一种铬圆复合溅镀靶材制造技术

本实用新型专利技术公开了一种铬圆复合溅镀靶材，包括圆柱状的铬圆靶材基体和铜环，靶材基体对应溅射工作面的一面设置有直径变小的连接柱，连接柱采用热压过盈配合方式插入铜环中，铜环具有优秀的物理性能，能快速有效地在铜环的外壁加工出螺纹结构，提高了铬圆复合溅镀靶材加工良率；而且，纯铜的导热系数达到386.4W/(m

【技术实现步骤摘要】
一种铬圆复合溅镀靶材


[0001]本技术属于工业溅渡靶材
，涉及到一种铬圆复合溅镀靶材。

技术介绍

[0002]真空镀膜即物理气相沉积技术，具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点，近些年来得到快速的发展和工业化应用。金属铬具有优异的耐腐蚀性能，作为靶材用于真空镀膜所形成的膜层不仅具有优异的耐腐蚀性能，还可以形成氮化铬、碳化铬等陶瓷涂层而具有耐划伤的表面及陶瓷质感的外观。由于金属铬的膜层具有多种优异的性能，近些年作为靶材已广泛应用在各种金属制品、陶瓷制品及塑料制品表面镀膜上。金属铬是极硬的脆性金属，如果在底部一体加工适配的螺纹，加工难度大，对刀具要求高，还极易导致金属铬基体出现裂缝，铬圆复合溅镀靶材的加工良率不可控。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是：对铬圆复合溅镀靶材的结构进行改进，以实现提高铬圆复合溅镀靶材加工良率的目的。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案如下：
[0005]一种铬圆复合溅镀靶材，包括圆柱状的铬圆靶材基体和铜环，靶材基体的一面设置有圆形凹陷的溅射工作面，另一面设置有直径变小的连接柱，所述连接柱采用热压过盈配合方式插入所述铜环中，所述铜环的外壁加工有螺纹结构。
[0006]与现有技术相比，本技术具有的有益效果是：
[0007]1.纯铜的导热系数达到386.4W/(m
·
K)，导热系数远大于金属铬的导热系数，更易于靶材基体的传热和散热；
[0008]2.在加热状态下，铜环的膨胀系数较大，利于靶材基体和铜环的过盈配合连接，保证了基体与铜环之间的连接稳定性；
[0009]3.铜环具有优秀的物理性能，便于螺纹结构的加工，提高了铬圆复合溅镀靶材加工良率。
附图说明
[0010]为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0011]图1为溅镀靶材的结构示意图；
[0012]图2为溅镀靶材的结构示意图(另一种实施方式)。
具体实施方式
[0013]为了使本技术所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下
结合实施例，对本技术进行进一步的详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限制本技术。
[0014]实施例
[0015]图1中所示的溅镀靶材包括圆柱状的铬圆靶材基体10和铜环20，靶材基体10的一面设置有圆形凹陷的深度为2mm的溅射工作面11，另一面设置有直径变小的连接柱12。铜环20选择壁厚5mm左右的纯铜，先将连接柱12采用热压过盈配合方式插入铜环20中，再在铜环20的外壁加工出螺纹结构21。纯铜的膨胀系数较大，在加热状态下，膨胀系数会进一步增大，采用热压过盈配合方法连接靶材基体10与铜环20，保证了两者之间的连接稳定性，保证了靶材使用时的稳定性。纯铜具有优秀的物理性能，表面可以快速加工出螺纹结构21，提高了铬圆复合溅镀靶材加工良率和效率。
[0016]在镀膜应用过程中铜环20的底平面与冷却源接触，靶材基体10作为工作面接收溅射弧源的轰击，纯铜的导热系数达到386.4W/(m
·
K)，远大于金属铬的导热系数，更利于靶材基体10的及时传热和散热。
[0017]作为本实施例的改进，铜环20相对靶材基体10的一侧设置有将开口封闭的铜制或者铝制的封板30(参见图2)，铜环20与冷却源的接触面增加，提高了散热效率。优选地，封板30的端面上设置有插入铜环20内的凸柱40，此凸柱40与靶材基体10的连接柱12接触连接，增加了靶材基体10的热交换速度。
[0018]优选的，在凸柱40内填充有石墨烯材料50，石墨烯的热传导系数达到5300W/(m
·
K)，少量的石墨烯材料，便可以大幅度提高靶材基体10的散热速度，利于靶材基体10在溅射过程中弧源的稳定，避免形成过深的熔池。
[0019]作为本实施例的改进，铜环20的顶端面与靶材基体10之间具有3mm至5mm的间距，铬圆靶材基体10中高度不断降低的工作面始终不会与铜环20的顶部接触，以便于铜环20的回收利用。
[0020]对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本技术的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本技术将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铬圆复合溅镀靶材，其特征在于，包括圆柱状的铬圆靶材基体和铜环，靶材基体的一面设置有圆形凹陷的溅射工作面，另一面设置有直径变小的连接柱，所述连接柱采用热压过盈配合方式插入所述铜环中，所述铜环的外壁加工有螺纹结构。2.根据权利要求1所述的铬圆复合溅镀靶材，其特征在于，所述铜环的顶端面与所述靶材基体之间具有3mm的间距。3.根据权利要求1所述的铬圆...

【专利技术属性】
技术研发人员：臧龙杰，周俊荣，齐东淼，沈雷振，曾静，
申请(专利权)人：昆山世高新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：