一种半导体结构及存储器制造技术

技术编号:41524643 阅读:27 留言:0更新日期:2024-06-03 22:58
本公开实施例公开了一种半导体结构及存储器,其中,半导体结构包括:若干个存储结构和若干条连接导线;其中,若干个存储结构形成了P行Q列的阵列,其中,每行存储结构沿第一方向排布,每列存储结构沿第二方向排布;第一方向相交于第二方向;每个存储结构包括:若干个栅极结构和若干个半导体通道;每个半导体通道沿第二方向延伸;每个栅极结构包围对应的半导体通道的侧面;若干条连接导线对应连接若干个栅极结构,形成若干条字线;若干条字线,均沿第一方向延伸,或者,均沿第二方向延伸。本公开实施例能够减小芯片的面积,提高集成度。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及半导体领域,尤其涉及一种半导体结构及存储器


技术介绍

1、多数磁性随机存储器(mram)采用的驱动晶体管是平面晶体管。平面晶体管的尺寸很大,限制了磁性随机存储器密度的提升。因此,需要对磁性随机存储器的结构进一步优化,以提高集成度。


技术实现思路

1、有鉴于此,本公开实施例提供了一种半导体结构及存储器,能够减小芯片的面积,提高集成度。

2、本公开实施例的技术方案是这样实现的:

3、本公开实施例提供了一种半导体结构,所述半导体结构包括:若干个存储结构和若干条连接导线;其中,若干个存储结构形成了p行q列的阵列,其中,每行存储结构沿第一方向排布,每列存储结构沿第二方向排布;p和q均大于等于2;第一方向相交于第二方向;每个存储结构包括:若干个栅极结构和若干个半导体通道;每个半导体通道沿第二方向延伸;每个栅极结构包围对应的半导体通道的至少一个侧面;若干条连接导线对应连接若干个栅极结构,形成若干条字线;若干条字线,均沿第一方向延伸,或者,均沿第二方向延伸。

>4、上述方案中,在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:若干个存储结构和若干条连接导线;其中,

2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的半导体结构,其特征在于,每个所述存储结构还包括:一个源极结构;

4.根据权利要求3所述的半导体结构,其特征在于,每个所述存储结构包括的栅极结构的数量为两个;

5.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述半导体结构还包括:若干个存储元件;若干个所述存储元件对应连接若干个所述半导体通道的端部。

6.根据权利要求5所述的半导体结构,其特征在于,所述存储元件与所述半导体通道一一对...

【技术特征摘要】

1.一种半导体结构,其特征在于,包括:若干个存储结构和若干条连接导线;其中,

2.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的半导体结构,其特征在于,每个所述存储结构还包括:一个源极结构;

4.根据权利要求3所述的半导体结构,其特征在于,每个所述存储结构包括的栅极结构的数量为两个;

5.根据权利要求1所述的半导体结构,其特征在于,所述半导体结构还包括:若干个存储元件;若干个所述存储元件对应连接若干个所述半导体通道的端部。

6.根据权利要求5所述的半导体结构,其特征在于,所述存储元件与所述半导体通道一一对应;或者,

7.根据权利要求5所述的半导体结构,其特征在于,所述存储元件包括:磁隧道结mtj;所述磁隧道结mtj的固定层连接于所述半导体通道。

8.根据权利要求1所述的半导体...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓阳
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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