清洗装置制造方法及图纸

本公开提供了一种清洗装置，包括：工作台，用于承载待清洁工件；清洗部件，清洗部件的至少部分设置在工作台的上方，以使清洗部件处于工作状态，清洗部件用于向待清洁工件喷射清洁介质；防护组件，防护组件具有气体流通管件和与气体流通管件连通的气体喷出部，气体喷出部与工作台之间的最小距离小于清洗部件的清洁介质出口端与工作台之间的最小距离，以通过气体喷出部向清洗部件的下方吹出气流。本公开解决了现有技术中的在晶圆清洗之后容易导致晶圆质量降低的问题。圆质量降低的问题。圆质量降低的问题。

Cleaning device

【技术实现步骤摘要】
清洗装置


[0001]本公开涉及晶圆清洗
，具体而言，涉及一种清洗装置。

技术介绍

[0002]在晶圆加工的过程中，经常需要对晶圆进行清洗，以保证晶圆的清洁度。
[0003]现有技术中，通常利用特定的晶圆清洗机对晶圆进行清洗，在晶圆的上方引出清洁管，用于清洁晶圆的清洁介质通过清洁管道喷射在晶圆上，以达到对晶圆清洁的目的。
[0004]但是，在清洁结束且关闭清洁介质提供源头的时候，清洁管内残留的清洁介质会在自身重力作用下滴落到晶圆表面，对晶圆造成损坏，进而影响晶圆的质量。

