密封件镀膜方法及密封件制备方法技术

本申请涉及一种密封件镀膜方法及密封件制备方法，所述的密封件镀膜方法，包括：对基于成型工艺生产的密封件进行上料；将上料好的密封件放入清洁腔室；在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁；在清洁完成后，将所述密封件从所述清洁腔室转移到镀膜腔室；在镀膜腔室处于真空环境下，利用化学气相沉积工艺对所述密封件的镀膜部位表面进行镀膜；该技术方案，能够有效地清除密封件成型过程中残留的有机溶剂等，避免了清洗和烘干耗时长的影响，极大地提高了镀膜效率；而且能够提升薄膜沉积的膜层质量。而且能够提升薄膜沉积的膜层质量。而且能够提升薄膜沉积的膜层质量。

【技术实现步骤摘要】
密封件镀膜方法及密封件制备方法


[0001]本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种密封件镀膜方法及密封件制备方法。

技术介绍

[0002]密封件是用途广泛的器件，在医药应用领域，密封件可以用于封装药品，其类型众多，包括胶塞、瓶盖等；可用于密封各类疫苗、注射剂、生物制剂、抗生素、输液、血液、抗肿瘤药物等等，由于密封件是直接接触容器内药品的包装材料，会导致密封件和药品之间发生活性成分的迁移，吸附甚至发生化学反应，使药物失效，有的还会产生严重的副作用。
[0003]为了保证药品运输和保存的安全性与稳定性，需要改善密封件与药品之间的相容性，常用技术手段是在密封件表面上添加一层化学稳定且低离子迁移率的保护膜，加工方法一般采用涂膜、覆膜、镀膜，效果较好的方式是采用化学气相沉积(CVD)在密封件表面沉积一层固体薄膜层，相比于涂膜和覆膜，该工艺更简单、不容易破膜；产品只需要抽样质检；适用于各种复杂形状的密封件。
[0004]目前，在密封件的制造过程中，为了能完美符合容器的形状，通常利用模具对密封件进行压制定型，为了便于脱模，往往采用有机溶剂，如脱模剂硅油，由于有机溶剂会降低膜层的附着力，必须在镀膜前将密封件清洗干净，一般都采用清洁剂来对密封件进行清洗，然后烘干，再进行上料和镀膜，镀膜后清洗干净方可使用，由于密封件的清洗和烘干过程耗时长，导致密封件的生产效率较低，而且，清洗不干净和烘干不充分也会影响镀膜效果。

