一种真空发生机构、真空发生组件及抽气装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空发生机构、真空发生组件及抽气装置，所述真空发生机构用于安装在抽真空管道中，包括第一盘体、第二盘体以及中心连接体；所述中心连接体的内部设有文丘里通道，所述文丘里通道的进气端设有用于与外界连通的导气管；所述中心连接体的外部设有密封门和弹簧；所述第一盘体上设有第一气孔，所述第二盘体上设有第二气孔，在初始状态下，所述密封门封闭所述第一盘体的第一气孔，在工作状态下，所述密封门脱离所述第一盘体的第一气孔。该使抽真空压力的可控范围更大，同时也可降低抽气装置的能耗，在不更换抽气装置的情况下，即可增加平台可控压力的范围，进而支持工艺的可扩展性设计，实现工艺的多样性。实现工艺的多样性。实现工艺的多样性。

A vacuum generating mechanism, vacuum generating component and air extraction device

【技术实现步骤摘要】
一种真空发生机构、真空发生组件及抽气装置


[0001]本专利技术涉及半导体传输模块设备
，尤其是用于提高抽气装置性能的真空发生机构。本专利技术还涉及设有所述真空发生机构的真空发生组件及抽气装置。

技术介绍

[0002]目前，半导体芯片的加工大多是在真空环境下进行的，例如芯片在输送过程中需经过真空传输腔室，因此，真空传输腔室的压力是影响芯片质量的一个总要环节。
[0003]传统的传输腔室的压力控制方法主要包括：获取传输腔室内的当前压力值；对比传输腔室内的当前压力值与目标压力值；通过传输腔室压力值与进气阀的进气量和抽气阀的抽气量之间的对应关系，同时控制进气阀的进气量和抽气阀的抽气量，使得传输腔室内的当前压力值达到目标压力值。
[0004]该压力控制方法及系统，可以确保传输腔室在工艺过程及晶圆传送过程中压力几乎保持恒定，避免因压力波动带来参与气体及反应副产物倒流至传输腔室，从而更好的保护传输腔室避免腐蚀及其它侵害，且可以使得传输腔室在最短的时间内使得传输腔室内的当前压力值达到目标压力值，并使用最少的气体消耗。
[0005]但是，传输腔室内的压力能否达到更低，取决于进气量及抽气量的大小，若进气量已经足够少，而抽气装置能力不足时，则无法使传输腔室达到所需的压力。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种真空发生机构，以解决抽气装置可能无法达到平台所需压力的问题。
[0007]本专利技术的另一目的在于提供一种具有所述真空发生机构的真空发生组件。
[0008]本专利技术的又一目的在于提供一种设有所述真空发生机构或真空发生组件的抽气装置。
[0009]为实现上述目的，本专利技术提供一种真空发生机构，用于安装在抽真空管道中，包括平行且间隔设置的第一盘体和第二盘体，所述第一盘体与第二盘体之间设有中心连接体；所述中心连接体的内部设有文丘里通道，所述文丘里通道的进气端设有用于与外界连通的导气管；所述中心连接体的外部套装有能够轴向滑动的密封门，所述密封门与第二盘体之间设有弹簧，所述弹簧的一端抵接于所述密封门，所述弹簧的另一端抵接于所述第二盘体；所述第一盘体上设有第一气孔，所述第二盘体上设有第二气孔，在初始状态下，所述密封门封闭所述第一盘体的第一气孔，在工作状态下，所述密封门脱离所述第一盘体的第一气孔。
[0010]可选地，所述中心连接体与所述第一盘体一体成型，所述第二盘体通过螺纹结构连接于所述中心连接体的一端。
[0011]可选地，所述第一盘体的第一气孔和所述第二盘体的第二气孔为腰型孔。
[0012]可选地，所述密封门呈环片形。
[0013]可选地，所述文丘里通道包括小径端相向设置的第一锥形通道和第二锥形通道，
所述第二锥形通道的长度大于所述第一锥形通道。
[0014]为实现上述另一目的，本专利技术提供一种真空发生组件，包括管接头以及上述任一项所述的真空发生机构，所述管接头用于连接所述真空发生机构所安装的抽真空管道，所述导气管的一端与所述文丘里通道的进气端相连接，所述导气管的另一端穿出所述管接头与外界连通。
[0015]可选地，所述管接头为转向管接头，其具有呈角度的第一通道和第二通道，所述导气管为直管；所述导气管依次穿过所述抽真空管道的端口、所述管接头的第一通道、所述管接头的第二通道以及所述管接头第二通道的侧壁向外引出。
[0016]可选地，所述转向管接头为直角管接头，其具有相互垂直的第一通道和第二通道。
[0017]可选地，所述管接头为直线管接头；所述导气管为折弯管，具有呈角度的第一管段和第二管段；所述导气管的第一管段沿所述管接头通道的中心线延伸，所述导气管的第二管段穿过所述管接头通道的侧壁向外引出。
[0018]为实现上述又一目的，本专利技术提供一种抽气装置，包括抽气泵和连接于所述抽气泵的抽真空管道，所述抽真空管道设有上述任一项所述的真空发生机构，或者，所述抽真空管道设有上述任一项所述的真空发生组件。
[0019]本专利技术所提供的真空发生机构，主要由第一盘体、第二盘体和中心连接体组成，在使用时，可以通过第一盘体和第二盘体将真空发生机构安装在抽真空管道中，由于中心连接体的内部设有文丘里通道，当气体在文丘里通道中流动时，能够在真空发生机构的两端产生压力差，在压力差的作用下，可将真空发生机构的密封门打开，使气体更容易流入到抽气装置中，从而使抽气平台达到更低的压力，使抽真空压力的可控范围更大，同时也可降低抽气装置的能耗，在不更换抽气装置的情况下，即可增加平台可控压力的范围，进而支持工艺的可扩展性设计，实现工艺的多样性。
