掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件及制造方法技术

本发明专利技术涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件、及它们的制造方法。公开的实施例涉及的掩膜支撑片，作为在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片，所述掩膜支撑片是一体型的金属片，所述掩膜支撑片包括：多个显示开口部，与每单位显示装置的显示区域对应；以及多个突出端，从边缘向外轮廓方向突出，所述掩膜支撑片被构成为支撑精细金属掩膜条，该精细金属掩膜(Fine Meta l Mask)条包括与所述显示区域内的细节图案对应的多个细微开口部，所述显示开口部分别包括盆地型凹口，该盆地型凹口呈与精细金属掩膜条相邻一侧凹陷的形态。形态。形态。

【技术实现步骤摘要】
掩膜支撑片、掩膜支撑片组件及精细金属掩膜组件及制造方法


[0001]本专利技术涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片、包括所述掩膜支撑片的掩膜支撑片组件、以及包括所述掩膜支撑片组件的精细金属掩膜组件。
[0002]本专利技术涉及在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用精细金属掩膜组件制造方法。

技术介绍

[0003]近年来广泛制造的有机发光显示装置(OLED；Organic Light
‑
Emitting Diodes)作为电视、PC、平板PC、智能手机、智能手表、车辆仪表盘等中所具备的显示器装置正被广泛利用。OLED是发出光的层由有机化合物构成的薄膜发光二极管。在制造OLED时，需要层叠电极层、有机发光层、绝缘膜等多个薄膜层并进行图案化的薄膜工艺。薄膜工艺利用具备了对应的图案的掩膜组件，例如包括化学气相沉积(CVD，chemical vapor deposition)、溅射(sputtering)、离子电镀(ion plating)、真空蒸镀(evaporation)等工艺。
[0004]例如，图1是示出有机发光显示装置的显示面板上的薄膜层的图。具体地，图1是扩大了OLED的显示面板的一部分而示出在相应部分上所层叠的薄膜的图。参照图1，在OLED的显示面板中形成有第二通道(2
nd PASS)、有机层(Organic)、第一通道(1
st PASS)、封盖层(Capping)、阴极(Catho de)、EIL(电子注入层)、ETL(电子传输层)、EML(发光层)、R'、G'、HIL(空穴注入层)/HTL(空穴传输层)、阳极(Anode)等薄膜层。
[0005]在用于形成这种薄膜层的薄膜工艺中所利用的掩膜组件具备如下结构：在较坚固的结构的掩膜框架上接合较薄的掩膜片、支撑带(strip)和/或条(stick)等。掩膜框架是具有5～80mm厚度的窗框架或者门框架形状的框架结构，作用在于稳定地保持掩膜组件的模样。掩膜片或者掩膜带是在具有0.01～5.00mm厚度的薄膜金属片或者带上形成了在蒸镀时所要利用的特定图案的方式制成。
[0006]掩膜组件的类型包括开口金属掩膜(OMM；Open Metal Mask)组件、精细金属掩膜(FMM；Fine Metal Mask)组件等。
[0007]OMM组件是用于在每单位显示装置的整体显示面积上层叠相同材质的薄膜而使用的掩膜组件。OMM组件具备在掩膜框架上接合了开口掩膜片的结构。开口掩膜片包括与基板上的显示器的形状和数目分别对应的形状和数目的单位开口部。例如，参照图1，封盖层(Capping)、阴极(Cathode)、EIL、ETL、HIL/HTL等遍及整体显示面板而形成的薄膜层，通过使用OMM组件的薄膜工艺而形成。
[0008]FMM组件是包含细微图案的掩膜，该细微图案用于在与每单位显示装置的显示面积内的细节区域层叠对应的薄膜层。FMM组件具备在掩膜框架上接合了较薄的一个以上的精细金属掩膜(FMM)条的结构。FMM条是在薄膜的金属带或者金属条上形成了在蒸镀时要利用的细微图案的方式制成。FMM条的细微图案包括与基板上的每单位显示装置的显示器内要形成的细密的图案的形状和数目对应的单位图案。例如，参照图1，诸如EML、R'、G'等彩色像素的薄膜层通过使用FMM组件的薄膜工艺而形成。例如，EML相当于红色、绿色、蓝色的层，
R'相当于红色的另一层，G'相当于绿色的另一层。上述薄膜层的结构仅是一个示例，薄膜层可以包含其他结构。
[0009]通常，使用掩膜组件的薄膜工艺在高温度下实施。根据近年的OLED制造工艺，通常针对一个掩膜组件，连续而反复地进行数十个至数百个以上的基板的薄膜工艺。根据如此进行薄膜工艺，掩膜组件持续暴露在高温度下，由此因热逐渐导致掩膜组件的图案发生变形。这是给整体工艺的成品率带来不利影响的阴影(Shadow)现象的主要原因之一。此外，在OLED制造工艺中，会使用与制造OLED所用基板分别对应的数十个各种掩膜组件，因此各掩膜组件的热变形所致的阴影现象将叠加数十次，从而会进一步降低成品率。
[0010]近年来，便携式设备对于显示器装置的要求从以往的SD(标准清晰度(Standard Definition))、HD(高清晰度(High Definition))，上升到诸如FHD(全高清(Full HD))以及UHD(超高清(Ultra HD))等高质量的分辨率。因此，对比以往更高精密度的掩膜组件的需求也在逐步增加，从而迫切需要减少掩膜组件的热变形而提高掩膜组件的精密度。尤其是，对FMM组件要求非常高水准的精密度。
[0011]图2a以及图2b是根据现有技术的FMM组件的层叠图以及俯视图。
[0012]参照图2a以及图2b，FMM组件是在掩膜框架200上将对齐条10、长边条20、缝隙条30等支撑用条与一个以上的FMM条300一起接合的方式形成。对齐条10、长边条20、缝隙条30等支撑用条被拉伸而结合于掩膜框架200上，起到支撑结合与其上的FMM条300的功能。
[0013]但是，这种将对齐条10、长边条20、缝隙条30等各自与掩膜框架200结合的结构，存在制造工艺变得复杂、拉伸它们的过程变得复杂的问题。此外，技术上较难实现对所有支撑用条施加均匀的拉伸力。
[0014]图2c是示出沿图2b的A
‑
A'线切割的面的剖视图。
[0015]参照图2c，在FMM组件的结构上，支撑用条(在图2c中是缝隙条30)与FMM条直接接触。在OLED薄膜工艺中，一个FMM组件会连续反复地进行无数个基板的薄膜工艺，在这过程中，异物D通常会存在于支撑用条和FMM条之间。在这种情况下，在FMM组件和基板的反复的装卸过程中，可能会导致较薄的FMM条发生损坏。FMM条是昂贵的产品，如果发生这种损坏，制造成本的损失将非常大。