技术实现思路

[0005]本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷，提供一种密封件镀膜方法及密封件制备方法，以提高密封件的镀膜效果，提升密封件的生产效率。
[0006]一种密封件镀膜方法，包括：
[0007]对基于成型工艺生产的密封件进行上料；
[0008]将上料好的密封件放入清洁腔室；
[0009]在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁；
[0010]在清洁完成后，将所述密封件从所述清洁腔室转移到镀膜腔室；
[0011]在镀膜腔室处于真空环境下，利用化学气相沉积工艺对所述密封件的镀膜部位表面进行镀膜。
[0012]在一个实施例中，所述对基于成型工艺生产的密封件进行上料，包括：
[0013]将基于硫化成型工艺生产的密封件制作成由多个密封件排列而成的密封件集成板；
[0014]在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件进行固定和遮挡非镀膜部位；
[0015]将固定有密封件集成板的多个置板以层叠方式固定到支撑架上。
[0016]在一个实施例中，所述密封件为胶塞；所述密封件集成板为由多个胶塞排列而成
且塞冠相邻的胶塞集成板；
[0017]所述在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件的非镀膜部位进行遮挡和对密封件集成板进行固定，包括：
[0018]将两个胶塞集成板对应塞冠一侧叠放在一起；
[0019]分别在两个胶塞集成板的各个胶塞的塞颈一侧套入开设有胶塞通孔阵列的置板；其中，每个胶塞分别对应置板上的一个胶塞通孔，胶塞通孔大于塞颈，使得置板遮挡胶塞的塞冠和塞边，露出塞颈和塞沿；
[0020]利用螺栓螺母将两个置板固定为一体。
[0021]在一个实施例中，所述密封件为橡胶垫片；所述密封件集成板为由多个橡胶垫片排列而成的垫片集成板；
[0022]所述在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件进行固定和遮挡非镀膜部位，包括：
[0023]将两个垫片集成板对应不需要镀膜的一侧叠放在一起；
[0024]分别在垫片集成板需要镀膜的两侧放置开设有垫片通孔阵列的置板；其中，每个橡胶垫片对应置板上的一个垫片通孔，垫片通孔的镂空区域对应为橡胶垫片需要镀膜区域；
[0025]利用螺栓螺母将两个置板固定为一体。
[0026]在一个实施例中，所述利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁，包括：
[0027]向清洁腔室通入清洁气体并开启等离子体离子源产生等离子体；
[0028]利用所述等离子体轰击所述密封件的镀膜部位；
[0029]调节清洁气体的气压和施加偏压，清除所述密封件的镀膜部位表面残留的有机溶剂并在所述密封件的镀膜部位表面形成刻蚀痕迹。
[0030]在一个实施例中，所述利用化学气相沉积工艺对所述密封件的镀膜部位表面进行镀膜，包括：
[0031]将原料室内的镀膜原料在高温低真空条件下升华，并从固体升华成气体；
[0032]通过气压差将升华后的气体输入相对低压的裂解室，在更高温度和更低气压下，裂解形成活性单体气体；
[0033]将所述活性单体气体输入镀膜腔室，将所述单体气体沉积至各个密封件裸露的表面，逐步聚合和结晶形成线性高分子聚合物。
[0034]在一个实施例中，所述将所述密封件从所述清洁腔室转移到镀膜腔室，包括：
[0035]打开所述清洁腔室与镀膜腔室之间的阀门，通过传送带将所述密封件从清洁腔室转移到镀膜腔室，并关闭所述清洁腔室与镀膜腔室之间的阀门；
[0036]其中，清洁腔室和镀膜腔室通过阀门进行连通和真空隔离，且清洁腔室和镀膜腔室分别内置有传送带。
[0037]在一个实施例中，在将上料好的密封件放入清洁腔室之前，还包括：
[0038]将上料好的所述密封件放入上料腔室，并对所述上料腔室进行抽真空；
[0039]所述将上料好的密封件放入清洁腔室，包括：
[0040]打开所述上料腔室与清洁腔室之间的阀门，通过传送带将所述密封件从上料腔室转移到清洁腔室，并关闭所述上料腔室与清洁腔室之间的阀门；
[0041]在镀膜完成后，还包括：
[0042]打开镀膜腔室与下料腔室之间的阀门，通过传送带将固定装置及密封件从镀膜腔室转移到下料腔室，并关闭镀膜腔室与下料腔室之间的阀门；
[0043]其中，上料腔室与清洁腔室通过阀门进行连通和真空隔离，镀膜腔室和下料腔室通过阀门进行连通和真空隔离；且上料腔室和下料腔室别内置有传送带。
[0044]上述密封件镀膜方法，在镀膜过程中，在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对密封件的表面进行清洁，能够有效地清除密封件在成型工艺过程中残留的有机溶剂等杂质，避免了清洗和烘干耗时长的影响，极大地提高了镀膜效率；同时，利用等离子体对密封件表面处理以增强分子化学活力，增大密封件表面的镀膜部位的面积，能够显著提升薄膜沉积的膜层质量。
[0045]进一步的，设计了包括支撑架和多个置板的固定装置，将密封件制作成密封件集成板，利用预制的置板对密封件集成板的密封件表面的非镀膜部位进行遮挡和对密封件集成板进行固定，多个密封件集成板固定到支撑架上进行镀膜，可以方便地对密封件进行大规模的局部镀膜，提升了整体镀膜效率。
[0046]更进一步的，设计了上料腔室、清洁腔室、镀膜腔室和下料腔室构成的连续腔室来进行镀膜，各个腔室通过阀门进行连通和真空隔离，并通过传送带在腔室之间进行移动，实现了全自动化的流水线作业，显著本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封件镀膜方法，其特征在于，包括：对基于成型工艺生产的密封件进行上料；将上料好的密封件放入清洁腔室；在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁；在清洁完成后，将所述密封件从所述清洁腔室转移到镀膜腔室；在镀膜腔室处于真空环境下，利用化学气相沉积工艺对所述密封件的镀膜部位表面进行镀膜。2.根据权利要求1所述的密封件镀膜方法，其特征在于，所述对基于成型工艺生产的密封件进行上料，包括：将基于硫化成型工艺生产的密封件制作成由多个密封件排列而成的密封件集成板；在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件进行固定和遮挡非镀膜部位；将固定有密封件集成板的多个置板以层叠方式固定到支撑架上。3.根据权利要求2所述的密封件镀膜方法，其特征在于，所述密封件为胶塞；所述密封件集成板为由多个胶塞排列而成且塞冠相邻的胶塞集成板；所述在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件的非镀膜部位进行遮挡和对密封件集成板进行固定，包括：将两个胶塞集成板对应塞冠一侧叠放在一起；分别在两个胶塞集成板的各个胶塞的塞颈一侧套入开设有胶塞通孔阵列的置板；其中，每个胶塞分别对应置板上的一个胶塞通孔，胶塞通孔大于塞颈，使得置板遮挡胶塞的塞冠和塞边，露出塞颈和塞沿；利用螺栓螺母将两个置板固定为一体。4.根据权利要求2所述的密封件镀膜方法，其特征在于，所述密封件为橡胶垫片；所述密封件集成板为由多个橡胶垫片排列而成的垫片集成板；所述在所述密封件集成板上设置预制的置板以对密封件进行固定和遮挡非镀膜部位，包括：将两个垫片集成板对应不需要镀膜的一侧叠放在一起；分别在垫片集成板需要镀膜的两侧放置开设有垫片通孔阵列的置板；其中，每个橡胶垫片对应置板上的一个垫片通孔，垫片通孔的镂空区域对应为橡胶垫片需要镀膜区域；利用螺栓螺母将两个置板固定为一体。5.根据权利要求1所述的密封件镀膜方法，其特征在于，所述利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁，包括：向清洁腔室通入清洁气体并开启等离子体离子源产生等离子体；利用所述等离子体轰击所述密封件的镀膜部位；调节清洁气体的气压和施加偏压，清除...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱昆，颜学庆，曹健辉，刘玮，马伟，杨锐，曹祯烨，陈惠君，杜翰翔，李冬娜，刘晓兰，
申请(专利权)人：广东省新兴激光等离子体技术研究院，
类型：发明
国别省市：