技术实现思路

[0005]本专利技术的主要目的在于提供一种清洗装置，以解决现有技术中的在晶圆清洗之后容易导致晶圆质量降低的问题。
[0006]为了实现上述目的，根据本公开的一个方面，提供了一种清洗装置，包括：工作台，用于承载待清洁工件；清洗部件，清洗部件的至少部分设置在工作台的上方，以使清洗部件处于工作状态，清洗部件用于向待清洁工件喷射清洁介质；防护组件，防护组件具有气体流通管件和与气体流通管件连通的气体喷出部，气体喷出部与工作台之间的最小距离小于清洗部件的清洁介质出口端与工作台之间的最小距离，以通过气体喷出部向清洗部件的下方吹出气流。
[0007]进一步地，气体喷出部沿平行于工作台的支撑端面的方向延伸，气体喷出部绕第一预定轴线可转动地设置，以在清洗部件的下方形成防护气层体。
[0008]进一步地，防护组件还包括：供气管件，供气管件的一端与气体流通管件连通，通过气体流通管件向气体喷出部供应气体，供气管件的另一端与气源连通。
[0009]进一步地，气体流通管件绕自身轴线可转动地设置，通过气体流通管件带动气体喷出部转动。
[0010]进一步地，气体流通管件的转动速度为100～2000转/分钟。
[0011]进一步地，气体流通管件沿第一方向延伸，气体喷出部沿第二方向延伸，第一方向与第二方向之间具有夹角；第一方向为与工作台平面垂直的方向。
[0012]进一步地，气体喷出部包括气体喷嘴，气体喷嘴为多个，多个气体喷嘴沿气体流通管件的周向间隔均匀设置。
[0013]进一步地，气体喷出部包括多个出气孔，多个出气孔均设置在气体流通管件的管壁上，多个出气孔沿气体流通管件的周向间隔设置；其中，气体流通管件绕自身轴线可转动地设置。
[0014]进一步地，气体喷出部包括喷出口，喷出口设置在气体流通管件的管壁上，喷出口沿气体流通管件的周向方向延伸。
[0015]进一步地，气源供应的气体为氮气、惰性气体中的一种或多种。
[0016]进一步地，气源供应的气体流速为1～5升/分钟。
[0017]进一步地，清洗装置还包括：清洗腔室，工作台、清洗部件和防护组件均设置在清洗腔室内；排气管件，排气管件的一端设置在清洗腔室的内侧，排气管件的另一端设置在清洗腔室的外侧，通过排气管件将清洗腔室内的气流排出。
[0018]进一步地，排气管件为多个，在工作状态下，多个排气管件的位置不高于待清洁工件的上表面，且沿清洗腔室或工作台外围的周向间隔均匀设置。
[0019]应用本公开的技术方案，清洗装置在清洗待清洁工件的过程中，当清洁结束后且关闭清洁介质提供源头时，避免了用于流通清洁介质的管路内残留的清洁介质滴落到待清洁工件的表面，造成待清洁工件的表面的清洁介质的残留，利用本公开实施例中提供的清洗装置，提高了待清洁工件的质量，具体地，清洗装置包括工作台、清洗部件和防护组件，工作台用于承载待清洁工件，清洗部件的至少部分设置在工作台的上方，以使清洗部件处于工作状态，这样清洗部件由上至下向待清洁工件的表面喷射清洁介质，防护组件具有气体流通管件和与气体流通管件连通的气体喷出部，气体喷出部与工作台之间的最小距离小于清洗部件的清洁介质出口端与工作台之间的最小距离，以通过气体喷出部向清洗部件的下方吹出气流。这样在气体喷出部向清洗部件的下方吹出气流之后，在待清洁工件的上方和清洗部件的下方形成了一层防护气层体，以对待清洁工件进行防护，阻挡清洗部件内的清洁介质滴落到待清洁工件上。
附图说明
[0020]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0021]图1示出了根据本公开的清洗装置的第一实施例的结构示意图；
[0022]图2示出了根据本公开的清洗装置的第二实施例的结构示意图；以及
[0023]图3示出了根据本公开的清洗装置的连接组件的结构示意图。
[0024]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0025]100、待清洁工件；200、防护气层体；
[0026]1、工作台；2、清洗部件；20、介质管道；3、防护组件；30、气体喷出部；301、出气孔；31、气体流通管件；32、供气管件；5、连接组件；51、第一连接件；510、第一连通通道；52、第二连接件；520、第二连通通道；511、第一连接端面；512、滑槽；521、第二连接端面；522、凸出部；6、清洗腔室；7、排气管件。
具体实施方式
[0027]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术。
[0028]需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
[0029]请参考图1至图3，本申请提供了一种清洗装置，包括：工作台1，用于承载待清洁工
件100；清洗部件2，清洗部件2的至少部分设置在工作台1的上方，以使清洗部件2处于工作状态，清洗部件2用于向待清洁工件100喷射清洁介质；防护组件3，防护组件3具有气体流通管件31和与气体流通管件31连通的气体喷出部30，气体喷出部30与工作台1之间的最小距离小于清洗部件2的清洁介质出口端与工作台1之间的最小距离，以通过气体喷出部30向清洗部件2的下方吹出气流。
[0030]根据本公开提供的一种清洗装置，在清洗待清洁工件100的过程中，当清洁结束后且关闭清洁介质提供源头时，避免了用于流通清洁介质的管路内残留的清洁介质滴落到待清洁工件100的表面，造成待清洁工件100的表面的清洁介质的残留，利用本公开的清洗装置，提高了待清洁工件100的质量，具体地，清洗装置包括工作台1、清洗部件2和防护组件3，工作台1用于承载待清洁工件100，清洗部件2的至少部分设置在工作台1的上方，以使清洗部件2处于工作状态，这样清洗部件2由上至下向待清洁工件100的表面喷射清洁介质，防护组件3具有气体流通管件31和与气体流通管件31连通的气体喷出部30，气体喷出部30与工作台1之间的最小距离小于清洗部件2的清洁介质出口端与工本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：工作台，用于承载待清洁工件；清洗部件，所述清洗部件的至少部分设置在所述工作台的上方，以使所述清洗部件处于工作状态，所述清洗部件用于向所述待清洁工件喷射清洁介质；防护组件，所述防护组件具有气体流通管件和与所述气体流通管件连通的气体喷出部，所述气体喷出部与所述工作台之间的最小距离小于所述清洗部件的清洁介质出口端与所述工作台之间的最小距离，以通过所述气体喷出部向所述清洗部件的下方吹出气流。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述气体喷出部沿平行于所述工作台的支撑端面的方向延伸，所述气体喷出部绕第一预定轴线可转动地设置，以在所述清洗部件的下方形成防护气层体。3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述防护组件还包括：供气管件，所述供气管件的一端与所述气体流通管件连通，通过所述气体流通管件向所述气体喷出部供应气体，所述供气管件的另一端与气源连通。4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述气体流通管件绕自身轴线可转动地设置，通过所述气体流通管件带动所述气体喷出部转动。5.根据权利要求4所述的清洗装置，其特征在于，所述气体流通管件的转动速度为100～2000转/分钟。6.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述气体流通管件沿第一方向延伸，所述气体喷出部沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向之间具有夹角；所述第一方向为与所述工作台平面垂直的方向。7...

【专利技术属性】
技术研发人员：高佳，梅晓波，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：