[0020]本专利技术所提供的真空发生组件和抽气装置设有所述真空发生机构，由于所述真空发生机构具有上述技术效果，则设有该真空发生机构的真空发生组件和抽气装置也应具有相应的技术效果。
附图说明
[0021]图1为本专利技术实施例公开的一种真空发生机构在初始状态下的剖切示意图；图2为图1所示真空发生机构在工作状态下的剖切示意图；图3为图1所示真空发生机构在抽真空管道中的安装示意图；图4为本专利技术实施例公开的一种真空发生组件的结构示意图；图5为本专利技术实施例公开的一种抽气装置的结构示意图。
[0022]图中：1.第一盘体
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1.第一气孔
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1.第二气孔
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2.第二盘体
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3.中心连接体
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4.文丘里通道
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5.密封门
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6.弹簧
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7.抽真空管道
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8.卡环9.卡槽
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10.管接头
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11.导气管
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12.抽气泵。
具体实施方式
[0023]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面结合附图和具体实施方式
对本专利技术作进一步的详细说明。
[0024]在本文中，“上、下、左、右”等用语是基于附图所示的位置关系而确立的，根据附图的不同，相应的位置关系也有可能随之发生变化，说明书文字有对方向定义的部分，优先采用文字定义的方向，因此，并不能将其理解为对保护范围的绝对限定；而且，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个与另一个具有相同名称的部件区分开来，而不一定要求或者暗示这些部件之间存在任何这种实际的关系或者顺序。
[0025]如图1、图2所示，在一种具体实施例中，本专利技术所提供的真空发生机构，用于安装在抽气装置的抽真空管道7中，其主要由第一盘体1、第二盘体2以及中心连接体3组成，其中，中心连接体3的内部设有前后贯通的文丘里通道4。
[0026]第一盘体1和第二盘体2分别呈圆盘形，两者相互平行且间隔一定距离，其外径与抽真空管道7的内径相适配，通过盘形结构，可以方便地将整个真空发生机构放入抽真空管道7中，为了提高密封性能，可以在第一盘体1和第二盘体2的外周部加装密封圈，通过密封圈与抽真空管道7内本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空发生机构，其特征在于，用于安装在抽真空管道中，包括平行且间隔设置的第一盘体和第二盘体，所述第一盘体与第二盘体之间设有中心连接体；所述中心连接体的内部设有文丘里通道，所述文丘里通道的进气端设有用于与外界连通的导气管；所述中心连接体的外部套装有能够轴向滑动的密封门，所述密封门与第二盘体之间设有弹簧，所述弹簧的一端抵接于所述密封门，所述弹簧的另一端抵接于所述第二盘体；所述第一盘体上设有第一气孔，所述第二盘体上设有第二气孔，在初始状态下，所述密封门封闭所述第一盘体的第一气孔，在工作状态下，所述密封门脱离所述第一盘体的第一气孔。2.根据权利要求1所述的真空发生机构，其特征在于，所述中心连接体与所述第一盘体一体成型，所述第二盘体通过螺纹结构连接于所述中心连接体的一端。3.根据权利要求1所述的真空发生机构，其特征在于，所述第一盘体的第一气孔和所述第二盘体的第二气孔为腰型孔。4.根据权利要求1所述的真空发生机构，其特征在于，所述密封门呈环片形。5.根据权利要求1所述的真空发生机构，其特征在于，所述文丘里通道包括小径端相向设置的第一锥形通道和第二锥形通道，所述第二锥形通道的长度大于所述第一锥形通道。6.一种真空发生组件，...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛沛泽，李慧，
申请(专利权)人：拓荆科技北京有限公司，
类型：发明
国别省市：