技术实现思路

[0016]本专利技术的实施例解决了前述现有技术的问题点。
[0017]本专利技术的一实施方式提供在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片的实施例。代表性实施例涉及的掩膜支撑片是一体型的金属片，所述掩膜支撑片包括：多个显示开口部，与每单位显示装置的显示区域对应；以及多个突出端，从边缘向外轮廓方向突出，所述掩膜支撑片被构成为支撑精细金属掩膜(Fine Metal Mask)条，该精细金属掩膜条包括与所述显示区域内的细节图案对应的多个细微开口部，所述显示开口部分别包括盆地型凹口，该盆地型凹口呈与精细金属掩膜条相邻一侧凹陷的形态。
[0018]在一实施例中，在掩膜支撑片的剖视图上，所述盆地型凹口呈与所述精细金属掩膜条相邻一侧较宽而相反侧较窄的形状。
[0019]在一实施例中，所述盆地型凹口的深度是所述金属片厚度的5％以上且70％以下。
[0020]在一实施例中，在掩膜支撑片的剖视图上，上下被贯穿的区域之外的所述盆地型
凹口的一侧的宽度是30μm以上且5mm以下。
[0021]在一实施例中，在掩膜支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜支撑片，作为在显示装置制造中所使用的薄膜工艺用掩膜支撑片，其特征在于，所述掩膜支撑片是一体型的金属片，所述掩膜支撑片包括：多个显示开口部，与每单位显示装置的显示区域对应；以及多个突出端，从边缘向外轮廓方向突出，所述掩膜支撑片被构成为支撑精细金属掩膜条，所述精细金属掩膜条包括与所述显示区域内的细节图案对应的多个细微开口部，所述显示开口部分别包括盆地型凹口，所述盆地型凹口呈与精细金属掩膜条相邻一侧凹陷的形态。2.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，在掩膜支撑片的剖视图上，所述盆地型凹口呈与所述精细金属掩膜条相邻一侧较宽而相反侧较窄的形状。3.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，所述盆地型凹口的深度是所述金属片厚度的5％以上且70％以下。4.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，在掩膜支撑片的剖视图上，上下被贯穿的区域之外的所述盆地型凹口的一侧的宽度是30μm以上且5mm以下。5.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，在掩膜支撑片的剖视图上，所述盆地型凹口的最上端宽度比所述精细金属掩膜条的宽度更宽。6.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，在所述金属片中，位于相邻显示开口部之间的区域包括：第1区域，被形成为厚度比所述金属片的其他部分更薄；以及第2区域，在所述第1区域内以岛形态形成，并且被形成为厚度比所述第1区域更厚。7.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，所述掩膜支撑片被用于有机发光显示装置的制造中。8.根据权利要求7所述的掩膜支撑片，其特征在于，所述细节图案是所述显示区域内的发光层、R'或者G'图案。9.根据权利要求1所述的掩膜支撑片，其特征在于，掩膜支撑片上定义有多条虚拟的线，所述多条虚拟的线沿着未形成有所述显示开口部的区域向相互交叉的两个方向延伸，所述突出端从所述虚拟的线两端突出，掩膜支撑片还包括防护带，所述防护带连接于所述突出端的端部，并且呈围绕掩膜支撑片的形态。10.根据权利要求9所述的掩膜支撑片，其特征在于，在所述突出端和所述防护带被连接的部分，形成有厚度比所述金属片的其他部分更薄的切割线。11.一种掩膜支撑片组件，作为在显示装置制造中使用的薄膜工艺用掩膜支撑片组件，其特征在于，包括：
掩膜框架；以及权利要求1至权利要求8中任一项所述的掩膜支撑片，接合于所述掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：庾弘宇，
申请(专利权)人：皮姆思株式会社，
类型：发明
国别省市：