掩膜装置制造方法及图纸

技术编号:33323395 阅读:20 留言:0更新日期:2022-05-06 12:51
本实用新型专利技术公开一种掩膜装置,包括掩膜框架以及分设于其前后两端的前遮挡组件和后遮挡组件,掩膜框架用于放置待蒸镀的玻璃基板,前遮挡组件和后遮挡组件沿竖直方向交错且间隔设置,前遮挡组件和后遮挡组件均包括遮挡板和缓冲件,遮挡板连接于掩膜框架,缓冲件设置于遮挡板上,用于缓冲相邻两个掩膜装置碰撞时的冲击力。在传送带上可使相邻两个掩膜框架之间的前遮挡组件和后遮挡组件在竖直方向上交错且间隔设置,在保证两个掩膜装置之间具有安全距离的同时,又能遮挡蒸镀源散发的有机物蒸汽,避免有机物蒸汽散发至掩膜装置的上方造成污染,另外,即使相邻两掩膜装置发生了碰撞,二者上的缓冲件可以缓冲碰撞冲击力,避免玻璃基板移位。板移位。板移位。

【技术实现步骤摘要】
掩膜装置


[0001]本技术涉及显示屏加工
,尤其涉及一种掩膜装置。

技术介绍

[0002]在显示面板的蒸镀工艺中,需要在玻璃基板上的待蒸镀区域蒸镀一层有机材料,而在非蒸镀区域不能沾染有机材料。因此,在蒸镀设备的内部,通常将玻璃基板放置于掩膜装置上,掩膜装置上通过掩膜条划分出蒸镀区域和遮蔽区域,掩膜装置上的蒸镀区域与玻璃基板上指定的待蒸镀区域对正,掩膜装置上的遮蔽区域与玻璃基板上的非蒸镀区域对正。
[0003]如图1所示,蒸镀设备内设置有传送带300

