一种掩膜版、制作方法及制作夹具技术

技术编号:33295077 阅读:19 留言:0更新日期:2022-05-01 00:22
本发明专利技术公开了一种掩膜版、制作方法及制作夹具,涉及显示设备技术领域;技术方案:掩膜版本体工作面上拱,能够提高掩膜版本体的结构强度,减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量,或避免掩膜版本体下垂,以通过掩膜版本体支撑金属精细掩膜版,减小金属精细掩膜版的下垂量或避免金属精细掩膜版,从而降低显示屏混色比例和混色风险,提高显示屏的成品率。掩膜版制作方法,在掩膜版本体的工作面涂覆张应力涂层或在掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层,均可获得前述的掩膜版本体。掩膜版制作夹具,包括掩膜版边框装载框和支撑板,支撑板位于装载框上端且各侧与装载框对应的侧壁连接,可通过支撑板可对掩膜版提供支撑。可通过支撑板可对掩膜版提供支撑。可通过支撑板可对掩膜版提供支撑。

【技术实现步骤摘要】
一种掩膜版、制作方法及制作夹具


[0001]本专利技术涉及显示设备
,具体涉及一种掩膜版、制作方法及制作夹具。

技术介绍

[0002]金属精细掩膜版在使用过程中,由于重力和受热膨胀的原因,存在一定的下垂量(根据掩膜版的尺寸不同下垂量不同,如500μm),因此,采用支撑掩膜版做支撑,改善掩膜版下垂量,进而将精细金属掩膜版的下垂量控制在200μm以下,而掩膜版的下垂量越大,造成的混色的比例和风险越高,尤其对高分辨率的产品影响尤为严重;此外,在真空腔室蒸镀时,掩膜版与玻璃产生静电,可能击穿蒸镀的有机材料和背板电路。

技术实现思路

[0003]针对现有的金属精细掩膜版和公共层掩膜版在工作时,存在较大的下垂量,导致显示屏次品率高的技术问题及蒸镀静电问题;本专利技术提供了一种掩膜版、制作方法及制作夹具,能够减小金属精细掩膜版工作时的下垂量和防止静电击穿,以降低显示屏混色比例和混色风险和静电击穿风险,提高显示屏的成品率。
[0004]本专利技术通过以下技术方案实现:
[0005]第一方面,本专利技术提供了一种掩膜版,包括掩膜版本体,所述掩膜版本体的工作面上拱。
[0006]在一可选的实施例中,所述掩膜版本体的工作面覆有张应力涂层。
[0007]在一可选的实施例中,所述张应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。
[0008]在一可选的实施例中,所述张应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。
[0009]在一可选的实施例中,所述掩膜版本体的结构面覆有压应力涂层。/>[0010]在一可选的实施例中,所述压应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。
[0011]在一可选的实施例中,所述压应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。
[0012]第二方面,本专利技术提供了一种掩膜版制作方法,包括以下步骤:
[0013]S1、获得掩膜版本体;
[0014]S2、在所述掩膜版本体(工作面涂覆张应力涂层或在所述掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层。
[0015]具体的,步骤S2包括子步骤:
[0016]S21、清洗掩膜版本体;
[0017]S22、将清洗后的掩膜版本体移入涂层设备,并对喷涂腔抽真空、对掩膜版本体加热;
[0018]S23、清洁掩膜版本体待涂层面;
[0019]S24、对掩膜版本体清洁后的表面涂层;
[0020]S25、掩膜版本体降至室温后,给喷涂腔充入保护气。
[0021]第三方面,本专利技术提供了一种掩膜版制作夹具,用于制作前述的掩膜版,包括用于
装载掩膜版边框的装载框,所述装载框上端设有支撑板,所述支撑板用于支撑掩膜版本体,所述支撑板各侧与所述装载框对应的侧壁连接,且所述支撑板到所述装载框间的投影距离可调。
[0022]本专利技术具有的有益效果:
[0023]1、本专利技术提供的掩膜版,掩膜版本体工作面上拱,能够提高掩膜版本体的结构强度,可减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量,或避免掩膜版本体下垂,以通过掩膜版本体支撑金属精细掩膜版,减小金属精细掩膜版的下垂量,从而降低显示屏混色比例和混色风险,提高显示屏的成品率。
[0024]2、本专利技术提供的掩膜版,掩膜版工作面涂层,能够减小显示屏蒸镀时有机材料和背板电路被静电击穿的风险,提高显示屏生产良率。
[0025]3、本专利技术提供的掩膜版制作方法,在掩膜版本体的工作面涂覆张应力涂层或在掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层,均可获得工作面上拱的掩膜版本体,从而提高支撑板本体的结构强度,减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量,或抵消掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量。
[0026]4、本专利技术提供的掩膜版制作夹具,包括掩膜版边框装载框和支撑板,支撑板位于装载框上端且各侧与装载框对应的侧壁连接,将掩膜版放入掩膜版边框内时,支撑板可对掩膜版提供支撑。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0028]图1为本专利技术实施例掩膜版结构示意图;
[0029]图2为本专利技术实施例掩膜版制作夹具结构示意图;
[0030]图3为本专利技术实施例高度调节机构结构示意图。
[0031]附图标记:
[0032]1‑
掩膜版本体,2

装载框,3

掩膜版边框,31

连接件,4

高度调节机构,41

竖杆,42

调节垫块,43

固定螺母,5

支撑板。
具体实施方式
[0033]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0034]因此,以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围,而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
[0035]应注意到:相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项,因此,一旦某一项在一个附图中被定义,则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0036]在本申请实施例的描述中,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,或者是该申请产品使用时惯常摆放的方位或位置关系,或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
[0037]在本专利技术的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0038]需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
[0039]实施例1
[0040]结合附图1,本实施例提供了一种掩膜版,包括掩膜版本体1,掩膜版本体1的工作面上拱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版,其特征在于,包括掩膜版本体(1),所述掩膜版本体(1)的工作面上拱。2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版本体(1)的工作面覆有张应力涂层。3.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述张应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。4.根据权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述张应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。5.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜版本体(1)的结构面覆有压应力涂层。6.根据权利要求5所述的掩膜版,其特征在于,所述压应力涂层中部的厚度大于两端的厚度。7.根据权利要求5所述的掩膜版,其特征在于,所述压应力涂层为氧化铝涂层和类金刚石涂层中的一种。8.一种掩膜版制作方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、获得掩膜版本体(1);S2、在所述掩膜版本体(1)工作面涂覆张应力...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘鑫郑庆靓李博吴义超赵阳周俊吉
申请(专利权)人:成都拓维高科光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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