一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构制造技术

本实用新型专利技术提供一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，包括：用于限位直拉法硅单晶生产炉台副室与副室隔离仓的自动定位装置。本实用新型专利技术的有益效果是减小了定位误差，实现副室自动定位功能，减少人员劳动操作，同时实现了副室自动下降，避免定位磨损产生的金属碎屑，影响单晶品质。影响单晶品质。影响单晶品质。

【技术实现步骤摘要】
一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构


[0001]本技术属于半导体设备，尤其是涉及一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构。

技术介绍

[0002]现有技术中单晶生产炉台用机械限位来实现定位功能，限位位置调节不准确及长时间运行旋转副室，导致限位存在误差，无法实现副室自动下降功能且存在副室下降过程中磨损副室定位销产生金属碎屑，掉入炉内导致单晶成品寿命低。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的问题是提供一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，有效的解决定位误差大，无法自动下降，存在磨损且产生金属碎屑，影响单晶品质。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用的技术方案是：一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，包括：用于限位直拉法硅单晶生产炉台副室与副室隔离仓的自动定位装置。
[0005]优选地，所述自动定位装置包括限位所述副室与所述副室隔离仓的红外装置，设置在所述副室与所述副室隔离仓上。
[0006]优选地，所述红外装置包括红外接收器和红外发射器，所述副室顶部至少一侧设置所述红外接收器或所述红外发射器；所述副室隔离仓顶部至少一侧设置所述红外发射器或所述红外接收器。
[0007]优选地，所述红外装置还包括一第一控制模块，所述第一控制模块判断所述红外发射器发射的红外射线是否在所述红外接收器的中心点上；所述红外射线打在所述红外接收器的中心点上，所述副室自动下降；所述红外射线不在所述红外接收器的中心点上，所述第一控制模块控制旋转电机旋转所述副室，直至所述红外射线打至所述红外接收器的中心点，所述副室自动下降。
[0008]优选地，所述自动定位装置还包括限位所述副室的基准装置，所述基准装置设置在所述副室与所述副室隔离仓的一旁。
[0009]优选地，所述基准装置包括底座、支撑杆、伸缩杆和圆环，用于固定整个装置的所述底座设置在所述副室与所述副室隔离仓的一旁；支撑所述圆环和所述伸缩杆的所述支撑杆设置在所述底座上；调整所述圆环位置的所述伸缩杆设置在所述支撑杆的顶端；限位所述副室的所述圆环设置在所述伸缩杆的一端。
[0010]优选地，所述基准装置还包括第二控制模块，所述第二控制模块控制所述副室是否对准所述圆环；所述副室对准所述圆环，所述副室自动下降；所述副室没有对准所述圆环，所述第二控制模块控制所述旋转电机旋转所述副室，直至所述副室对准所述圆环，所述副室自动下降。
[0011]由于使用一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，减小了定位误差，实现
副室自动定位功能，减少人员劳动操作，同时实现了副室自动下降，避免定位磨损产生的金属碎屑，影响单晶品质。
附图说明
[0012]图1是本技术实施例的一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构红外装置示意图
[0013]图2是本技术实施例的一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构基准装置示意图
[0014]图中：
[0015]1、红外接收器
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2、副室
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3、红外射线
[0016]4、红外发射器
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5、副室隔离仓
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6、第一控制模块
[0017]7、底座
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8、支撑杆
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9、伸缩杆
[0018]10、圆环
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11、第二控制模块
具体实施方式
[0019]下面结合实施例和附图对本技术作进一步说明：
[0020]在本技术实施例的描述中，需要理解的是，术语“顶部”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0021]本技术的一个实施例中，一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，包括：用于限位直拉法硅单晶生产炉台副室与副室隔离仓的自动定位装置。
[0022]如图1一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构红外装置示意图所示，所述自动定位装置包括限位副室2与副室隔离仓5的红外装置，焊接在所述副室2与副室隔离仓5上。红外装置包括红外接收器1和红外发射器4，副室2顶部一侧焊接所述红外接收器1；副室隔离仓5顶部与副室2同一侧焊接所述红外发射器4。红外装置还包括第一控制模块5，所述第一控制模块5判断所述红外发射器4发射的红外射线3是否在红外接收器1的中心点上；当红外射线3打在红外接收器1的中心点上，副室2自动下降；当红外射线3不在红外接收器1的中心点上时，第一控制模块5控制旋转电机旋转副室2，直至红外射线3打至红外接收器1的中心点，副室2自动下降。
[0023]本技术另一实施例中，如图2一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构基准装置示意图所示，自动定位装置还包括限位副室2的基准装置，所述基准装置设置在副室2与副室隔离仓5的一旁。所述基准装置包括底座7、支撑杆8、伸缩杆9和圆环10，用于固定整个装置的底座7设置在副室2与副室隔离仓5的一旁；支撑所述圆环10和伸缩杆9的支撑杆8焊接在底座7上；调整圆环10位置的伸缩杆9焊接在支撑杆8的顶端；限位副室2的圆环10焊
接在伸缩杆9的一端。基准装置还包括第二控制模块11，所述第二控制模块11控制副室2是否对准圆环10；当副室2对准圆环10时，副室2自动下降；当副室2没有对准圆环10时，第二控制模块11控制旋转电机旋转副室2，直至副室2对准圆环10，副室2自动下降。
[0024]本技术的另一实施例中，所述自动定位装置包括限位副室2与副室隔离仓5的红外装置，焊接在所述副室2与副室隔离仓5上。红外装置包括红外接收器1和红外发射器4，副室2顶部一侧焊接所述红外发射器1；副室隔离仓5顶部与副室2同一侧焊接所述红外接收器4。
[0025]本技术另一实施例中，所述自动定位装置包括限位副室2与副室隔离仓5的红外装置，焊接在所述副室2与副室隔离仓5上。红外装置包括红外接收器1和红外发射器4，副室2顶部两侧焊接所述红外发射器1；副室隔离仓5顶部两侧焊接所述红外接收器4。
[0026]以上对本技术的多个实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本技术的较佳实施例，不能被认为用于限定本技术的实施范围。凡依本技术申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本技术的专利涵盖范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，其特征在于，包括：用于限位直拉法硅单晶生产炉台副室与副室隔离仓的自动定位装置；所述自动定位装置包括限位所述副室与所述副室隔离仓的红外装置和控制所述红外装置的第一控制模块，所述红外装置设置在所述副室与所述副室隔离仓上，所述第一控制模块设置在所述副室隔离仓底部。2.根据权利要求1所述的一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，其特征在于：所述红外装置包括红外接收器和红外发射器，所述副室顶部至少一侧设置所述红外接收器或所述红外发射器；所述副室隔离仓顶部至少一侧设置所述红外发射器或所述红外接收器。3.根据权利要求2所述的一种直拉法硅单晶生产炉台副室自动定位机构，其特征在于：所述第一控制模块判断所述红外发射器发射的红外射线是否在所述红外接收器的中心点上；所述红外射线打在所述红外接收器的中心点上，所述副室自动下降；所述红外射线不在所述红外接收器的中心点上，所述第一控制模块控制旋转电机旋转所述副室，直至所述红外射线打至所述红...

【专利技术属性】
技术研发人员：景吉祥，郭谦，张文霞，王林，高润飞，
申请(专利权)人：内蒙古中环协鑫光伏材料有限公司，
类型：新型
国别省市：