一种接头组件、过渡腔体及镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种接头组件、过渡腔体及镀膜设备，涉及化学气相沉积技术领域。接头组件包括进气接头和耗散单元，进气接头的出气端与耗散单元相连；耗散单元内设有至少一个耗散腔，耗散腔的内壁具有进气侧和出气侧，进气侧开设有进气孔，出气侧开设有出气孔，且出气孔与进气孔错位设置。回填气体进入进气接头后，通过进气孔进入耗散腔。由于出气孔与进气孔错位设置，故进入耗散腔的气流无法直接从出气孔排出，而是先冲击在出气侧，形成紊流。此时，气流的能量在耗散腔内消耗，耗散腔内的气压高于耗散单元外部，从而降低回填气体的冲击力，有效地减少扬尘，提高晶圆的表面质量，同时防止晶圆被吹起，进而避免晶圆掉落和磕伤。进而避免晶圆掉落和磕伤。进而避免晶圆掉落和磕伤。

【技术实现步骤摘要】
一种接头组件、过渡腔体及镀膜设备


[0001]本技术涉及化学气相沉积
，尤其涉及一种接头组件、过渡腔体及镀膜设备。

技术介绍

[0002]在化学气相沉积领域，对晶圆表面质量的控制尤为重要。除了沉积工艺的表面质量控制外，晶圆传输过程中的质量控制也起关键作用。拥有洁净的传输环境是量产型工艺和科研型工艺设备的重要条件。
[0003]现有的MOCVD(Metal
‑
organic Chemical Vapor Deposition，金属有机化合物化学气相沉淀)设备中往往设置有过渡腔，在晶圆传输到反应腔和晶圆从反应腔传输到其他工艺节点的过程中作为过渡。与反应腔相比，过渡腔的体积大大减小，其抽真空和回填速度大大加快，有效地降低了反应腔抽真空和回填的时间，且过渡腔能够起到隔绝反应腔与大气的作用，避免反应腔被外部大气污染。总之，设置过渡腔后，对反应腔的污染控制转移到对过渡腔的污染控制。
[0004]在设备使用过程中，需要将过渡腔打开以取放晶圆，并在关闭过渡腔后对过渡腔进行抽真空和充气回填(如高纯氮气)操作。打开过渡腔时，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种接头组件，其特征在于，包括进气接头和耗散单元，所述进气接头的出气端与所述耗散单元相连；所述耗散单元内设有至少一个耗散腔，所述耗散腔的内壁具有进气侧和出气侧，所述进气侧开设有进气孔，所述进气孔用于将所述耗散腔与所述进气接头连通，所述出气侧开设有出气孔，且所述出气孔与所述进气孔错位设置，以使进入所述耗散腔的气流冲击在所述出气侧并形成紊流。2.根据权利要求1所述的接头组件，其特征在于，所述耗散单元包括内管和外管；所述内管与所述进气接头相连，所述外管套于所述内管上，以在所述外管与所述内管之间形成所述耗散腔；所述进气孔开设在所述内管的管壁上，所述出气孔开设在所述外管的管壁上。3.根据权利要求2所述的接头组件，其特征在于，所述进气孔和所述出气孔均设有至少两组，同组的所述进气孔沿所述内管的轴向排列，同组的所述出气孔沿所述外管的轴向排列，且所述进气孔和所述出气孔沿所述内管的周向交替设置。4.根据权利要求1所述的接头...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亮辉，肖蕴章，经军辉，徐鑫，黄帅帅，刘佳明，陈炳安，钟国仿，
申请(专利权)人：深圳市纳设智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：