，所述排气管与所述密封箱连通，并位于所述密封箱的侧边，所述注入管的一端与所述排气管固定连接，所述注入管的另一端与所述水箱连通，所述水箱设置于所述密封箱的侧边。
[0013]本技术的一种半导体生产时的气体控制系统，通过所述底座对所述支撑柱进行支撑，所述支撑柱对所述支撑板进行支撑，所述支撑板将所述生产台进行支撑，所述生产台对所述密封箱进行支撑，所述支撑组件设置于所述密封箱的内部，所述喷气组件设置于所述密封箱的上方，能够对所述密封箱内部生产的半导体进行喷气，所述净化组件设置于所述密封箱的侧边，能够将其排出的毒气进行净化处理，在生产半导体时，需要对其生产的半导体进行喷气时，便将半导体放置在所述密封箱的内部，随后，便启动所述喷气组件，所述支撑组件便将所述喷气组件进行支撑，在所述支撑组件的所述固定托块设置于所述密封箱的内部，所述铰接杆的一端与所述固定托块铰接连接，所述固定托块便对所述铰接杆进行支撑，所述铰接杆的另一端便将所述固定套环进行支撑，从而所述固定套环便将所述喷气组件进行固定支撑，从而所述喷气组件进行准确的将气体喷射在生产半导体上，提高对半导体的生产。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1是本技术的一种半导体生产时的气体控制系统的结构示意图。
[0016]图2是本技术的一种半导体生产时的气体控制系统的侧视图。
[0017]图3是本技术的图2的A
‑
A线结构剖视图。
[0018]图4是本技术的图3的B处局部放大图。
[0019]1‑
底座、2
‑
支撑柱，3
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支撑板、4
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生产台、5
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密封箱、6
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支撑组件、7
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喷气组件、8
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净化组件、9
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固定托块、10
‑
铰接杆、11
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固定套环、12
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连接带、13
‑
连接套环、14
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气罐、15
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泵体、16
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连接管、17
‑
喷头、18
‑
支撑框、19
‑
排气管、20
‑
注入管、21
‑
水箱。
具体实施方式
[0020]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0021]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，在本技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0022]请参阅图1至图4，本技术提供了一种半导体生产时的气体控制系统，所述半导体生产时的气体控制系统包括底座1、支撑柱2，支撑板3、生产台4、密封箱5、支撑组件6、喷气组件7和净化组件8，所述支撑柱2与所述底座1固定连接，并位于所述底座1的上方，所述支撑板3与所述支撑柱2固定连接，并位于所述支撑柱2的上方，所述生产台4设置于所述支撑板3的上方，所述密封箱5设置于所述生产台4的上方，所述支撑组件6设置于所述密封箱5的内部，所述喷气组件7设置于所述密封箱5的上方，所述净化组件8设置于所述密封箱5的侧边；
[0023]所述支撑组件6包括固定托块9、铰接杆10和固定套环11，所述固定托块9与所述密封箱5固定连接，并位于所述密封箱5的内部，所述铰接杆10的一端与本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，所述半导体生产时的气体控制系统包括底座、支撑柱，支撑板、生产台、密封箱、支撑组件、喷气组件和净化组件，所述支撑柱与所述底座固定连接，并位于所述底座的上方，所述支撑板与所述支撑柱固定连接，并位于所述支撑柱的上方，所述生产台设置于所述支撑板的上方，所述密封箱设置于所述生产台的上方，所述支撑组件设置于所述密封箱的内部，所述喷气组件设置于所述密封箱的上方，所述净化组件设置于所述密封箱的侧边；所述支撑组件包括固定托块、铰接杆和固定套环，所述固定托块与所述密封箱固定连接，并位于所述密封箱的内部，所述铰接杆的一端与所述固定托块铰接连接，所述铰接杆的另一端与所述固定套环铰接连接，所述固定套环与所述喷气组件活动连接，并位于所述喷气组件的侧边。2.如权利要求1所述的半导体生产时的气体控制系统，其特征在于，所述支撑组件还包括连接带，所述连接带的数量为两根，两根所述连接带分别设置于所述固定套环的侧边。3.如权利要求2所述的半导体生产时的...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯辉，袁华伟，刘兵，常浩，
申请(专利权)人：瑞奥华科技工程成都有限公司，
类型：新型
国别省市：