,箭头方向即为传送带300

的传送方向。多个掩膜装置100

沿传送带300

的传送方向间隔放置于传送带300

上,每个掩膜装置100

上均放置有一块玻璃基板200

,传送带300

带动其上的掩膜装置100

移动,掩膜装置100

移动时经过下方的蒸镀源400

,蒸镀源400

散发出有机物蒸汽,有机物蒸汽进而附着于玻璃基板200

上的待蒸镀区域上。
[0004]现有技术存在以下缺陷:如图1所示,相邻两个掩膜装置100

之间存在间隔,其目的是为了防止相邻两个掩膜装置100

发生碰撞,然而,传送带300

传送过程中,当间隔位置与下方的蒸镀源400

正对时,蒸镀源400

散发出的有机物蒸汽能够通过该间隔流动至掩膜装置100

上方,并附着于蒸镀设备的顶壁以及其他部件上,造成污染。而且,现有技术中,掩膜装置100

之间一旦发生碰撞,很可能造成上方玻璃基板200

的移位,进而导致其上的待蒸镀区域被掩膜条遮盖,无法在玻璃基板200

的预设位置形成蒸镀层,致使玻璃基板200

报废,降低了良品率。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于:提供一种掩膜装置,其能够避免蒸镀源散发的有机物蒸汽污染蒸镀设备的顶壁以及其他部件,且能防止碰撞造成玻璃基板移位。
[0006]为达此目的,本技术采用以下技术方案:
[0007]提供一种掩膜装置,包括:
[0008]掩膜框架,用于放置待蒸镀的玻璃基板;
[0009]前遮挡组件,沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的前端面;
[0010]后遮挡组件,沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的后端面;
[0011]所述前遮挡组件和所述后遮挡组件沿竖直方向间隔设置,且所述前遮挡组件和所述后遮挡组件上下交错,所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均包括遮挡板和缓冲件,所述遮挡板连接于所述掩膜框架,所述缓冲件设置于所述遮挡板上,用于缓冲相邻两个掩膜装置碰撞时的冲击力。
[0012]作为掩膜装置的一种优选方案,所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均沿竖直方向间隔设置有多个,多个所述前遮挡组件和多个所述后遮挡组件沿竖直方向交替且间隔设
置。
[0013]作为掩膜装置的一种优选方案,所述缓冲件包括套筒和缓冲杆,所述套筒设置于所述遮挡板远离所述掩膜框架的一端,所述缓冲杆水平设置,并可伸缩地穿设于所述套筒内。
[0014]作为掩膜装置的一种优选方案,所述缓冲杆伸出所述套筒的一端设置有弹性触头。
[0015]作为掩膜装置的一种优选方案,所述遮挡板包括第一板和第二板,所述第一板连接于所述掩膜框架,所述第一板上设置有容纳腔,所述容纳腔的腔口位于所述第一板背向所述掩膜框架的一端面,所述第二板的一端伸入所述容纳腔中,并在所述容纳腔内的位置可调,所述缓冲件设置于所述第二板伸出所述容纳腔的一端。
[0016]作为掩膜装置的一种优选方案,还包括紧固件,所述紧固件穿过所述第一板的侧壁,并伸入所述容纳腔中,以顶紧于所述第二板上。
[0017]作为掩膜装置的一种优选方案,所述紧固件为螺栓,所述第一板的底面设置有螺纹孔,所述螺栓旋入所述螺纹孔中。
[0018]作为掩膜装置的一种优选方案,所述遮挡板包括第三板和第四板,所述第三板连接于所述掩膜框架,所述第三板上开设有导向槽,所述导向槽的槽口位于所述第三板背向所述掩膜框架的一端面,所述第四板的一端可滑动地设置于所述导向槽中,并通过所述缓冲件与所述导向槽的底壁连接。
[0019]作为掩膜装置的一种优选方案,所述缓冲件为弹簧。
[0020]作为掩膜装置的一种优选方案,所述第四板伸出所述导向槽的一端设置有弹性垫层。
[0021]本技术的有益效果为:通过在掩膜框架的前端设置前遮挡组件,后端设置后遮挡组件,在蒸镀设备的传送带上可使相邻两个掩膜框架之间的前遮挡组件和后遮挡组件在竖直方向上交错且间隔设置,在保证两个掩膜装置之间具有安全距离的同时,又能够遮挡蒸镀源散发的有机物蒸汽,避免有机物蒸汽散发至掩膜装置的上方造成污染,另外,即使相邻两个掩膜装置之间发生了碰撞,二者上设置的缓冲件可以缓冲碰撞时的冲击力,避免掩膜装置上的玻璃基板移位。
附图说明
[0022]下面根据附图和实施例对本技术作进一步详细说明。
[0023]图1为现有技术中掩膜装置的工作示意图。
[0024]图2为本技术实施例一提供的掩膜装置的工作示意图。
[0025]图3为本技术实施例一提供的掩膜装置的结构示意图。
[0026]图4为图3中A处的局部放大图。
[0027]图5为本技术实施例一提供的遮挡板和缓冲件的结构示意图。
[0028]图6为本技术提供的多个前遮挡组件和多个后遮挡组件的配合示意图。
[0029]图7为本技术实施例二提供的掩膜装置的结构示意图。
[0030]图8为本技术实施例二提供的遮挡板和缓冲件的结构示意图。
[0031]图1中:
[0032]100

、掩膜装置;200

、玻璃基板;300

、传送带;400

、蒸镀源。
[0033]图2至图8中:
[0034]100、掩膜装置;1、掩膜框架;2、前遮挡组件;21、遮挡板;211、第一板;2111、容纳腔;212、第二板;213、第三板;2131、导向槽;214、第四板;2141、弹性垫层;22、缓冲件;221、套筒;222、缓冲杆;223、弹性触头;3、后遮挡组件;4、紧固件;
[0035]200、玻璃基板;
[0036]300、传送带;
[0037]400、蒸镀源。
具体实施方式
[0038]参考下面结合附图详细描述的实施例,本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜装置,其特征在于,包括:掩膜框架,用于放置待蒸镀的玻璃基板;前遮挡组件,沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的前端面;后遮挡组件,沿所述掩膜框架的移动方向设置于所述掩膜框架的后端面;所述前遮挡组件和所述后遮挡组件沿竖直方向间隔设置,且所述前遮挡组件和所述后遮挡组件上下交错,所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均包括遮挡板和缓冲件,所述遮挡板连接于所述掩膜框架,所述缓冲件设置于所述遮挡板上,用于缓冲相邻两个掩膜装置碰撞时的冲击力。2.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,所述前遮挡组件和所述后遮挡组件均沿竖直方向间隔设置有多个,多个所述前遮挡组件和多个所述后遮挡组件沿竖直方向交替且间隔设置。3.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,所述缓冲件包括套筒和缓冲杆,所述套筒设置于所述遮挡板远离所述掩膜框架的一端,所述缓冲杆水平设置,并可伸缩地穿设于所述套筒内。4.根据权利要求3所述的掩膜装置,其特征在于,所述缓冲杆伸出所述套筒的一端设置有弹性触头。5.根据权利要求1所述的掩膜装置,其特征在于,所述遮挡板包括第...

【专利技术属性】
技术研发人员:舒渝
申请(专利权)人:乐金显示光电科技中国有限公司
类型:新型
国别省市:

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