一种粗抛用磨具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。本实用新型专利技术提供的粗抛用磨具，所述磨具通过设置大小不一的磨齿，使磨块既具有较大的磨抛速度，又能在粗抛的同时对砖面凹陷位进抛光，提高磨抛的效率和精度，为后续的中抛和精抛提供更为平整的砖面。同时，相邻排磨齿设置错位的纵向排水槽，能使磨块具有一定的保水量，进而能避免磨块过热，提高磨块的使用寿命。块的使用寿命。块的使用寿命。

An abrasive tool for rough polishing

【技术实现步骤摘要】
一种粗抛用磨具


[0001]本技术涉及瓷砖生产
，特别涉及一种粗抛用磨具。

技术介绍

[0002]瓷砖抛光是瓷砖生产过程中的工序之一，一般的抛光工序包括粗抛、中抛和精抛，粗抛工序主要针对表面平整度不好的砖面，通过粗抛，将表面凹凸不平进行打磨，变成较为平整的表面，然后再通过中抛和精抛，使砖面达到一定的光泽度，满足消费者的需要。现有抛光机中，粗抛、中抛和精抛均采用如图4所示结构的磨具，区别仅在于磨块细腻程度的不同。通常，粗抛采用的磨块材质较粗，具有较大的摩擦力，从而快速的将砖面磨平。而中抛和精抛采用材质较细腻的磨块，可实现精细抛光，以达到使砖面更亮的作用。图4所示的磨具磨块，磨齿大小相同，且分布均匀，针对表面平整度较佳的砖面，比较适合，但是对于粗抛的砖面，由于平整度差，磨齿大小均匀的磨块，其抛光效率反而下降，由于无法同时对凸位和凹陷位进行抛光，使得抛光效率降低。现有技术中，为了提高粗抛的速度，通常会加粗磨块的材质，但是磨块材质过粗时，容易形成划痕，反而会导致砖面不平整。
[0003]可见，现有技术还有待改进和提高。

