【技术实现步骤摘要】
密封件镀膜设备及其镀膜方法
[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种密封件镀膜设备及其镀膜方法。
技术介绍
[0002]密封件是用途广泛的器件，在医药应用领域，密封件可以用于封装药品，其类型众多，包括胶塞、瓶盖等；可用于密封各类疫苗、注射剂、生物制剂、抗生素、输液、血液、抗肿瘤药物等等，由于密封件是直接接触容器内药品的包装材料，导致密封件和药品之间发生活性成分的迁移，吸附甚至发生化学反应，使药物失效，有的还会产生严重的副作用。
[0003]为了保证药品运输和保存的安全性与稳定性，需要改善密封件与药品之间的相容共存性能，常用技术手段是在密封件表面上添加一层化学稳定且低离子迁移率的保护膜，可以很好地缓解这一现象，加工方法一般采用涂膜、覆膜、镀膜，效果较好的方式是采用化学气相沉积(CVD)在密封件表面沉积一层固体薄膜层，相比于涂膜和覆膜，该工艺更简单、不容易破膜、产品只需要抽样质检、适用于各种复杂形状的密封件。
[0004]目前，在密封件的制造过程中，为了能完美符合容器的形状，通常利用模具对密封件进行...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种密封件镀膜设备，其特征在于，包括：固定装置，清洁腔室和镀膜腔室；其中，所述清洁腔室设置有第一真空泵和等离子体离子源，所述镀膜腔室设置有第二真空泵和化学气相沉积系统；所述固定装置用于固定多个密封件，以及将所述密封件整体从清洁腔室转移到镀膜腔室内；所述第一真空泵用于对清洁腔室进行抽真空，所述等离子体离子源用于在真空环境下产生等离子体对所述固定装置上的密封件表面进行清洁；所述第二真空泵用于对镀膜腔室进行抽真空，所述化学气相沉积系统在真空环境下采用化学气相沉积工艺对镀膜腔室中所述固定装置上的密封件表面进行镀膜。2.根据权利要求1所述的密封件镀膜设备，其特征在于，所述清洁腔室与镀膜腔室通过第一阀门连通；所述第一阀门用于连通或关闭清洁腔室与镀膜腔室；在所述清洁腔室和镀膜腔室内还分别设有第一传送带和第二传送带，所述第一传送带和第二传送带用于将所述固定装置及密封件从清洁腔室转移到镀膜腔室。3.根据权利要求2所述的密封件镀膜设备，其特征在于，还包括：连接所述清洁腔室的上料腔室；其中，所述上料腔室与清洁腔室通过第二阀门连通，所述上料腔室还设有第三传送带；所述上料腔室还设有第三真空泵；所述第三真空泵用于在上料完成后对上料腔室进行抽真空；所述上料腔室用于放置所述固定装置以对生产的密封件进行上料；所述第三传送带和第一传送带用于在真空环境下将固定装置及密封件从上料腔室转移到清洁腔室。4.根据权利要求3所述的密封件镀膜设备，其特征在于，还包括：连接所述镀膜腔室的下料腔室；其中，所述下料腔室与镀膜腔室通过第三阀门连通，所述下料腔室还设有放气阀和第四传送带；所述下料腔室用于对所述固定装置上已完成镀膜的密封件进行下料；所述放气阀用于改变下料腔室内的压强，将下料腔室从真空状态切换至大气压状态；所述第四传送带和第二传送带用于在真空环境下将固定装置及密封件从镀膜腔室转移到下料腔室。5.根据权利要求3所述的密封件镀膜设备，其特征在于，还包括：上下料腔室；其中，所述上下料腔室与清洁腔室通过第二阀门连通，与镀膜腔室通过第三阀门连通；所述上下料腔室还设有第三传送带和第四传送带；所述上下料腔室还设有第三真空泵和放气阀；所述上下料腔室用于放置所述固定装置以对生产的密封件进行上料以及对所述固定装置上已完成镀膜的密封件进行下料；所述第三真空泵用于在上料完成后对上下料腔室进行抽真空；所述放气阀用于改变上下料腔室内的压强，将上下料腔室从真空状态切换至大气压状态；所述第三传送带和第一传送带用于在真空环境下将固定装置及密封件从上下料腔室转移到清洁腔室，所述第四传送带和第二传送带用于在真空环境下将固定装置及密封件从镀膜腔室转移到上下料腔室。6.根据权利要求1所述的密封件镀膜设备，其特征在于，所述固定装置包括：支撑架以
及多个预制的置板；所述置板用于对密封件集成板的密封件进行固定和遮挡非镀膜部位...
【专利技术属性】
技术研发人员：朱昆，颜学庆，曹健辉，刘玮，马伟，曹祯烨，陈惠君，杜翰翔，李冬娜，刘晓兰，
申请(专利权)人：等离子体装备科技广州有限公司广东省新兴激光等离子体技术研究院，
类型：发明
国别省市：
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