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本申请涉及一种密封件镀膜设备及其镀膜方法，所述密封件镀膜设备包括：固定装置，清洁腔室和镀膜腔室；其中，清洁腔室设置有第一真空泵和等离子体离子源，镀膜腔室设置有第二真空泵和化学气相沉积系统；固定装置用于固定多个密封件，以及将密封件整体从清洁腔...该专利属于等离子体装备科技（广州）有限公司广东省新兴激光等离子体技术研究院所有，仅供学习研究参考，未经过等离子体装备科技（广州）有限公司广东省新兴激光等离子体技术研究院授权不得商用。