提供了一种显示装置、掩模组件以及用于制造显示装置的设备和方法。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
【技术实现步骤摘要】
掩模组件、用其制造显示装置的设备和方法以及显示装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2016年8月8日向韩国知识产权局提交的申请号为10
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2016
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0100880的韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用以其整体并入本文。
[0003]一个或者多个实施方式大致涉及显示装置，以及更具体地，涉及掩模组件、使用掩模组件制造显示装置的方法和设备、以及显示装置。
技术介绍
[0004]移动电子装置目前被广泛地使用。这种移动电子装置的示例是平板个人计算机(PC)，以及诸如移动电话的小型电子装置。
[0005]为了支持各种功能，移动电子装置包括显示装置以向用户提供诸如图像的可视信息。随着组成显示装置的部件已经变得小型化，电子装置内的显示装置的重要性已经逐渐增加，从而导致用于可从平坦状态弯曲成具有预定角度的显示器的结构的发展。
技术实现思路
[0006]在使用相关技术的掩模组件的情况下，显示区域仅可被制造成具有矩形或者正方形的形状，以及因此将显示区域应用于多种产品可能具有困难。
[0007]一个或多个实施方式包括可用于制造多种形状的显示装置的掩模组件、用于制造显示装置的方法和设备以及显示装置。
[0008]将在以下描述中部分地阐述附加方面，以及附加方面将部分地通过该描述而显而易见，或者可通过对所提出的实施方式的实践而习得。
[0009]根据一个或多个实施方式，掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
[0010]屏蔽部可包括第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区。
[0011]屏蔽部可包括第二屏蔽部，第二屏蔽部屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分，掩模片包括第二屏蔽部。
[0012]屏蔽部可包括：第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区；以及第二屏蔽部，第二屏蔽部屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分，掩模片包括第二屏蔽部。
[0013]第一屏蔽部可与第二屏蔽部至少部分地重叠。
[0014]第二屏蔽部中的至少一部分可具有薄于掩模片的厚度的厚度。
[0015]屏蔽部可屏蔽位于沉积区的边界处的至少一个开口的至少一部分。
[0016]掩模片可包括第一材料，以及薄屏蔽板可包括与第一材料不同的第二材料。
[0017]根据一个或多个实施方式，用于制造显示装置的设备包括：掩模组件；源单元，源单元面对掩模组件以及配置为供给沉积材料；以及磁场生成单元，磁场生成单元配置为将掩模组件朝向显示衬底引导。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
[0018]屏蔽部可包括第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区。
[0019]屏蔽部可包括第二屏蔽部，第二屏蔽部设置在掩模片中以及屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分。掩模片可包括第二屏蔽部。
[0020]屏蔽部可包括：第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区；以及第二屏蔽部，第二屏蔽部屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分。掩模片可包括第二屏蔽部。
[0021]第一屏蔽部可与第二屏蔽部至少部分地重叠。
[0022]第二屏蔽部中的至少一部分可具有薄于掩模片的厚度的厚度。
[0023]掩模片可包括第一材料，以及薄屏蔽板可包括与第一材料不同的第二材料。
[0024]根据一个或多个实施方式，制造显示装置的方法包括：将掩模组件布置成使得掩模组件面对显示衬底；通过使用磁场生成单元将力施加至掩模组件以及将掩模组件朝向显示衬底引导；以及从源单元发射沉积材料，以允许沉积材料穿过掩模组件，以及将沉积材料沉积在显示衬底上。掩模组件包括：掩模框架；至少两个掩模片，至少两个掩模片安装在掩模框架上，至少两个掩模片中的每个包括多个开口；以及至少两个薄屏蔽板，至少两个薄屏蔽板安装在掩模框架上，使得至少两个薄屏蔽板彼此间隔开以及屏蔽至少两个掩模片中的每个的多个开口的一部分，其中，至少两个掩模片和至少两个薄屏蔽板中的一个包括位于彼此间隔开的至少两个薄屏蔽板之间的屏蔽部，屏蔽部选择性地阻挡多个开口中的至少部分，从而形成具有除矩形或者正方形之外的形状的沉积区。
[0025]屏蔽部可包括第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区。
[0026]屏蔽部可包括第二屏蔽部，第二屏蔽部设置在掩模片中以及屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分。掩模片可包括第二屏蔽部。
[0027]屏蔽部可包括：第一屏蔽部，第一屏蔽部包括薄屏蔽板的一部分以及突出至沉积区；以及第二屏蔽部，第二屏蔽部设置在掩模片中以及屏蔽多个开口中的位于沉积区中的一部分。掩模片可包括第二屏蔽部。
[0028]第一屏蔽部可与第二屏蔽部至少部分地重叠。
[0029]第二屏蔽部中的至少一部分可具有薄于掩模片的厚度的厚度。
[0030]沉积沉积材料还可包括在真空中将沉积材料沉积在显示衬底上。
[0031]屏蔽部可屏蔽位于沉积区的边界处的至少一个开口的至少一部分。
[0032]沉积沉积材料还可包括将沉积材料沉积在显示衬底的非发射区上。
[0033]掩模片可包括与薄屏蔽板的材料不同的材料。
[0034]根据一个或多个实施方式，制造显示装置的方法包括：将掩模组件布置成使得掩模组件面对显示衬底；通过使用磁场生成单元将力施加至掩模组件以及将掩模组件朝向显示衬底引导；以及通过从源单元发射沉积材料在显示衬底的像素限定层上方形成虚设中间层，允许沉积材料穿过掩模组件，在显示衬底上方形成多个中间层，以及形成显示区域，其中，显示区域包括除矩形或者正方形之外的形状。
[0035]中间层可具有与虚设中间层的面积不同的面积。
[0036]虚设中间层可具有小于中间层的面积的面积。
[0037]中间层和虚设中间层可包括相同的材料。
[0038]虚设中间层可布置在非发射区中。
[0039]根据一个或多个实施方式，显示装置包括：显示衬底；像素限定层，像素限定层本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.制造显示装置的方法，所述方法包括：将掩模组件布置成使得所述掩模组件面对显示衬底；通过使用磁场生成单元将力施加至所述掩模组件以及将所述掩模组件朝向所述显示衬底引导；以及当从源单元发射沉积材料时在所述显示衬底的像素限定层上方形成虚设中间层，允许所述沉积材料穿过所述掩模组件，在所述显示衬底上方形成多个中间层，以及形成显示区域，其中，所述显示区域在平面视图中包括除矩形或者正方形之外的形状，其中，所述多个中间层位于所述显示区域上，所述虚设中间层位于所述显示区域周围的非显示区域上。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述中间层具有与所述虚设中间层的面积不同的面积。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述虚设中间层具有小于所述中间层的面积的面积。4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述中间层和所述虚设中间层包括相同的材料。5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述虚设中间层布置在非发射区中。6.显示装置，包括：显示衬底，所述显示衬底具有显示区域和非显示区域；像素限...
【专利技术属性】
技术研发人员：洪宰敏，权韩郁，金柾勳，俞慈京，李守珍，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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