技术实现思路

[0004]鉴于上述现有技术的不足之处，本技术的目的在于提供一种粗抛用磨具，旨在解决现有磨具在抛光较粗糙砖面时抛光效率低，且无法同时抛光砖面凸起位和凹陷位的缺陷。
[0005]为了达到上述目的，本技术采取了以下技术方案：
[0006]一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，其中，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。
[0007]所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形结构的磨齿，所述第二磨齿为正方形结构的磨齿，并且第一磨齿的顶面面积大于第二磨齿的顶面面积。
[0008]所述粗抛用磨具中，所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形结构的磨齿，所述第二磨齿为三角形结构的磨齿，所述第二磨齿所在排形成倾斜的排水槽。
[0009]所述粗抛用磨具中，所述胶垫对应第二磨齿的位置设有凸柱，所述磨块对应凸柱的位置设有凹孔，所述凸柱与凹孔插接。
[0010]所述粗抛用磨具中，所述磨齿还包括设置于磨块头部的梯形磨齿。
[0011]所述粗抛用磨具中，所述磨齿的顶面边沿均为弧边。
[0012]所述粗抛用磨具中，所述基底和磨齿一体成型。
[0013]有益效果：
[0014]本技术提供了一种粗抛用磨具，所述磨具通过设置大小不一的磨齿，使磨块既具有较大的磨抛速度，又能在粗抛的同时对砖面凹陷位进抛光，提高磨抛的效率和精度，
为后续的中抛和精抛提供更为平整的砖面。同时，相邻排磨齿设置错位的纵向排水槽，能使磨块具有一定的保水量，进而能避免磨块过热，提高磨块的使用寿命。
附图说明
[0015]图1为本技术提供的磨块的正视结构示意图。
[0016]图2为第二磨齿为三角状的磨块的正视结构示意图。
[0017]图3为磨具的仰视结构示意图。
[0018]图4为现有磨块的正视结构示意图。
[0019]附图中标注：1
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夹持部，2
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胶垫，3
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磨块，4
‑
磨齿，5
‑
第一磨齿，6
‑ꢀ
第二磨齿，7
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纵向排水槽，8
‑
横向排水槽，9
‑
倾斜的排水槽，10
‑
弧边，11
‑ꢀ
凸柱，12
‑
凹孔，13
‑
梯形磨齿，14
‑
基底。
具体实施方式
[0020]本技术提供一种粗抛用磨具，为使本技术的目的、技术方案及效果更加清楚、明确，以下参照附图并举实施例对本技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0021]在本技术实施方式的描述中，需要说明的是，术语“内”、“外”、“上”“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0022]请参阅图1
‑
3，本技术提供一种粗抛用磨具，所述粗抛用磨具用于瓷砖抛光时的粗抛工序，特别适用于不平整砖面的粗抛。所述磨具包括夹持部1、胶垫2及磨块3，所述夹持部1与胶垫2、胶垫2与磨块3均通过胶粘粘结固定，所述夹持部1用于将模具固定连接于抛光机的磨盘上，所述胶垫2具有弹性，可起到缓冲作用，特别是对于表面不平整的砖面，能使各磨齿4更好的贴合砖面，提高抛光效率和延长磨块使用寿命，所述磨块3用于磨抛砖面，使砖面更为平整。
[0023]具体的，如图1、图2所示，所述磨块3包括基底14和设置于基底上的若干排磨齿4，所述磨齿4凸出于基底上，磨齿4的上表面与砖面接触，通过磨齿4与砖面的摩擦作用，将砖面凹凸不平处磨平，起到抛光的作用。所述基底与磨齿4一体成型，因此便于磨齿4固定于胶垫2上。所述磨齿4 包括大小和形状不同的第一磨齿5和第二磨齿6，并且同一排的磨齿4形状和大小相同，而相邻两排的磨齿4大小和形状不同，从而使得，当遇到不平整的砖面时，较大的磨齿4能快速的将凸起磨平，具有较快的磨抛速度，同时，在较大磨齿被砖面凸位抵住，使胶垫凹陷时，尺寸较小的磨齿4仍能伸入砖面凹陷位进行磨抛，避免磨齿4空磨的现象出现，提高磨抛的效率，同时也能使凹陷位在粗抛时就具有光亮度。
[0024]具体的，如图1所示，同排相邻两个磨齿4之间形成纵向排水槽7，而相邻两排摩齿形成横向排水槽8，所述横向排水槽8与纵向垂直交叉，并且相邻两排的纵向排水槽7错位。所述排水槽用于排出冷却水和磨渣，排出的冷却水能带着热量，使磨块3冷却，提高磨块3使
用寿命，同时通过排水槽将磨渣及时排出，避免磨渣干扰磨抛，损坏磨齿4或在砖面形成划痕。但是，当排水槽的水太易被离心力算甩出时，易导致磨齿4与砖面之间无水的情况，当无水时，磨齿4与砖面之间的摩擦力会迅速增大，进而使磨齿4易磨损，使用寿命大大降低，并且没有水进行冷却，易烧坏磨块。设置相邻两排的纵向排水槽7错位，可减缓纵向排水槽7的排水作用，使磨齿4与砖面之间保有一定的水量，进而降低摩擦力和温度，延长磨块3的使用寿命。
[0025]作为一种实施方式，如图1所示，所述第一磨齿5为长方形形状，所述第二磨齿6为正方形形状，并且，第一磨齿5的长边边长大于第二磨齿6 的边长，第一磨齿5的短边边长等于第二磨齿6的边长，因此第一磨齿5 的顶面面积大于第二磨齿的顶面面积，并使磨块表面的磨齿为大小本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粗抛用磨具，包括夹持部、胶垫及磨块，其特征在于，所述磨块包括基底和设置于基底上的磨齿，所述磨齿成排排列，相邻两排磨齿的大小和形状不同，并且相邻两排磨齿之间形成的纵向排水槽错位。2.根据权利要求1所述的粗抛用磨具，其特征在于，所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形结构的磨齿，所述第二磨齿为正方形结构的磨齿，并且第一磨齿的顶面面积大于第二磨齿的顶面面积。3.根据权利要求1所述的粗抛用磨具，其特征在于，所述磨齿包括第一磨齿和第二磨齿，所述第一磨齿为长方形...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏芳平，秦有明，
申请(专利权)人：佛山市博扬超硬材料有限公司，
类型：新型
国别省市：